壓印光刻技術(shù)NIL在這條賽道上備受關(guān)注,是最有機(jī)會(huì)率先應(yīng)用落地的技術(shù)路線。 ? 今年早些時(shí)候,根據(jù)英國(guó)金融時(shí)報(bào)的報(bào)道,負(fù)責(zé)監(jiān)督新型光刻機(jī)開發(fā)的佳能高管武石洋明在接受采訪時(shí)稱,采用納米壓印技術(shù)的佳能光刻設(shè)備FPA-1200NZ2C目標(biāo)最快在
2024-03-09 00:15:002909 電子發(fā)燒友網(wǎng)報(bào)道(文/李寧遠(yuǎn))提及芯片制造技術(shù),首先想到的自然是光刻機(jī)和光刻技術(shù)。眾所周知在芯片行業(yè),光刻是芯片制造過程中最重要、最繁瑣、最具挑戰(zhàn)也最昂貴的一項(xiàng)工藝步驟。在光刻機(jī)的支持下,摩爾定律
2023-07-16 01:50:153007 3月20日,2024年中國(guó)電子生產(chǎn)制造行業(yè)大展——慕尼黑上海電子生產(chǎn)設(shè)備展(productronica China)在上海新國(guó)際博覽中心拉開帷幕。
2024-03-21 16:58:37145 與正光刻膠相比,電子束負(fù)光刻膠會(huì)形成相反的圖案。基于聚合物的負(fù)型光刻膠會(huì)在聚合物鏈之間產(chǎn)生鍵或交聯(lián)。未曝光的光刻膠在顯影過程中溶解,而曝光的光刻膠則保留下來,從而形成負(fù)像。
2024-03-20 11:36:50192 近日,得瑞領(lǐng)新D6000系列入選北京市新技術(shù)新產(chǎn)品名單,繼獲評(píng)國(guó)家“專精特新”小巨人后再次躋身政府官方科技榜單,印證了其在科技創(chuàng)新領(lǐng)域的領(lǐng)先地位以及不斷努力為客戶提供優(yōu)秀解決方案的決心。 ???
2024-03-13 09:52:09210 光刻膠是一種涂覆在半導(dǎo)體器件表面的特殊液體材料,可以通過光刻機(jī)上的模板或掩模來進(jìn)行曝光。
2024-03-04 17:19:18399 電子束光刻(e-beam lithography,EBL)是無掩膜光刻的一種,它利用波長(zhǎng)極短的聚焦電子直接作用于對(duì)電子敏感的光刻膠(抗蝕劑)表面繪制形成與設(shè)計(jì)圖形相符的微納結(jié)構(gòu)。
2024-03-04 10:19:28206 檢測(cè)出輸出電流過大時(shí),霍爾輸出一個(gè)峰值電壓,這個(gè)電壓和硬件定標(biāo)值通過比較器比較,輸出一個(gè)高電平,發(fā)送給變頻器主控芯片停止驅(qū)動(dòng)信號(hào)的發(fā)出;那么軟件方面是怎么判斷過流的,有沒有軟件方面的工程師詳細(xì)解釋解釋?
2024-02-25 20:40:01
來源:DIGITIMES ASIA 佳能預(yù)計(jì)其納米壓印光刻機(jī)將于今年出貨,與ASML的EVU設(shè)備競(jìng)爭(zhēng)市場(chǎng),因?yàn)?b class="flag-6" style="color: red">世界各地的經(jīng)濟(jì)體都熱衷于擴(kuò)大其本土芯片產(chǎn)能。 佳能董事長(zhǎng)兼首席執(zhí)行官Hiroaki
2024-02-01 15:42:05270 上海朗駿智能科技股份有限公司與北京柏斯頓自控工程技術(shù)有限公司近日宣布達(dá)成戰(zhàn)略合作,旨在共同推動(dòng)智能控制技術(shù)的發(fā)展和應(yīng)用。
2024-01-17 10:34:58219 光刻膠主要下游應(yīng)用包括:顯示屏制造、印刷電路板生產(chǎn)、半導(dǎo)體制造等,其中顯示屏是光刻膠最大的下游應(yīng)用,占比30%。光刻膠在半導(dǎo)體制造應(yīng)用占比24%,是第三達(dá)應(yīng)用場(chǎng)景。
2024-01-03 18:12:21343 近日,蘇州市科學(xué)技術(shù)局公布了2023年蘇州市工程技術(shù)研究中心擬新建名單和評(píng)估合格名單,阿普奇成功入圍擬新建名單,并被認(rèn)定為“蘇州市阿普奇工業(yè)AI邊緣計(jì)算工程技術(shù)研究中心”。這是阿普奇榮獲的又一個(gè)
2024-01-02 14:48:10193 使用13.5nm波長(zhǎng)的光進(jìn)行成像的EUV光刻技術(shù)已被簡(jiǎn)歷。先進(jìn)的邏輯產(chǎn)品依賴于它,DRAM制造商已經(jīng)開始大批量生產(chǎn)。
2023-12-29 15:22:31172 在電子工程領(lǐng)域,降壓恒流IC芯片是一種非常重要的電子元器件。它們被廣泛應(yīng)用于各種電子設(shè)備中,如LED照明、電動(dòng)汽車、電子煙等。其中,OC5220原廠降壓恒流IC芯片是一款非常優(yōu)秀的降壓恒流IC芯片
2023-12-21 19:08:01
光照條件的設(shè)置、掩模版設(shè)計(jì)以及光刻膠工藝等因素對(duì)分辨率的影響都反映在k?因子中,k?因子也常被用于評(píng)估光刻工藝的難度,ASML認(rèn)為其物理極限在0.25,k?體現(xiàn)了各家晶圓廠運(yùn)用光刻技術(shù)的水平。
2023-12-18 10:53:05326 勻膠是光刻中比較重要的一步,而旋涂速度是勻膠中至關(guān)重要的參數(shù),那么我們?cè)趧蚰z時(shí),是如何確定勻膠速度呢?它影響光刻膠的哪些性質(zhì)?
