荷蘭造價上億的龐大機器到位并組裝好后，并不意味著EUV光刻機的生產(chǎn)工作完全準備就緒。隨著先進工藝晶圓制造中圖案化策略和分辨率重視程度的攀升，為了滿足這些需求，與EUV光刻技術(shù)相關(guān)的材料同樣需要納入考量，尤其是光刻膠和防護膜。 ? EUV光
2022-07-22 07:49:00
2403 ，增幅11.11%。 ? 截圖自企查查 ? 光刻膠是芯片制造中光刻環(huán)節(jié)的重要材料，目前主要被日美把控，國內(nèi)在光刻膠方面投入研制的廠商主要晶瑞股份、南大光電、上海新陽、徐州博康、北京科華等，那么華為投資的徐州博康在光刻膠方面有何優(yōu)勢，國內(nèi)廠商在光
2021-08-12 07:49:005380 電子發(fā)燒友原創(chuàng) 章鷹 ? 近日，全球半導(dǎo)體市場規(guī)模增長帶動了上游半導(dǎo)體材料旺盛需求，“光刻膠”的突破也成為國內(nèi)關(guān)注焦點。正當(dāng)日本光刻膠企業(yè)JSR、東京應(yīng)化和美國Lam Research在EUV光刻
2022-08-31 07:45:002718 電子發(fā)燒友網(wǎng)報道（文/周凱揚）在上游的半導(dǎo)體制造產(chǎn)業(yè)中，除了光刻機等設(shè)備外，光刻膠、掩膜版等材料也是決定晶圓質(zhì)量與良率的關(guān)鍵因素。就拿掩膜版來說，這個承載設(shè)計圖形的材料，經(jīng)過曝光后將圖形信息轉(zhuǎn)移到
2023-06-22 01:27:001985 翁壽松(無錫市羅特電子有限公司，江蘇無錫214001)1 32 nm/22 nm工藝進展2006年1月英特爾推出全球首款45 nm全功能153 Mb SRAM芯片。英特爾將投資90億美元在以下4座
2019-07-01 07:22:23
有人知道 為什么光刻完事 剝離那么容易脫落呢 怎么避免呢
2012-06-26 12:40:30
本帖最后由 iweimo 于 2014-10-20 15:07 編輯
先分享光刻的參考資料。============================2014-10-17========光刻分類
2014-09-26 10:35:02
一、光刻膠的選擇光刻膠包括兩種基本的類型：正性光刻和負性光刻，區(qū)別如下
2021-01-12 10:17:47
隨著半導(dǎo)體技術(shù)的發(fā)展，光刻技術(shù)傳遞圖形的尺寸限度縮小了2～3個數(shù)量級（從毫米級到亞微米級），已從常規(guī)光學(xué)技術(shù)發(fā)展到應(yīng)用電子束、 X射線、微離子束、激光等新技術(shù)；使用波長已從4000埃擴展到 0.1埃
2012-01-12 10:51:59
是0.33，大家可能還記得之前有過一個新聞，就是ASML投入20億美元入股卡爾·蔡司公司，雙方將合作研發(fā)新的EUV光刻機，許多人不知道EUV光刻機跟蔡司有什么關(guān)系，現(xiàn)在應(yīng)該明白了，ASML跟蔡司合作
2020-07-07 14:22:55
芯片制造流程其實是多道工序?qū)⒏鞣N特性的材料打磨成形，經(jīng)循環(huán)往復(fù)百次后，在晶圓上“刻”出各種電子特性的區(qū)域，最后形成數(shù)十億個晶體管并被組合成電子元件。那光刻，整個流程中的一個重要步驟，其實并沒有
2020-09-02 17:38:07
SU-8光刻膠 SU-8光刻膠克服了普通光刻膠采用UV光刻深寬比不足的問題，在近紫外光（365nm-400nm）范圍內(nèi)光吸收度很低，且整個光刻膠層所獲得的曝光量均勻一致，可得到具有垂直側(cè)壁和高深寬比
2018-07-12 11:57:08
的耐蝕刻薄膜材料，經(jīng)曝光和顯影而使溶解度增加的是正性光刻膠，反之為負性光刻膠。光刻膠的分類及其特點見表1。 隨著IC特征尺寸亞微米、深亞微米方向快速發(fā)展，現(xiàn)有的光刻機和光刻膠已無法適應(yīng)新的光刻工藝要求
