，而光刻工藝又是精密電子元器件制造的關(guān)鍵流程，這使得光刻膠在整個(gè)電子元器件加工產(chǎn)業(yè)，都有著至關(guān)重要的地位。 本文簡(jiǎn)要介紹幾種代表性光刻膠的成分和機(jī)理，重點(diǎn)是光刻膠的新技術(shù)應(yīng)用，以及國(guó)產(chǎn)化機(jī)會(huì)。 ? 光刻膠主要成分 ?
2022-04-25 17:35:22
9350 
關(guān)鍵詞：氧氣、微氣泡、光刻膠、高劑量離子注入、氣水界面 介紹? ??? 微氣泡是一種很有前途的環(huán)保光刻膠去除方法的候選方法。已經(jīng)證明，臭氧微氣泡可以去除硅片上的光刻劑，即使被高劑量的離子注入破壞
2022-01-10 11:37:131396 
光刻膠為何要謀求國(guó)產(chǎn)替代？中國(guó)國(guó)產(chǎn)光刻膠企業(yè)的市場(chǎng)發(fā)展機(jī)會(huì)和挑戰(zhàn)如何？光刻膠企業(yè)發(fā)展要具備哪些核心競(jìng)爭(zhēng)力？在南京半導(dǎo)體大會(huì)期間，徐州博康公司董事長(zhǎng)傅志偉和研發(fā)總監(jiān)潘新剛給我們帶來(lái)前沿觀點(diǎn)和獨(dú)家分析。
2022-08-29 15:02:235918 
波長(zhǎng)不同，可分為g線(xiàn)（436nm）、i線(xiàn)（365nm）、KrF（248nm），ArF（193nm）以及EUV光刻膠，其中KrF、ArF和EUV光刻膠被認(rèn)為是高端光刻膠，目前國(guó)內(nèi)幾乎空白。 ? 日本壟斷全球光刻膠大部分市場(chǎng)份額，全球排名前四的光刻膠廠(chǎng)商都來(lái)自日本，包括合成橡膠
2021-07-03 07:47:0023642 ，增幅11.11%。 ? 截圖自企查查 ? 光刻膠是芯片制造中光刻環(huán)節(jié)的重要材料，目前主要被日美把控，國(guó)內(nèi)在光刻膠方面投入研制的廠(chǎng)商主要晶瑞股份、南大光電、上海新陽(yáng)、徐州博康、北京科華等，那么華為投資的徐州博康在光刻膠方面有何優(yōu)勢(shì)，國(guó)內(nèi)廠(chǎng)商在光
2021-08-12 07:49:005380 電子發(fā)燒友原創(chuàng) 章鷹 ? 近日，全球半導(dǎo)體市場(chǎng)規(guī)模增長(zhǎng)帶動(dòng)了上游半導(dǎo)體材料旺盛需求，“光刻膠”的突破也成為國(guó)內(nèi)關(guān)注焦點(diǎn)。正當(dāng)日本光刻膠企業(yè)JSR、東京應(yīng)化和美國(guó)Lam Research在EUV光刻膠
2022-08-31 07:45:002718 介紹了高速高精度國(guó)產(chǎn)化DA轉(zhuǎn)換器的實(shí)際應(yīng)用
2016-11-28 23:28:43
介紹了國(guó)產(chǎn)化DA轉(zhuǎn)換器的使用方法及實(shí)際應(yīng)用舉例
2016-11-28 23:22:46
一、光刻膠的選擇光刻膠包括兩種基本的類(lèi)型：正性光刻和負(fù)性光刻，區(qū)別如下
2021-01-12 10:17:47
:1倍的在硅片上直接分步重復(fù)曝光系統(tǒng)?！」庵驴刮g劑 簡(jiǎn)稱(chēng)光刻膠或抗蝕劑，指光照后能改變抗蝕能力的高分子化合物。光蝕劑分為兩大類(lèi)。①正性光致抗蝕劑：受光照部分發(fā)生降解反應(yīng)而能為顯影液所溶解。留下的非
2012-01-12 10:51:59
越好，NA越大越好，這樣光刻機(jī)分辨率就越高，制程工藝越先進(jìn)。） 最初的浸入式光刻就是很簡(jiǎn)單的在晶圓光刻膠上加1mm厚的水，水可以把193nm的光波長(zhǎng)折射成134nm，后來(lái)不斷改進(jìn)高NA鏡片、多光照
2020-07-07 14:22:55