2023-12-15 09:35:56442 ,展示智能制造領(lǐng)域最新成果、前沿技術(shù)和高端產(chǎn)品,引領(lǐng)制造業(yè)智能化發(fā)展。上海力控元申總經(jīng)理趙杰先生受邀參加活動(dòng)并發(fā)表演講,以《聚焦工業(yè)OT側(cè),全場(chǎng)景邊云協(xié)同》為主題
2023-12-12 10:34:10206 喜報(bào)近日,湖南省科學(xué)技術(shù)廳公布了《關(guān)于2023年度湖南省工程技術(shù)研究中心立項(xiàng)的公示》擬立項(xiàng)名單,莫之比智能“湖南省毫米波雷達(dá)工程技術(shù)研究中心”項(xiàng)目喜獲擬立項(xiàng)。為全面落實(shí)“三高四新”戰(zhàn)略定位和使命任務(wù)
2023-12-12 08:23:49268 點(diǎn)。 2023/12/08 「VOL.29」 01. 0 0 0 0 0 著重推進(jìn) 信息通信技術(shù)融合應(yīng)用 習(xí)近平總書記高度重視數(shù)字經(jīng)濟(jì)、智慧交通發(fā)展,多次作出重要指示,強(qiáng)調(diào)“要大力發(fā)展智慧交通和智慧物流”“努力打造世界一流的智慧港口、綠色港口”,為包括智慧港口和
2023-12-08 13:55:02186 KrF光刻膠是指利用248nm KrF光源進(jìn)行光刻的光刻膠。248nmKrF光刻技術(shù)已廣 泛應(yīng)用于0.13μm工藝的生產(chǎn)中,主要應(yīng)用于150 , 200和300mm的硅晶圓生產(chǎn)中。
2023-11-29 10:28:50283 大家元老們好,菜鳥想咨詢下,我明年想開一個(gè)生產(chǎn)傳感器的工廠,現(xiàn)在想了解一下生產(chǎn)傳感器需要的設(shè)備,和技術(shù),一般小型的工廠,需要投資多少錢。生產(chǎn)技術(shù)在哪里能拿到?
2023-11-29 10:07:42
光刻膠在未曝光之前是一種黏性流體,不同種類的光刻膠具有不同的黏度。黏度是光刻膠的一項(xiàng)重要指標(biāo)。那么光刻膠的黏度為什么重要?黏度用什么表征?哪些光刻膠算高黏度,哪些算低黏度呢?
2023-11-13 18:14:11569 11月7日至9日,由中國(guó)醫(yī)藥設(shè)備工程協(xié)會(huì)主辦的中國(guó)制藥工程技術(shù)大會(huì)暨中國(guó)醫(yī)藥設(shè)備工程協(xié)會(huì)2023年會(huì)在北京順利召開,江蘇潤(rùn)和軟件股份有限公司(以下簡(jiǎn)稱“潤(rùn)和軟件”)作為中國(guó)領(lǐng)先的產(chǎn)品與解決方案提供商
2023-11-13 08:45:01287 第六屆進(jìn)博會(huì)于近日在上海國(guó)家會(huì)展中心正式收官,ASML2023進(jìn)博之旅也圓滿落幕! 今年,ASML繼續(xù)以“光刻未來,攜手同行”為主題,攜全景光刻解決方案驚艷亮相,還創(chuàng)新性地帶來了“芯”意滿滿的沉浸
2023-11-11 15:23:53595 光學(xué)光刻是通過廣德照射用投影方法將掩模上的大規(guī)模集成電路器件的結(jié)構(gòu)圖形畫在涂有光刻膠的硅片上,通過光的照射,光刻膠的成分發(fā)生化學(xué)反應(yīng),從而生成電路圖。限制成品所能獲得的最小尺寸與光刻系統(tǒng)能獲得的分辨率直接相關(guān),而減小照射光源的波長(zhǎng)是提高分辨率的最有效途徑。
2023-10-24 11:43:15271 當(dāng)制程節(jié)點(diǎn)演進(jìn)到5nm時(shí),DUV和多重曝光技術(shù)的組合也難以滿足量產(chǎn)需求了,EUV光刻機(jī)就成為前道工序的必需品了,沒有它,很難制造出符合應(yīng)用需求的5nm芯片,即使不用EUV能制造出一些5nm芯片,其整個(gè)生產(chǎn)線的良率也非常低,無法形成大規(guī)模的商業(yè)化生產(chǎn)。
2023-10-13 14:45:03834 近日,江蘇省科學(xué)技術(shù)廳公示了2023年度擬新建省級(jí)工程技術(shù)研究中心名單?,n捷電子(南京英銳創(chuàng))成功獲批“江蘇省低功耗高精度車規(guī)級(jí)傳感芯片工程技術(shù)研究中心”。
2023-10-09 09:10:16568 近期,江蘇省科技廳公示了2023年度擬新建省級(jí)工程技術(shù)研究中心名單,長(zhǎng)晶科技獲批建設(shè)“江蘇省功率器件工程技術(shù)研究中心”。
2023-10-07 16:18:29552 近日,江蘇省科技廳公布了2023年度省級(jí)企業(yè)工程技術(shù)研究中心驗(yàn)收結(jié)果,潤(rùn)芯微科技(江蘇)有限公司(以下簡(jiǎn)稱“潤(rùn)芯微科技”)在列,獲評(píng)江蘇省車載智能中央域控系統(tǒng)工程技術(shù)研究中心,成為本次入圍省級(jí)