2018-08-23 11:56:31
光刻膠也稱為光致抗蝕劑，是一種光敏材料，它受到光照后特性會發(fā)生改變。光刻膠主要用來將光刻掩膜版上的圖形轉(zhuǎn)移到晶圓片上。光刻膠有正膠和負膠之分。正膠經(jīng)過曝光后，受到光照的部分變得容易溶解，經(jīng)過顯影后被
2019-11-07 09:00:18
這是我的版圖一部分，然后生成了圖案是這樣的： 感覺間距小的地方全都有殘留，間距大的地方?jīng)]有殘留；工藝參數(shù)：s9920光刻膠， evg 620‘未進行蒸汽底漆層涂覆，前烘：100攝氏度，90s
2016-11-29 14:59:18
電介質(zhì)和濾波應(yīng)用的旋涂材料 PC3 系列 產(chǎn)品可用于平坦化，臨時行粘接層和保護涂層。 BDC1/PDC1/ZPDC1 系列 產(chǎn)品可作為高效參雜層，代替昂貴的CVD參雜工序。 RD6系列 光刻膠顯影液，可用
2010-04-21 10:57:46
SU 8光刻膠系列產(chǎn)品簡介：新型的化學(xué)增幅型負像 SU- 8 膠是一種負性、環(huán)氧樹脂型、近紫外線光刻膠，克服了普通光刻膠采用 UV光刻導(dǎo)致的深寬比不足的問題，十分適合于制備高深寬比微結(jié)構(gòu)。SU- 8
2018-07-04 14:42:34
書籍：《炬豐科技-半導(dǎo)體工藝》文章：光刻前 GaAs 表面處理以改善濕化學(xué)蝕刻過程中的光刻膠附著力和改善濕蝕刻輪廓[/td][td]編號：JFSJ-21-0作者：炬豐科技網(wǎng)址：http
2021-07-06 09:39:22
三種常見的光刻技術(shù)方法根據(jù)暴光方法的不同,可以劃分為接觸式光刻,接近式光刻和投影式光刻三種光刻技術(shù)。 ◆投影式暴光是利用透鏡或反射鏡將掩膜版上的圖形投影到襯底上的暴光方法.在這種暴光方法中,由于掩膜
2012-01-12 10:56:23
半導(dǎo)體光刻蝕工藝
2021-02-05 09:41:23
中國科學(xué)院大學(xué)（以下簡稱國科大）微電子學(xué)院是國家首批支持建設(shè)的示范性微電子學(xué)院，國科大微電子學(xué)院開設(shè)的《集成電路先進光刻技術(shù)與版圖設(shè)計優(yōu)化》課程是國內(nèi)少有的研究討論光刻技術(shù)的研究生課程，而開設(shè)課程
2021-10-14 09:58:07
本人是菜鳥 需要在玻璃上光刻普通的差值電極 以前一直在硅片上面光刻 用的光刻膠是AZ5214E 正膠 同樣的工藝和參數(shù)在玻璃上附著力差了很多 懇請哪位高人指點一下PS 插值電極的距離為25微米 小女子這廂謝過了
2010-12-02 20:40:41
是使用化學(xué)或者物理方法有選擇地從硅片表面去除不需要材料的過程。通常的晶圓加工流程中，刻蝕工藝位于光刻工藝之后，有圖形的光刻膠層在刻蝕中不會受到腐蝕源的顯著侵蝕，從而完成圖形轉(zhuǎn)移的工藝步驟?？涛g環(huán)節(jié)是復(fù)制
2020-07-07 11:36:10
更高的亮度。 激光刻劃的優(yōu)勢 - 可以干凈整齊的刻劃硬脆性材料 - 非接觸式工藝低運營成本 - 減少崩邊、微裂紋、分層等缺陷的出現(xiàn) - 刻劃線條窄提高了單片晶圓上的分粒數(shù)量 - 減少微裂紋
2011-12-01 11:48:46
151n光刻膠曝光顯影后開口底部都會有一撮殘留，找不到原因。各位幫分析下
2023-04-20 13:13:52
EUV主要用于7nm及以下制程的芯片制造，光刻機作為集成電路制造中最關(guān)鍵的設(shè)備，對芯片制作工藝有著決定性的影響，被譽為“超精密制造技術(shù)皇冠上的明珠”，根據(jù)之前中芯國際的公報，目...