/㎝2條件下進(jìn)行曝光。曝光結(jié)束后，選擇合適的烘烤溫度及時(shí)間。將晶片在顯影液中浸漬顯影，隨后用氮?dú)獯蹈?。AZ光刻膠AZ光刻膠刻蝕厚度從1μm到150μm以及更厚。高感光度,高產(chǎn)出率；高附著性,特別為濕法刻蝕工藝
2018-07-12 11:57:08
（電子科技大學(xué) 微電子與固體電子學(xué)院，成都 610054）摘 要：光刻膠技術(shù)是曝光技術(shù)中重要的組成部分,高性能的曝光工具需要有與之相配套的高性能的光刻膠才能真正獲得高分辨率的加工能力。主要圍繞光刻膠
2018-08-23 11:56:31
光刻膠也稱(chēng)為光致抗蝕劑，是一種光敏材料，它受到光照后特性會(huì)發(fā)生改變。光刻膠主要用來(lái)將光刻掩膜版上的圖形轉(zhuǎn)移到晶圓片上。光刻膠有正膠和負(fù)膠之分。正膠經(jīng)過(guò)曝光后，受到光照的部分變得容易溶解，經(jīng)過(guò)顯影后被
2019-11-07 09:00:18
這是我的版圖一部分，然后生成了圖案是這樣的： 感覺(jué)間距小的地方全都有殘留，間距大的地方?jīng)]有殘留；工藝參數(shù)：s9920光刻膠， evg 620‘未進(jìn)行蒸汽底漆層涂覆，前烘：100攝氏度，90s
2016-11-29 14:59:18
我從國(guó)外買(mǎi)了2根飛利浦5000K全色譜熒光燈管，這種燈管專(zhuān)門(mén)用于對(duì)色燈箱，我把它當(dāng)成室內(nèi)照明進(jìn)行使用，效果很好，看物體感覺(jué)很舒服，顯色指數(shù)達(dá)到98，但我在國(guó)內(nèi)市場(chǎng)上找不到這種性能的燈管，現(xiàn)在LED
2016-03-28 15:34:09
、 軟硬件集成測(cè)試、功能安全技術(shù)等。目前，國(guó)內(nèi)缺口最大的就是BMS相關(guān)核心芯片。然而，BMS芯片市場(chǎng)長(zhǎng)期被TI、ADI、NXP等歐美企業(yè)壟斷。不管是消費(fèi)級(jí)、工業(yè)級(jí)還是車(chē)規(guī)級(jí)，90%多為進(jìn)口，國(guó)產(chǎn)化率不高
2022-09-23 09:45:09
100μm并具有極高的分辨率。 NR5 系列 NR5-系列負(fù)性光刻膠，用于深度離子蝕刻（RIE）中的厚膜掩膜工藝。 PR1 系列 正性光刻膠，用于光刻，蝕刻和高溫制程。 IC1/DC5 系列 作為
2010-04-21 10:57:46
環(huán)境濕度太大，使膠與玻璃表面粘附不良。因此，得注意做好玻璃表面清潔處理和操作的環(huán)境的溫，濕度及清潔工作。2）光刻膠配制有誤或膠陳舊不純，膠的光化學(xué)反應(yīng)性能不好，使膠與ITO層成健能力差，或者膠膜不均勻
2018-11-22 16:04:49
%的國(guó)產(chǎn)化，而高折射率國(guó)產(chǎn)封裝膠也已經(jīng)占據(jù)國(guó)內(nèi)市場(chǎng)份額的60%左右。2016年，因?yàn)榛ぴ牧蟽r(jià)格的上漲和LED行業(yè)的趨穩(wěn)回暖，LED封裝膠價(jià)格在下半年開(kāi)始止跌，市場(chǎng)規(guī)模開(kāi)始逐漸提高，但是因?yàn)?b class="flag-6" style="color: red">國(guó)內(nèi)涉及
2018-09-27 12:03:58
SU 8光刻膠系列產(chǎn)品簡(jiǎn)介：新型的化學(xué)增幅型負(fù)像 SU- 8 膠是一種負(fù)性、環(huán)氧樹(shù)脂型、近紫外線(xiàn)光刻膠，克服了普通光刻膠采用 UV光刻導(dǎo)致的深寬比不足的問(wèn)題，十分適合于制備高深寬比微結(jié)構(gòu)。SU- 8
2018-07-04 14:42:34