2023-10-07 14:48:45747 歐洲極紫外光刻(EUVL)技術(shù)利用波長(zhǎng)為13.5納米的光子來制造集成電路。產(chǎn)生這種光的主要來源是使用強(qiáng)大激光器產(chǎn)生的熱錫等離子體。激光參數(shù)被調(diào)整以產(chǎn)生大多數(shù)在13.5納米附近發(fā)射的錫離子(例如Sn10+-Sn15+)。
2023-09-25 11:10:50264 近日,華大半導(dǎo)體與華東師范大學(xué)簽署協(xié)議,共建“集成電路工程技術(shù)聯(lián)合實(shí)驗(yàn)室”。雙方將在科研項(xiàng)目合作、人才交流與培養(yǎng)、技術(shù)培訓(xùn)等方面,充分發(fā)揮各方資源優(yōu)勢(shì),展開深入合作。 ? 深化校企合作 基于集成電路
2023-09-21 10:41:39662 線路板的光刻技術(shù)
2023-09-21 10:20:34607 電子信息技術(shù)的飛速發(fā)展推動(dòng)了電源技術(shù)這一領(lǐng)域的飛速前進(jìn),同時(shí)也給電源工程技術(shù)人員帶來了前所未有的機(jī)遇和挑戰(zhàn),小到家用電器,大到大型電力行業(yè)所用的儀器設(shè)備,無不需要電源來提供能源,這也更需要大量
2023-09-20 07:59:58
還介紹了外設(shè)的使用,如鍵區(qū)、LCD顯示器以及其他常用的嵌入式微控制器相關(guān)設(shè)備。u3000u3000作者簡(jiǎn)介:u3000u3000RICHARDH.BARNETT是PURDUE大學(xué)的電子工程技術(shù)專業(yè)
2023-09-20 07:52:00
根據(jù)公司未來發(fā)展的整體規(guī)劃,結(jié)合自身發(fā)展需要,新迪數(shù)字總部現(xiàn)已正式落地上海閔行區(qū),并更名為“上海新迪數(shù)字技術(shù)有限公司”。這標(biāo)志著新迪數(shù)字在戰(zhàn)略部署中邁出了關(guān)鍵一步,推進(jìn)三維CAD產(chǎn)品技術(shù)研發(fā)和市場(chǎng)
2023-08-30 17:06:03257 2023上海智慧停車展,帶您了解上海靜安區(qū)“世界之最”停車場(chǎng)進(jìn)展
2023-08-28 11:48:111706 在光刻設(shè)備方面,荷蘭asml、日本尼康和佳能公司是主要供應(yīng)企業(yè),在全世界占據(jù)95%以上的市場(chǎng)占有率。在食用裝備領(lǐng)域,美國(guó)泛林集團(tuán)、應(yīng)用材料及東京電子(tel)是主要企業(yè),世界市場(chǎng)占有率合計(jì)在90%以上。
2023-08-28 09:28:34290 光刻是半導(dǎo)體芯片生產(chǎn)流程中最復(fù)雜、最關(guān)鍵的工藝步驟,耗時(shí)長(zhǎng)、成本高。半導(dǎo)體芯片生產(chǎn)的難點(diǎn)和關(guān)鍵點(diǎn)在于將電路圖從掩模上轉(zhuǎn)移至硅片上,這一過程通過光刻來實(shí)現(xiàn), 光刻的工藝水平直接決定芯片的制程水平和性能水平。
2023-08-23 10:47:531573 2000年代初,芯片行業(yè)一直致力于從193納米氟化氬(ArF)光源光刻技術(shù)過渡到157納米氟(F 2 )光源光刻技術(shù)。
2023-08-23 10:33:46798 光刻機(jī)有半導(dǎo)體工業(yè)“皇冠上的明珠“之稱,是高速生產(chǎn)芯片所需要的最關(guān)鍵和最復(fù)雜的設(shè)備之一(一臺(tái)光刻機(jī)有10萬個(gè)組件)。目前全世界的高端光刻機(jī)被荷蘭公司ASML壟斷(中低端產(chǎn)品美國(guó)、日本和中國(guó)均能生產(chǎn)),而絕大部分的組件供應(yīng)商又被美國(guó)控制。
2023-08-21 16:09:33472 萬寶電子背靠世界500強(qiáng)大企,有什么樣的突出優(yōu)勢(shì)? 8月2日,《財(cái)富》雜志最新發(fā)布的2023年世界500強(qiáng)排行榜,廣州工業(yè)投資控股集團(tuán)有限公司以365.88億元美元的營(yíng)業(yè)收入首次躋身世界500強(qiáng)企業(yè)
2023-08-18 11:21:45459 激光清洗機(jī),激光除銹設(shè)備廠家-上海銳族激光是專業(yè)生產(chǎn)和研發(fā)激光清洗機(jī)、激光除銹機(jī)的廠家,激光清洗除銹機(jī)是一款除銹設(shè)備,它采用激光照射鋼材表面,瞬間將銹斑蒸發(fā),從而快速清除