2021-07-29 09:36:46
GK-1000光刻掩膜版測溫儀，光刻機曝光光學(xué)系統(tǒng)測溫儀光刻機是一種用于微納米加工的設(shè)備，主要用于制造集成電路、光電子器件、MEMS（微機電系統(tǒng)）等微細結(jié)構(gòu)。光刻機是一種光學(xué)投影技術(shù)，通過將光線通過
2023-07-07 11:46:07
據(jù)Pixelligent Technologies LLC表示，該公司開發(fā)出一種據(jù)稱可提高現(xiàn)有光刻設(shè)備分辨率的納米晶（nanocrystalline）材料，使光學(xué)光刻（Optical lithography）可擴展至32納米以下。
2009-06-07 18:31:181475 光刻膠與光刻工藝技術(shù) 微電路的制造需要把在數(shù)量上精確控制的雜質(zhì)引入到硅襯底上的微小 區(qū)域內(nèi),然后把這些區(qū)域連起來以形成器件和VLSI電路.確定這些區(qū)域圖形 的工藝是由光刻來完成的,也就是說,首先在硅片上旋轉(zhuǎn)涂覆光刻膠,再將 其曝露于某種光源下,如紫外光,
2011-03-09 16:43:21
0 經(jīng)過十年的自主創(chuàng)新，上海光刻設(shè)備工程技術(shù)躋身世界一流，成功打破國際壟斷。7日，上海舉辦光刻機十年成果匯報暨上海微電子裝備有限公司十年回顧活動。
2012-04-09 09:02:24735 對先進光刻掩膜光衍射的精密EMF模擬已成為預(yù)知光刻模擬的必做工作。
2012-05-04 16:28:416685 
本文主要介紹集成電路加工-光刻技術(shù)與光刻膠。集成電路加工主要設(shè)備和材料：光刻設(shè)備，半導(dǎo)體材料：單晶硅等，掩膜，化學(xué)品：光刻膠（光致抗蝕劑），超高純試劑，封裝材料及光刻機的介紹
2017-09-29 16:59:0218 光刻機是芯片制造中光刻環(huán)節(jié)的核心設(shè)備， 技術(shù)含量、價值含量極高。 光刻機涉及系統(tǒng)集成、精密光學(xué)、精密運動、精密物料傳輸、高精度微環(huán)境控制等多項先進技術(shù)，是所有半導(dǎo)體制造設(shè)備中技術(shù)含量最高的設(shè)備，因此也具備極高的單臺價值量。
2018-04-10 10:19:4736248 5月21日上午，在上海浦東新區(qū)康橋工業(yè)園南區(qū)，由華虹集團旗下上海華力集成電路制造有限公司建設(shè)和營運的12英寸先進生產(chǎn)線建設(shè)項目（以下簡稱“華虹六廠”）實現(xiàn)首臺工藝設(shè)備——光刻機搬入。
2018-05-22 14:21:2710491 默克與中電彩虹的創(chuàng)新合作項目光刻膠國產(chǎn)化項目于 7 月 17 日在陜西咸陽正式竣工。
2018-07-19 09:09:387064 光刻技術(shù)是包含光刻機、掩模、光刻材料等一系列技術(shù)，涉及光、機、電、物理、化學(xué)、材料等多個研究方向。目前科學(xué)家正在探索更短波長的F2激光（波長為157納米）光刻技術(shù)。由于大量的光吸收，獲得用于光刻系統(tǒng)
2019-01-02 16:32:2323712 光刻機應(yīng)用廣泛，包括IC前道光刻機、用于封裝的后道光刻機以及用于LED領(lǐng)域及面板領(lǐng)域的光刻機等等。封裝光刻機對于光刻的精度要求低于前道光刻要求，面板光刻機與IC前道光刻機工藝相比技術(shù)精度也更低，一般為微米級。
2019-04-28 13:55:52228197 
2018年，南大光電和上海新陽先后宣布，投入ArF光刻膠產(chǎn)品的開發(fā)與產(chǎn)業(yè)化，立志打破集成電路制造最為關(guān)鍵的基礎(chǔ)材料之一——高檔光刻膠材料幾乎完全依賴于進口的局面，填補國內(nèi)高端光刻膠材料產(chǎn)品的空白。