高科技領(lǐng)域，大型設(shè)備備件仍然長(zhǎng)期依賴(lài)進(jìn)口，不僅價(jià)格昂貴，而且訂貨周期長(zhǎng)，再加上國(guó)外備件更新速度快，國(guó)內(nèi)企業(yè)無(wú)法跟上或買(mǎi)到，企業(yè)的生產(chǎn)經(jīng)營(yíng)將受到嚴(yán)重制約。由此可知引進(jìn)設(shè)備備件必須走國(guó)產(chǎn)化之路，降低維修成本。那么
2014-04-28 14:40:53
lithography是一種平板印刷技術(shù)，在平面光波回路的制作中一直發(fā)揮著重要的作用。具體過(guò)程如下：首先在二氧化硅為主要成分的芯層材料上面，淀積一層光刻膠；使用掩模版對(duì)光刻膠曝光固化，并在
2018-08-24 16:39:21
請(qǐng)問(wèn)各位，誰(shuí)知道這個(gè)芯片有什么國(guó)產(chǎn)化替代方案嗎
2022-06-27 10:38:38
://www.wetsemi.com/index.html 關(guān)鍵詞：光刻膠附著力，砷化鎵，濕蝕刻，表面處理，輪廓 概要報(bào)告了幾個(gè)旨在修復(fù) InGaP/GaAs NPN HBT 噴霧濕法化學(xué)蝕刻期間光刻膠粘附失效
2021-07-06 09:39:22
項(xiàng)目名稱(chēng)：儀器國(guó)產(chǎn)化替代試用計(jì)劃：我們的儀器現(xiàn)在購(gòu)買(mǎi)國(guó)外的器件交期越來(lái)越長(zhǎng)，國(guó)產(chǎn)替代迫在眉睫。需要替換的器件有AD DA 運(yùn)放FPGA
2020-07-16 10:27:27
`在今年4月份，F(xiàn)irefly推出了基于RK3399的全國(guó)產(chǎn)化核心板后，引起了業(yè)界的廣泛關(guān)注。為了更好地推進(jìn)國(guó)內(nèi)科技產(chǎn)業(yè)的發(fā)展，F(xiàn)irefly繼續(xù)深入開(kāi)發(fā)穩(wěn)定的國(guó)產(chǎn)化平臺(tái)，形成了國(guó)產(chǎn)化系列。目前已在
2021-06-15 10:21:22
。正性光刻膠在半導(dǎo)體制造中使用得最多，因其可以達(dá)到更高的分辨率，從而讓它成為光刻階段更好的選擇?，F(xiàn)在世界上有不少公司生產(chǎn)用于半導(dǎo)體制造的光刻膠。 光刻光刻在芯片制造過(guò)程中至關(guān)重要，因?yàn)樗鼪Q定了芯片上的晶體管
2022-04-08 15:12:41
光刻技術(shù)中,涂有光刻膠的硅片與掩膜版直接接觸.由于光刻膠和掩膜版之間緊密接觸,因此可以得到比較高的分辨率.接觸式暴光的主要問(wèn)題是容易損傷掩膜版和光刻膠.當(dāng)掩膜版與硅片接觸和對(duì)準(zhǔn)時(shí),硅片上很小的灰塵
2012-01-12 10:56:23
我從國(guó)外買(mǎi)了2根飛利浦5000K全色譜熒光燈管，這種燈管專(zhuān)門(mén)用于對(duì)色燈箱，我把它當(dāng)成室內(nèi)照明進(jìn)行使用，效果很好，看物體感覺(jué)很舒服，顯色指數(shù)達(dá)到98，但我在國(guó)內(nèi)市場(chǎng)上找不到這種性能的燈管，現(xiàn)在LED
2016-03-24 14:22:15
封裝測(cè)試所有環(huán)節(jié)的純國(guó)產(chǎn)化和自主化，并已成功量產(chǎn)，標(biāo)志著國(guó)內(nèi)SLCNANDFlash產(chǎn)品正式邁入24nm先進(jìn)制程工藝時(shí)代。該創(chuàng)新技術(shù)產(chǎn)品有助于進(jìn)一步豐富兆易創(chuàng)新的存儲(chǔ)類(lèi)產(chǎn)品線(xiàn)，為客戶(hù)提供更優(yōu)化的大容量代碼存儲(chǔ)解決方案。
2020-11-26 06:29:11
兆易創(chuàng)新推出全國(guó)產(chǎn)化24nm SPI NAND Flash