2023-08-18 10:02:55
CoreSight組件提供以下系統(tǒng)范圍跟蹤功能:
·整個(gè)系統(tǒng)的調(diào)試和跟蹤可見性·SoC子系統(tǒng)之間的交叉觸發(fā)支持·單一流中的多源跟蹤·比以前的解決方案更高的數(shù)據(jù)壓縮·標(biāo)準(zhǔn)工具的標(biāo)準(zhǔn)程序員模型支持·第三方核心的開放接口·低引腳數(shù)·低硅開銷
2023-08-18 07:11:14
,擬建設(shè)一座硅材料工程技術(shù)研發(fā)實(shí)驗(yàn)基地,建成后將徹底改變我國(guó)在硅材料工程研究與應(yīng)用方面的不足,帶動(dòng)國(guó)內(nèi)硅材料配套產(chǎn)業(yè)的發(fā)展,同時(shí)也將帶動(dòng)相關(guān)硅材料上下游產(chǎn)業(yè)的持續(xù)創(chuàng)新。 上海新昇半導(dǎo)體科技有限公司是上海硅產(chǎn)業(yè)集團(tuán)股份有限公
2023-08-14 18:04:39668 據(jù)悉,該工程于2022年7月取得土地,同年11月開工。規(guī)劃建設(shè)用地66757平方米,建設(shè)具有研發(fā)綜合辦公樓,測(cè)試驗(yàn)證平臺(tái),電力配套,動(dòng)力站等功能的公共輔助設(shè)施。該項(xiàng)目將與上海集成電路材料研究院共同負(fù)責(zé)國(guó)家集成電路材料革新中心項(xiàng)目,建設(shè)硅材料工程技術(shù)研究開發(fā)實(shí)驗(yàn)基地,于2024年啟動(dòng)。
2023-08-14 10:29:37552 光刻是一種圖像復(fù)制技術(shù),是集成電路工藝中至關(guān)重要的一項(xiàng)工藝。簡(jiǎn)單地說,光刻類似照相復(fù)制方法,即將掩膜版上的圖形精確地復(fù)制到涂在硅片表面的光刻膠或其他掩蔽膜上面,然后在光刻膠或其他掩蔽膜的保護(hù)下對(duì)硅片進(jìn)行離子注入、刻蝕、金屬蒸鍍等。
2023-08-07 17:52:531478 EUV掩膜,也稱為EUV掩模或EUV光刻掩膜,對(duì)于極紫外光刻(EUVL)這種先進(jìn)光刻技術(shù)至關(guān)重要。EUV光刻是一種先進(jìn)技術(shù),用于制造具有更小特征尺寸和增強(qiáng)性能的下一代半導(dǎo)體器件。
2023-08-07 15:55:02396 半導(dǎo)體技術(shù)的未來通常是通過光刻設(shè)備的鏡頭來看待的,盡管高度挑戰(zhàn)性的技術(shù)問題幾乎永無休止,但光刻設(shè)備仍繼續(xù)為未來的工藝節(jié)點(diǎn)提供更好的分辨率。
2023-07-28 17:41:161130 雙方將建立長(zhǎng)期戰(zhàn)略合作關(guān)系。根據(jù)協(xié)議,徐工將依托 IBM 在企業(yè)數(shù)字化轉(zhuǎn)型領(lǐng)域獨(dú)特的技術(shù)、能力和經(jīng)驗(yàn)優(yōu)勢(shì),加速推進(jìn)其“智改數(shù)轉(zhuǎn)”項(xiàng)目,以盡快實(shí)現(xiàn)“建成世界一流企業(yè),攀登全球產(chǎn)業(yè)珠峰”的目標(biāo)。 徐工集團(tuán)、徐工機(jī)械董事長(zhǎng)楊東升與
2023-07-21 12:10:04280 摘要 :隨著微電子產(chǎn)業(yè)的迅猛發(fā)展,我國(guó)迫切需要研制極大規(guī)模集成電路的加工設(shè)備-光刻機(jī)。曝光波長(zhǎng)為193nm的投影式光刻機(jī)因其技術(shù)成熟、曝光線寬可延伸至32nm節(jié)點(diǎn)的優(yōu)勢(shì)已成為目前光刻領(lǐng)域的主流設(shè)備
2023-07-17 11:02:38592 GK-1000光刻掩膜版測(cè)溫儀,光刻機(jī)曝光光學(xué)系統(tǒng)測(cè)溫儀光刻機(jī)是一種用于微納米加工的設(shè)備,主要用于制造集成電路、光電子器件、MEMS(微機(jī)電系統(tǒng))等微細(xì)結(jié)構(gòu)。光刻機(jī)是一種光學(xué)投影技術(shù),通過將光線通過
2023-07-07 11:46:07
近日,2023上海MWC世界移動(dòng)通信大會(huì)在上海新國(guó)際博覽中心盛大舉辦!作為行業(yè)領(lǐng)先的數(shù)字家庭及物聯(lián)網(wǎng)通信一體化解決方案及服務(wù)提供商,九聯(lián)科技在本屆展會(huì)上盛裝亮相 (展位號(hào):N4.C164 ),為參會(huì)觀眾帶來最佳的產(chǎn)品成果展示。