2019-05-21 09:24:247066 
近日，沃衍資本攜手江蘇盛世投資、紫荊資本、深圳市投控通產(chǎn)新材料創(chuàng)業(yè)投資企業(yè)、四川潤資、北京高盟新材料等投資機構(gòu)完成了對國內(nèi)光刻膠領(lǐng)頭企業(yè)—北京科華微電子材料有限公司1.7億元的投資。
2019-06-29 10:37:4628050 7月16日，上海兄弟微泛半導(dǎo)體超高純設(shè)備集成項目正式簽約落戶海寧科技綠洲。
2019-07-17 16:33:343489 7月17日，南大光電在互動平臺透露，公司設(shè)立光刻膠事業(yè)部，并成立了全資子公司“寧波南大光電材料有限公司”，全力推進“ArF光刻膠開發(fā)和產(chǎn)業(yè)化項目”落地實施。目前該項目完成的研發(fā)技術(shù)正在等待驗收中，預(yù)計2019年底建成一條光刻膠生產(chǎn)線，項目產(chǎn)業(yè)化基地建設(shè)順利。
2019-07-18 16:14:594862 光刻膠概念股南大光電10月23日公告，擬投資新建光刻膠材料以及配套原材料項目。
2019-10-24 16:47:213114 11月25日，市場研究公司總裁羅伯特·卡斯特拉諾（Robert Castellano）表示：“過去三年來，應(yīng)用材料一直在晶圓制造前段工序（WFE）的設(shè)備市場上失去市場份額，而 ASML卻將憑借其價格高昂的EUV光刻設(shè)備大批出貨實現(xiàn)超越，取代應(yīng)用材料成為最大的半導(dǎo)體設(shè)備公司。”
2019-11-26 15:06:442093 近日，上海新陽在投資者互動平臺上表示，公司用于KRF248nm光刻膠配套的光刻機已完成廠內(nèi)安裝開始調(diào)試，ARF193nm光刻膠配套的光刻機預(yù)計12月底到貨。
2019-12-04 15:24:457942 光刻機是芯片制造最為重要的設(shè)備之一。目前，ASML壟斷了全世界的高端光刻機。中國一直以來都想掌握光刻機技術(shù)，但是上海微電子經(jīng)過17年的努力，才造出90nm的光刻機，這已經(jīng)十分不容易了，這可是0的突破。那么為什么光刻機這么難造呢？
2020-01-29 11:07:007799 通過了《關(guān)于投資實施國家“02專項”ArF光刻膠產(chǎn)品的開發(fā)與產(chǎn)業(yè)化項目的議案》和《關(guān)于使用部分超募資金投資“ArF光刻膠產(chǎn)品的開發(fā)與產(chǎn)業(yè)化”項目的議案》。
2019-12-16 11:17:576276 今年7月17日，南大光電在互動平臺透露，公司設(shè)立光刻膠事業(yè)部，并成立了全資子公司“寧波南大光電材料有限公司”，全力推進“ArF光刻膠開發(fā)和產(chǎn)業(yè)化項目”落地實施。目前該項目完成的研發(fā)技術(shù)正在等待驗收中，預(yù)計2019年底建成一條光刻膠生產(chǎn)線，項目產(chǎn)業(yè)化基地建設(shè)順利。
2019-12-16 13:58:527318 經(jīng)常聽說，高端光刻機不僅昂貴而且還都是國外的，那么什么是光刻機呢？上篇我們聊了從原材料到拋光晶片的制成過程，今天我們就來聊聊什么是光刻～
2020-01-24 16:47:007513 光刻機技術(shù)壁壘高且投資占比大，芯片尺寸的縮小以及性能的提升依賴于光刻技術(shù)的發(fā)展。
2020-02-21 20:47:113590 經(jīng)常聽說，高端光刻機不僅昂貴而且還都是國外的，那么什么是光刻機呢？上篇我們聊了從原材料到拋光晶片的制成過程，今天我們就來聊聊什么是光刻～