2023-07-06 10:58:06380 ,半導(dǎo)體制造領(lǐng)域使用 傳統(tǒng)大功率汞燈技術(shù) 用于光刻設(shè)備的紫外光源。這種光源雖然輸出功率高,但輸出光譜范圍寬,制造和生產(chǎn)過程中會(huì)產(chǎn)生對(duì)環(huán)境有害的物質(zhì),并且工作壽命短,更換周期頻繁。 UVLED 具有獨(dú)特的技術(shù)優(yōu)勢(shì)和成本優(yōu)勢(shì),能夠輸
2023-07-05 10:11:241026 上海2023年6月30日?/美通社/ --?6月28日至30日,2023年上海世界移動(dòng)通信大會(huì)(簡(jiǎn)稱"MWC上海")在上海新國(guó)際博覽中心成功舉辦。作為全球移動(dòng)通信技術(shù)發(fā)展的風(fēng)向標(biāo),展會(huì)吸引了全球
2023-07-01 18:45:59594 6月28日,以“時(shí)不我待”為主題的上海世界移動(dòng)通信大會(huì)開幕。作為全球范圍內(nèi)移動(dòng)通信行業(yè)的年度盛事,本次大會(huì)包含“5G變革、數(shù)字萬物、超越現(xiàn)實(shí)+”三大主題方向,通過成果推介、對(duì)話研討、技術(shù)交流多種渠道
2023-07-01 10:09:53474 成果推介、對(duì)話研討、技術(shù)交流多種渠道,助力上海打造“國(guó)際數(shù)字之都”。 中國(guó)移動(dòng)以“數(shù)智賦能,共享未來”為主題,圍繞“連接+算力+能力”產(chǎn)業(yè)發(fā)展所取得的各項(xiàng)成果,精彩亮相MWC上海展會(huì),向世界展示移動(dòng)智慧。 中移芯昇科技通信芯
2023-06-30 17:35:06325 中國(guó)科學(xué)院大學(xué)集成電路學(xué)院是國(guó)家首批支持建設(shè)的示范性微電子學(xué)院。為了提高學(xué)生對(duì)先進(jìn)光刻技術(shù)的理解,本學(xué)期集成電路學(xué)院開設(shè)了《集成電路先進(jìn)光刻技術(shù)與版圖設(shè)計(jì)優(yōu)化》研討課。在授課過程中,除教師系統(tǒng)地講授
2023-06-30 10:06:02261 6月28日,2023上海世界移動(dòng)通信大會(huì)(簡(jiǎn)稱“MWC上海”)盛大開幕,此次大會(huì)以“時(shí)不我待”為主題,圍繞“5G變革”“數(shù)字萬物”與“超越現(xiàn)實(shí)+”三大方向,深入探討5G頻譜、6G進(jìn)程、智慧城市、數(shù)字
2023-06-29 15:41:38533 中國(guó)科學(xué)院大學(xué)集成電路學(xué)院是國(guó)家首批支持建設(shè)的示范性微電子學(xué)院。為了提高學(xué)生對(duì)先進(jìn)光刻技術(shù)的理解,本學(xué)期集成電路學(xué)院開設(shè)了《集成電路先進(jìn)光刻技術(shù)與版圖設(shè)計(jì)優(yōu)化》研討課。在授課過程中,除教師系統(tǒng)地講授
2023-06-29 10:02:17327 6月28日,2023上海世界移動(dòng)通信大會(huì)(簡(jiǎn)稱“MWC 上海 2023”)盛大開幕,全球260多家通信企業(yè)、芯片制造商、科技企業(yè)匯聚一堂共襄盛舉。作為業(yè)內(nèi)領(lǐng)先的半導(dǎo)體解決方案提供商, 紫光
2023-06-28 16:00:02308 中國(guó)科學(xué)院大學(xué)集成電路學(xué)院是國(guó)家首批支持建設(shè)的示范性微電子學(xué)院。為了提高學(xué)生對(duì)先進(jìn)光刻技術(shù)的理解,本學(xué)期集成電路學(xué)院開設(shè)了《集成電路先進(jìn)光刻技術(shù)與版圖設(shè)計(jì)優(yōu)化》研討課。在授課過程中,除教師系統(tǒng)地講授
2023-06-26 17:00:19765 如今,光刻技術(shù)已成為一項(xiàng)容錯(cuò)率極低的大產(chǎn)業(yè)。全球領(lǐng)先的荷蘭公司 ASML 也是歐洲市值最大的科技公司。它的光刻工具依賴于世界上最平坦的鏡子、最強(qiáng)大的商用激光器之一以及比太陽表面爆炸還高的熱度,在硅上刻出微小的形狀,尺寸僅為幾納米。
2023-06-26 16:59:16569 對(duì)于半導(dǎo)體行業(yè)而言,光刻技術(shù)和設(shè)備發(fā)揮著基礎(chǔ)性作用,是必不可少的。
2023-06-25 10:25:08443 晶圓上。 ? 掩膜版的精度、尺寸乃至瑕疵,都會(huì)對(duì)光刻這一流程的結(jié)果造成影響。正因如此,掩膜版成了半導(dǎo)體芯片的重要上游材料之一,哪怕其并不會(huì)出現(xiàn)在終端產(chǎn)品之上。就連與之配套的Mask Writer設(shè)備、防護(hù)膜等,也都是不小的產(chǎn)業(yè)