2020-03-15 14:46:00227696 ，中國最好的光刻機廠商上海微電子裝備有限公司（SMEE）已經(jīng)量產(chǎn)的光刻機中，性能最好的SSA600/20工藝只能達到90nm，相當(dāng)于2004年上市的奔騰四CPU的水準。而國外的先進水平已經(jīng)達到了7納米，正因如此，國內(nèi)晶圓廠所需的高端光刻機完全依賴進口。
2020-03-18 10:52:1189226 光刻機是集成電路制造中最精密復(fù)雜、難度最高、價格最昂貴的設(shè)備，用于在芯片制造過程中的掩膜圖形到硅襯底圖形之間的轉(zhuǎn)移。集成電路在制作過程中經(jīng)歷材料制備、掩膜、光刻、刻蝕、清洗、摻雜、機械研磨等多個工序，其中以光刻工序最為關(guān)鍵，因為它是整個集成電路產(chǎn)業(yè)制造工藝先進程度的重要指標。
2020-03-18 11:00:4172452 光刻機是芯片制造的核心設(shè)備之一，作為目前世界上最復(fù)雜的精密設(shè)備之一，其實光刻機除了能用于生產(chǎn)芯片之外，還有用于封裝的光刻機，或者是用于LED制造領(lǐng)域的投影光刻機。目前，我國高端的光刻機，基本上是從荷蘭ASML進口的。
2020-03-18 11:12:0244388 近日，埃眸科技與常熟高新區(qū)正式簽署項目協(xié)議，打造納米壓印光刻機生產(chǎn)線。
2020-04-13 16:18:058152 作為芯片制造的核心設(shè)備之一，光刻機對芯片生產(chǎn)的工藝有著決定性影響。 據(jù)悉，光刻機按照用途可分為生產(chǎn)芯片的光刻機、封裝芯片的光刻機以及用于LED制造領(lǐng)域的投影光刻機。其中，生產(chǎn)芯片的High End
2020-06-15 08:05:54999 對于公司兩臺光刻機何時到位，上海新陽稱，公司購買的ArF光刻機準備運輸中，時間尚不能確定。I線光刻機已完成招投標，在進行采購中。
2020-06-23 16:30:401996 等光刻工序?qū)⑺枰奈⒓殘D形從光罩（掩模版）轉(zhuǎn)移到待加工基片上。依據(jù)使用場景，這里的待加工基片可以是集成電路材料，顯示面板材料或者印刷電路板。 據(jù)第三方機構(gòu)智研咨詢統(tǒng)計，2019年全球光刻膠市場規(guī)模預(yù)計近90億美元，
2020-09-15 14:00:1416535 Technology PTE. LTD.進口韓國SK Hynix的ASML光刻機設(shè)備，總價款為1102.5萬美元（折合7508萬人民幣）。 這樣的消息，顯然讓晶瑞股份獲得資本市場的認可，截至發(fā)稿前，該公司股價漲停，報于42.86元。 晶瑞股份圍繞泛半導(dǎo)體材料和新能源材料兩個方向，主導(dǎo)產(chǎn)品包括超凈高純
2020-09-29 13:02:00601 9月16日，安徽馬鞍山當(dāng)涂縣9月份項目集中簽約、集中開工儀式在姑孰工業(yè)集中區(qū)舉行。 本次集中簽約8個項目，其中包括斯坦得LDI感光干膜及半導(dǎo)體光刻膠項目。該項目總投資15億元，分2期建設(shè)。其中，一期
2020-09-24 11:12:053254 ％，再考慮到光刻工藝步驟中的光刻膠、光刻氣體、光罩（光掩膜板）、涂膠顯影設(shè)備等諸多配套設(shè)施和材料投資，實則整個光刻工藝占到了芯片成本的三分之一左右。
2020-10-09 15:40:112189 最近光刻機十分火，我們經(jīng)常聽到別人說7納米光刻機、5納米光刻機，但其實嚴格意義上來說并不存在7納米光刻機，5納米光刻機，我為什么會這樣說呢？
2020-10-19 11:42:5120305 對公司光刻膠業(yè)務(wù)的具體影響等問題。 10月12日，晶瑞股份發(fā)布關(guān)于深圳證券交易所關(guān)注函的回復(fù)公告稱，本次擬購買的光刻機設(shè)備將用于公司集成電路制造用高端光刻膠研發(fā)項目，將有助于公司將光刻膠產(chǎn)品序列實現(xiàn)到ArF光刻膠的跨越，并最終實