2023-06-22 01:27:001984 eLEAP顯示技術(shù)是JDI開發(fā)出的世界上第一個(gè)使用無掩模沉積和光刻技術(shù)準(zhǔn)備大規(guī)模生產(chǎn)的OLED技術(shù)
2023-06-18 10:03:115266 近日,湖南大學(xué)段輝高教授團(tuán)隊(duì)通過開發(fā)基于“光刻膠全干法轉(zhuǎn)印”技術(shù)的新型光刻工藝,用于柔性及不規(guī)則(曲面、懸空)襯底上柔性電子器件的原位和高保形制造,為高精度、高可靠性和高穩(wěn)定性柔性電子器件的制造提供
2023-06-17 10:19:38507 近日,南京市科學(xué)技術(shù)局公布了“2023年度南京市工程技術(shù)研究中心”認(rèn)定名單,芯原微電子 (南京) 有限公司 (簡(jiǎn)稱芯原南京) 建設(shè)的“南京市芯片定制工程技術(shù)研究中心”喜獲認(rèn)定。 工程技術(shù)
2023-06-16 10:09:23831 PLC控制柜廠家電氣控制設(shè)備檢修技術(shù)要求 上海尤勁恩
2023-06-15 17:41:32438 中國(guó)科學(xué)院大學(xué)集成電路學(xué)院是國(guó)家首批支持建設(shè)的示范性微電子學(xué)院。為了提高學(xué)生對(duì)先進(jìn)光刻技術(shù)的理解,本學(xué)期集成電路學(xué)院開設(shè)了《集成電路先進(jìn)光刻技術(shù)與版圖設(shè)計(jì)優(yōu)化》研討課。在授課過程中,除教師系統(tǒng)地講授
2023-06-14 10:16:38226 ,電源管理IC下游市場(chǎng)迎來了新的發(fā)展機(jī)會(huì),逐漸呈現(xiàn)從低端消費(fèi)電子向高端工業(yè)和汽車領(lǐng)域轉(zhuǎn)型的趨勢(shì)。
上海貝嶺股份有限公司是一家由 IDM模式轉(zhuǎn)為 Fabless 模式的芯片設(shè)計(jì)廠商,定位為國(guó)內(nèi)一流的模擬
2023-06-09 14:52:24
光刻機(jī)可分為前道光刻機(jī)和后道光刻機(jī)。光刻機(jī)既可以用在前道工藝,也可以用在后道工藝,前道光刻機(jī)用于芯片的制造,曝光工藝極其復(fù)雜,后道光刻機(jī)主要用于封裝測(cè)試,實(shí)現(xiàn)高性能的先進(jìn)封裝,技術(shù)難度相對(duì)較小。
2023-06-09 10:49:205857 極紫外 (EUV) 光刻系統(tǒng)是當(dāng)今使用的最先進(jìn)的光刻系統(tǒng)。本文將介紹這項(xiàng)重要但復(fù)雜的技術(shù)。
2023-06-06 11:23:54688 點(diǎn)擊藍(lán)字 關(guān)注我們 2023年5月,經(jīng)過初審、專家評(píng)審、評(píng)議等環(huán)節(jié),隼眼科技被南京市科技局認(rèn)定為南京市毫米波雷達(dá)工程技術(shù)中心。 隼眼科技長(zhǎng)期以來致力于高精度、高品質(zhì)毫米波雷達(dá)的技術(shù)開發(fā)、技術(shù)
2023-06-05 16:55:02678 中國(guó)在半導(dǎo)體芯片制造方面仍落后于美國(guó)。早在上世紀(jì)60年代,美國(guó)就開始占據(jù)世界半導(dǎo)體市場(chǎng)的絕對(duì)主導(dǎo)地位。隨著技術(shù)的不斷發(fā)展,半導(dǎo)體芯片的制造越來越精細(xì)化。從最初的65納米工程到現(xiàn)在的7納米技術(shù)開發(fā),美國(guó)一直處于領(lǐng)先地位。
2023-06-01 10:12:43583 電路的設(shè)計(jì)與分析,使其更適合用作高校電子信息、電氣工程、計(jì)算機(jī)及工程技術(shù)類相關(guān)專業(yè)的教材,還可用作工程技術(shù)設(shè)計(jì)人員的參考書。
本書還有另外兩本姊妹篇,分別是《深入理解微電子電路設(shè)計(jì)——電子元器件原理及應(yīng)用(原書第5
2023-05-29 22:24:28
中國(guó)科學(xué)院大學(xué)集成電路學(xué)院是國(guó)家首批支持建設(shè)的示范性微電子學(xué)院。為了提高學(xué)生對(duì)先進(jìn)光刻技術(shù)的理解,本學(xué)期集成電路學(xué)院開設(shè)了《集成電路先進(jìn)光刻技術(shù)與版圖設(shè)計(jì)優(yōu)化》研討課。
2023-05-26 14:59:17526 EUV光刻技術(shù)仍被認(rèn)為是實(shí)現(xiàn)半導(dǎo)體行業(yè)持續(xù)創(chuàng)新的關(guān)鍵途徑。隨著技術(shù)的不斷發(fā)展和成熟,預(yù)計(jì)EUV光刻將在未來繼續(xù)推動(dòng)芯片制程的進(jìn)步。
2023-05-18 15:49:041787 在集成電路制造領(lǐng)域,如果說光刻機(jī)是推動(dòng)制程技術(shù)進(jìn)步的“引擎”,光刻膠就是這部“引擎”的“燃料”。
2023-05-13 11:28:381119 為創(chuàng)建工程技術(shù)教育的良好生態(tài),打造工程技術(shù)人才培養(yǎng)新高地,上海未來工程師大賽已經(jīng)走過了19年。第十九屆上海未來工程師大賽內(nèi)容涉及結(jié)構(gòu)、建筑、機(jī)械、電子、機(jī)電、軟件工程、航天、工業(yè)設(shè)計(jì),吸引了全市五萬
2023-05-09 14:48:031051 選擇進(jìn)入企業(yè)學(xué)習(xí)或向?qū)W術(shù)轉(zhuǎn)變,通過“雙導(dǎo)師貫穿全過程”和“回歸實(shí)驗(yàn)室縱向課題”等策略,極大限度開發(fā)學(xué)生的優(yōu)質(zhì)潛能, 專注培養(yǎng)國(guó)際一流的電子信息領(lǐng)域復(fù)合型高端人才 。
△上海交通大學(xué)電子信息與電氣工程
2023-04-28 17:48:10
現(xiàn)代工藝技術(shù)將晶圓廠設(shè)備要求推向極限,需要實(shí)現(xiàn)突破其物理極限的高分辨率,這正是計(jì)算光刻技術(shù)發(fā)揮作用的地方。計(jì)算光刻就是為芯片生產(chǎn)制作光掩模的技術(shù),它結(jié)合來自ASML設(shè)備和測(cè)試晶圓的關(guān)鍵數(shù)據(jù),是一個(gè)模擬生產(chǎn)過程的算法。
2023-04-26 10:05:29918 在整個(gè)芯片制造過程中,幾乎每一道工序的實(shí)施都離不開光刻技術(shù)。光刻技術(shù)也是制造芯片最關(guān)鍵的技術(shù),占芯片制造成本的35%以上。
2023-04-26 08:57:031033 根據(jù)維基百科的定義,光刻是半導(dǎo)體器件制造工藝中的一個(gè)重要步驟,該步驟利用曝光和顯影在光刻膠層上刻畫幾何圖形結(jié)構(gòu),然后通過刻蝕工藝將光掩模上的圖形轉(zhuǎn)移到所在襯底上。這里所說的襯底不僅包含硅晶圓,還可以是其他金屬層、介質(zhì)層,例如玻璃、SOS中的藍(lán)寶石。
2023-04-25 11:11:331242 清洗硅片(Wafer Clean)
清洗硅片的目的是去除污染物去除顆粒、減少針孔和其它缺陷,提高光刻膠黏附性
基本步驟:化學(xué)清洗——漂洗——烘干。
2023-04-25 11:09:403852 光刻就是把芯片制作所需要的線路與功能區(qū)做出來。利用光刻機(jī)發(fā)出的光通過具有圖形的光罩對(duì)涂有光刻膠的薄片曝光,光刻膠見光后會(huì)發(fā)生性質(zhì)變化,從而使光罩上得圖形復(fù)印到薄片上,從而使薄片具有電子線路圖的作用
2023-04-25 11:05:322260 光刻技術(shù)簡(jiǎn)單來講,就是將掩膜版圖形曝光至硅片的過程,是大規(guī)模集成電路的基礎(chǔ)。目前市場(chǎng)上主流技術(shù)是193nm沉浸式光刻技術(shù),CPU所謂30nm工藝或者22nm工藝指的就是采用該技術(shù)獲得的電路尺寸。
2023-04-25 11:02:322261 光刻技術(shù)是將掩模中的幾何形狀的圖案轉(zhuǎn)移到覆蓋在半導(dǎo)體晶片表面的薄層輻射敏感材料(稱為抗蝕劑)上的過程
2023-04-25 09:55:131057 151n光刻膠曝光顯影后開口底部都會(huì)有一撮殘留,找不到原因。各位幫分析下
2023-04-20 13:13:52
,引領(lǐng)OpenHarmony在高校的生態(tài)發(fā)展,從而進(jìn)一步推動(dòng)產(chǎn)學(xué)研用形成閉環(huán)。目前技術(shù)俱樂部的核心問題是要通過人才培養(yǎng)來解決制約產(chǎn)業(yè)發(fā)展的核心問題,同時(shí)與生態(tài)中的一流企業(yè)深入地合作,充分利用高校的優(yōu)勢(shì)
2023-04-19 15:12:22
SEMC接口支持4種設(shè)備,我想確認(rèn)以下問題:1、是否支持在同一個(gè)工程中通過SEMC接口訪問兩個(gè)不同的設(shè)備,比如外接SDRAM插件,外接SRAM,同一個(gè)工程中需要與兩個(gè)外設(shè)進(jìn)行數(shù)據(jù)交互。2、如果支持,兩個(gè)設(shè)備切換時(shí)延遲多少?