2020-10-21 10:32:104139 光刻為技術(shù)核心的直接成像設(shè)備及直寫光刻設(shè)備的研發(fā)、制造、銷售以及相應(yīng)的維保服務(wù)，主要產(chǎn)品及服務(wù)包括PCB直接成像設(shè)備及自動線系統(tǒng)、泛半導(dǎo)體直寫光刻設(shè)備及自動線系統(tǒng)、其他激光直接成像設(shè)備以及上述產(chǎn)品的售后維保服務(wù)，產(chǎn)品功能涵蓋微米到納米的
2020-10-30 15:25:431637 膠、軟烘、對準曝光、后烘、顯影、硬烘、刻蝕、檢測等數(shù)十道工序才得以最終完成。 正因如此，集數(shù)學(xué)、光學(xué)、物理、化學(xué)等眾多學(xué)科技術(shù)于一身的光刻機，被稱之為半導(dǎo)體工業(yè)皇冠上的明珠，占據(jù)晶圓廠設(shè)備投資總額的約25%。 在中美關(guān)系緊
2020-11-26 16:19:192472 ? 導(dǎo) 讀 日前，南大光電公告稱，由旗下控股子公司寧波南大光電材料自主研發(fā)的 ArF 光刻膠產(chǎn)品成功通過客戶使用認證，線制程工藝可以滿足 45nm-90nm光刻需求。 圖：南大光電公告 ? 公告
2020-12-25 18:24:096227 光刻是集成電路制造的最關(guān)鍵、最復(fù)雜、耗時占比最大的核心工藝，約占晶圓制造總耗時的40%-50%。公開數(shù)據(jù)顯示，2019年光刻設(shè)備占半導(dǎo)體晶圓處理設(shè)備市場的23%左右。
2020-12-29 15:41:442368 近日，芯源微披露投資者關(guān)系活動記錄表指出，公司前道涂膠顯影機與國際光刻機聯(lián)機的技術(shù)問題已經(jīng)攻克并通過驗證，可以與包括ASML、佳能等國際品牌以及國內(nèi)的上海微電子（SMEE）的光刻機聯(lián)機應(yīng)用。
2021-01-08 13:53:334683 1月19日晚，國內(nèi)半導(dǎo)體材料公司晶瑞股份發(fā)表公告，宣稱購得ASML公司光刻機一臺，將用于高端光刻膠項目。
2021-01-21 09:35:512886 1月19日晚，國內(nèi)半導(dǎo)體材料公司晶瑞股份發(fā)表公告，宣稱購得ASML公司光刻機一臺，將用于高端光刻膠項目。
2021-01-21 10:23:251666 信息技術(shù)、碳材料（石墨烯）、“互聯(lián)網(wǎng)+”等戰(zhàn)略性新興產(chǎn)業(yè)，包括光刻膠核心材料、中宏芯片等項目。 據(jù)威海南海新區(qū)消息，光刻膠核心材料項目建筑面積3萬平方米，計劃打造國內(nèi)唯一、世界第二的包含顏料綠G58生產(chǎn)的新材料生產(chǎn)基地。 報道指出，
2021-01-28 16:36:045472 據(jù)馬鞍山發(fā)布，安徽馬鞍山慈湖高新區(qū)舉辦通信通訊產(chǎn)業(yè)重點項目集中簽約儀式。其中，簽約的部分項目包括：蘇州世名光刻膠納米材料產(chǎn)業(yè)園項目，由世名科技投資，從事先進光敏材料及光刻膠納米顏料分散液研發(fā)
2021-02-24 16:25:062731 上海新陽表示，公司采購的ASML干法光刻機設(shè)備順利交付，對加快193nmArF干法光刻膠產(chǎn)品開發(fā)進度有積極影響，有利于進一步提升公司光刻膠產(chǎn)品的核心競爭力，加快落實公司發(fā)展戰(zhàn)略，提高公司抗風(fēng)險能力和可持續(xù)發(fā)展能力。
2021-03-10 17:13:002500 以下內(nèi)容由對話音頻整理 本期話題 ● EUV光刻機產(chǎn)能如何？ ● 晶圓為什么是圓的？ ● 不同制程的芯片之間有何區(qū)別？ ● 什么是邏輯芯片，邏輯芯片又包括哪些？ ● 專用芯片與通用芯片 ● 中科院
2021-03-14 09:46:3023476 經(jīng)常聽到別人說7納米光刻機、5納米光刻機，但其實嚴格意義上來說并不存在7納米光刻機，5納米光刻機，我為什么會這樣說呢？