2023-04-17 08:23:31
光刻機(jī)是芯片智造的核心設(shè)備之一,也是當(dāng)下尤為復(fù)雜的精密儀器之一。正因?yàn)榇耍商m光刻機(jī)智造商阿斯麥通研制的EUV光刻機(jī)才會(huì)“千金難求”。 很多人都對(duì)光刻機(jī)有所耳聞,但其實(shí)不同光刻機(jī)的用途并不
2023-04-06 08:56:49679 世界各地的一流時(shí)頻企業(yè)及行業(yè)專家一同參加,共同交流促進(jìn)時(shí)頻行業(yè)發(fā)展。 WSTS國(guó)際同步授時(shí)系統(tǒng)展覽會(huì)暨研討會(huì),作為全球時(shí)頻行業(yè)發(fā)展的風(fēng)向標(biāo),是全球極具影響力的時(shí)頻領(lǐng)域?qū)I(yè)會(huì)議之一。 本次WSTS展覽會(huì)
2023-03-31 16:55:13316 萬能試驗(yàn)機(jī)是一個(gè)非常重要的測(cè)試設(shè)備,廣泛應(yīng)用于各種領(lǐng)域。選擇合適的品牌和型號(hào)的萬能試驗(yàn)機(jī)能夠提高測(cè)試的準(zhǔn)確性和穩(wěn)定性,為工程師、科研人員和生產(chǎn)廠家提供更好的測(cè)試數(shù)據(jù),促進(jìn)材料科學(xué)和工程技術(shù)的發(fā)展。
2023-03-30 11:45:31422 共同發(fā)布并展出了多個(gè)創(chuàng)新解決方案,以IoT技術(shù)助力酒店行業(yè)實(shí)現(xiàn)數(shù)智化升級(jí)。 作為國(guó)內(nèi)首個(gè)定位于酒店及商業(yè)空間的大型展會(huì),上海酒店工程展覆蓋多個(gè)酒店及商業(yè)空間建設(shè)與運(yùn)營(yíng)所需產(chǎn)品,為酒店行業(yè)的發(fā)展提供了一站式平臺(tái)。據(jù)悉,本屆上海酒店工程展有超2,100多家展商
2023-03-29 15:24:58790 2023年05月17-19日 上海世博展覽館-浦東 01 前? ? ? 言 2023中國(guó)(上海)國(guó)際計(jì)量測(cè)試技術(shù)與設(shè)備博覽會(huì) 計(jì)量是實(shí)現(xiàn)單位統(tǒng)一、保證量值準(zhǔn)確可靠的活動(dòng),是科技創(chuàng)新、產(chǎn)業(yè)發(fā)展
2023-03-28 15:43:08427 光刻是將設(shè)計(jì)好的電路圖從掩膜版轉(zhuǎn)印到晶圓表面的光刻膠上,通過曝光、顯影將目標(biāo)圖形印刻到特定材料上的技術(shù)。光刻工藝包括三個(gè)核心流程:涂膠、對(duì)準(zhǔn)和曝光以及光刻膠顯影,整個(gè)過程涉及光刻機(jī),涂膠顯影機(jī)、量測(cè)設(shè)備以及清洗設(shè)備等多種核心設(shè)備,其中價(jià)值量最大且技術(shù)壁壘最高的部分就是光刻機(jī)。
2023-03-25 09:32:394948 南京匯科生物工程設(shè)備有限公司是由國(guó)家生化工程技術(shù)研究中心和南京工業(yè)大學(xué)的科研骨干共同出資組建的高科技公司,擁有全資子公司南京天匯生物技術(shù)裝備有限公司,主要從事生化過程新設(shè)備和控制系統(tǒng)研制、生化過程
2023-03-24 14:04:07282 GTC 2023 NVIDIA將加速計(jì)算引入半導(dǎo)體光刻 計(jì)算光刻技術(shù)提速40倍 NVIDIA cuLitho的計(jì)算光刻庫可以將計(jì)算光刻技術(shù)提速40倍。這對(duì)于半導(dǎo)體制造而言極大的提升了效率。甚至可以說
2023-03-23 18:55:377488
評(píng)論
查看更多