2021-03-30 09:19:412681 
5月27日，半導(dǎo)體光刻膠概念股開盤即走強，截至收盤，A股光刻膠板塊漲幅達6.48%。其中晶瑞股份、廣信材料直線拉升大漲20%封漲停，容大感光大漲13.28%，揚帆新材大漲11.37%，南大光電
2021-05-28 10:34:152623 不會有我們現(xiàn)在的手機、電腦了。 光刻機是用于芯片制造的核心設(shè)備，按照用途可以分為用于生產(chǎn)芯片的光刻機、用于封裝的光刻機和用于LED制造領(lǐng)域的投影光刻機。 光刻機的核心原理就是一個透鏡組，在精度上首先咱們有個概念：我們現(xiàn)在芯片的
2021-07-07 14:31:18125772 最近光博會上看到一本關(guān)于光刻的小冊子，里面有一點內(nèi)容，分享給大家。 關(guān)于光刻的原理、光刻設(shè)備、光刻膠的種類和選擇等。 開篇 光刻的原理 表面處理：一般的晶圓光刻前都需要清潔干凈，特別是有有機物
2021-10-13 10:59:423893 
光刻膠是光刻機研發(fā)的重要材料，換句話說光刻機就是利用特殊光線將集成電路映射到硅片的表面，如果想要硅片的表面不留下痕跡，就需要網(wǎng)硅片上涂一層光刻膠。
2022-02-05 16:11:0011281 光刻機是芯片制造的核心設(shè)備之一。目前有用于生產(chǎn)的光刻機，有用于LED制造領(lǐng)域的光刻機，還有用于封裝的光刻機。光刻機是采用類似照片沖印的技術(shù)，然后把掩膜版上的精細圖形通過光線的曝光印制到硅片上。
2022-02-05 16:03:0085813 光刻機又被稱為掩膜對準曝光機，在芯片生產(chǎn)中用于光刻工藝，而光刻工藝又是生產(chǎn)流程中最關(guān)鍵的一步，所以光刻機又是芯片生產(chǎn)中不可缺少的設(shè)備，總得來說光刻機是用來制造芯片的。
2022-02-06 07:25:0029436 光刻機是芯片制造的核心設(shè)備之一。目前世界上最先進的光刻機是荷蘭ASML的EUV光刻機。
2022-07-06 11:03:077000 ASML的極紫外光刻機（EUV），這個是當(dāng)前世界頂級的光刻機設(shè)備。 在芯片加工的時候，光刻機是用一系列光源能量和形狀控制手段，通過帶有電路圖的掩模傳輸光束。 光刻設(shè)備涉及系統(tǒng)集成、精密光學(xué)、精密運動、精密材料傳輸、高精度微環(huán)境控制等多項先
2022-07-10 11:17:4242766 說到芯片，估計每個人都知道它是什么，但說到光刻，許多人可能不知道它是什么。光刻機是制造芯片的機器和設(shè)備。沒有光刻機的話，就無法生產(chǎn)芯片，因此每個人都知道光刻機對芯片制造業(yè)的重要性。那么euv光刻
2022-07-10 11:42:276977 目前，光刻機主要分為EUV光刻機和DUV光刻機。DUV是深紫外線，EUV是非常深的紫外線。DUV使用的是極紫外光刻技術(shù)，EUV使用的是深紫外光刻技術(shù)。EUV為先進工藝芯片光刻的發(fā)展方向。那么duv
2022-07-10 14:53:1078127 euv光刻機原理是什么 芯片生產(chǎn)的工具就是紫外光刻機，是大規(guī)模集成電路生產(chǎn)的核心設(shè)備，對芯片技術(shù)有著決定性的影響。小于5 nm的芯片只能由EUV光刻機生產(chǎn)。那么euv光刻機原理是什么呢？ EUV
2022-07-10 15:28:1015099 光刻機是當(dāng)前半導(dǎo)體芯片產(chǎn)業(yè)的核心設(shè)備，其技術(shù)含量和價值含量都很高。那么euv光刻機用途是什么呢？下面我們就一起來看看吧。 光刻設(shè)備涉及系統(tǒng)集成、精密光學(xué)、精密運動、精密材料傳輸、高精度微環(huán)境控制
2022-07-10 16:34:403116 與此同時，在ASML看來，下一代高NA EUV光刻機為光刻膠再度帶來了挑戰(zhàn)，更少的隨機效應(yīng)、更高的分辨率和更薄的厚度。首先傳統(tǒng)的正膠和負膠肯定是沒法用了，DUV光刻機上常用的化學(xué)放大光刻膠（CAR）也開始在5nm之后的分辨率和敏感度上出現(xiàn)瓶頸
2022-07-22 10:40:082010 首先光刻膠成分復(fù)雜，一瓶光刻膠需要光引發(fā)劑、光增感劑、光致產(chǎn)酸劑、樹脂、稀釋劑、溶劑、助劑這些材料組成，而且配方都是保密的。
2022-07-25 16:27:574270 南大光電最新消息顯示，國產(chǎn)193nm（ArF）光刻膠研發(fā)成功，這家公司成為通過國家“02專項”驗收的ArF光刻膠項目實施主體；徐州博康宣布，該公司已開發(fā)出數(shù)十種高端光刻膠產(chǎn)品系列，包括
2022-08-31 09:47:141285 光刻膠的組成：樹脂（resin/polymer），光刻膠中不同材料的粘合劑，給與光刻膠的機械與化學(xué)性質(zhì)（如粘附性、膠膜厚度、熱穩(wěn)定性等）；感光劑，感光劑對光能發(fā)生光化學(xué)反應(yīng)；溶劑（Solvent
2022-10-21 16:40:0415831 光刻機是芯片智造的核心設(shè)備之一，也是當(dāng)下尤為復(fù)雜的精密儀器之一。正因為此，荷蘭光刻機智造商阿斯麥通研制的EUV光刻機才會“千金難求”。 很多人都對光刻機有所耳聞，但其實不同光刻機的用途并不
2023-04-06 08:56:49679 
領(lǐng)投，中電中金、建投投資、合肥創(chuàng)新投、阜合基金、阜芯光電、物產(chǎn)中大、海智投資、龍鼎資本、齊芯資本、嘉和盛、上海昱熒等跟投。光源資本擔(dān)任獨家財務(wù)顧問。本輪資金用于進一步加大光刻膠、OLED 材料的研發(fā)與擴大再生產(chǎn)，提升企業(yè)核心競爭力，以搶
2023-06-13 16:40:00552 湖州國資消息，寧波微芯新材料科技有限公司的半導(dǎo)體材料生產(chǎn)基地項目總投資3.5億元人民幣，用地35畝，年產(chǎn)1000噸的電子級光刻膠原材料（光刻膠樹脂、高等級單體等核心材料）基地建設(shè)。”全部達到，預(yù)計年產(chǎn)值可達到約5億元。
2023-08-21 11:18:26942 半導(dǎo)體用光刻機公司, 光刻機真空度需要達到 1x10-11 pa 的超高真空, 因為設(shè)備整體較大, 需要對構(gòu)成光刻機的真空相關(guān)部件進行檢漏且要求清潔無油, 滿足無塵室使用要求, 為了方便進行快速檢漏, 采購伯東 Pfeiffer 便攜式氦質(zhì)譜檢漏儀 ASM 310.
2022-08-04 17:18:09318 
光刻膠在未曝光之前是一種黏性流體，不同種類的光刻膠具有不同的黏度。黏度是光刻膠的一項重要指標。那么光刻膠的黏度為什么重要？黏度用什么表征？哪些光刻膠算高黏度，哪些算低黏度呢？
2023-11-13 18:14:11571 
近期，萬潤股份在接受機構(gòu)調(diào)研時透露，其“年產(chǎn)65噸半導(dǎo)體用光刻膠樹脂系列”項目已經(jīng)順利投入運營。該項目旨在為客戶提供專業(yè)的半導(dǎo)體用光刻膠樹脂類材料。
2023-12-12 14:02:58329 據(jù)吳中發(fā)布的最新消息，簽約項目涵蓋了瑞紅集成電路高端光刻膠總部項目，該項投資高達15億元，旨在新建半導(dǎo)體光刻膠及其配套試劑的生產(chǎn)基地。
2024-01-26 09:18:43208 光刻膠是一種涂覆在半導(dǎo)體器件表面的特殊液體材料，可以通過光刻機上的模板或掩模來進行曝光。
2024-03-04 17:19:18402
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