2021-01-07 06:34:47
了滿(mǎn)足客戶(hù)對(duì)國(guó)產(chǎn)化的需求，飛凌也做了很大的努力。二、飛凌在國(guó)產(chǎn)化道路上做的努力1、積極引入國(guó)產(chǎn)化平臺(tái)，與國(guó)產(chǎn)芯片企業(yè)共同成長(zhǎng)在國(guó)產(chǎn)化大潮涌動(dòng)的嵌入式市場(chǎng)中，飛凌嵌入式積極主動(dòng)地和各個(gè)國(guó)產(chǎn)芯片廠(chǎng)家合作，引入
2022-09-16 14:32:37
半導(dǎo)體材料市場(chǎng)構(gòu)成：在半導(dǎo)體材料市場(chǎng)構(gòu)成方面，大硅片占比最大，占比為32.9%。其次為氣體，占比為14.1%，光掩膜排名第三，占比 為12.6%，其后：分別為拋光液和拋光墊、光刻膠配套試劑、光刻膠、濕化學(xué)品、建設(shè)靶材，比分別為7.2%、6.9%、 6.1%、4%和3%。
2021-01-22 10:48:36
壓力變感器，尤其是差壓變送器在我國(guó)石化行業(yè)大量使用。變送器來(lái)源的絕大多數(shù)依靠進(jìn)口，不僅價(jià)格昂貴，而且，由于不具有自主知識(shí)產(chǎn)權(quán)，很有可能暗藏潛在威脅。能源安全關(guān)乎國(guó)家安全，因此傳感器國(guó)產(chǎn)化迫在眉睫。
2019-10-08 06:50:15
噴膠機(jī)是現(xiàn)代光電子產(chǎn)業(yè)中光刻膠涂布的重要設(shè)備?？蓪?duì)不同尺寸和形狀的基片進(jìn)行涂膠，最大涂膠尺寸達(dá)8寸，得到厚度均勻的光刻膠層，同時(shí)可對(duì)大深寬比結(jié)構(gòu)的側(cè)壁進(jìn)行均勻涂膠；通過(guò)計(jì)算機(jī)系統(tǒng)控制器進(jìn)行工藝參數(shù)的編輯和操作。
2020-03-23 09:00:57
５０ ｓ。用金相顯微鏡測(cè)試了在優(yōu)化工藝參數(shù)條件下制作的光刻膠圖形的分辨率，同時(shí)對(duì)圖形反轉(zhuǎn)機(jī)理進(jìn)行了討論。關(guān)鍵詞：光刻；ＡＺ?５２１４；剝離工藝；圖形反轉(zhuǎn)；斷面模擬
2009-10-06 10:05:30
國(guó)產(chǎn)FPGA正在面臨挑戰(zhàn)如何選擇國(guó)產(chǎn)化替代FPGA產(chǎn)品
2021-03-02 06:30:14
怎樣去學(xué)習(xí)FMG0國(guó)產(chǎn)化復(fù)旦微開(kāi)發(fā)板呢？
2021-10-27 06:28:28
的解決，工業(yè)自動(dòng)化系統(tǒng)市場(chǎng)在近若干年仍將由外國(guó)產(chǎn)品占主要地位。據(jù)了解，世界工業(yè)500強(qiáng)中的工業(yè)自動(dòng)化跨國(guó)公司都已進(jìn)入國(guó)內(nèi)市場(chǎng)，在提供產(chǎn)品、技術(shù)、服務(wù)給國(guó)內(nèi)用戶(hù)的過(guò)程中，占據(jù)了很大的市場(chǎng)份額。
2021-07-01 10:58:19
本人是菜鳥(niǎo) 需要在玻璃上光刻普通的差值電極 以前一直在硅片上面光刻 用的光刻膠是AZ5214E 正膠 同樣的工藝和參數(shù)在玻璃上附著力差了很多 懇請(qǐng)哪位高人指點(diǎn)一下PS 插值電極的距離為25微米 小女子這廂謝過(guò)了
2010-12-02 20:40:41
涂敷光刻膠 光刻制造過(guò)程中，往往需采用20-30道光刻工序，現(xiàn)在技術(shù)主要采有紫外線(xiàn)(包括遠(yuǎn)紫外線(xiàn))為光源的光刻技術(shù)。光刻工序包括翻版圖形掩膜制造，硅基片表面光刻膠的涂敷、預(yù)烘、曝光、顯影、后烘、腐蝕
2019-08-16 11:11:34
本帖最后由 Tronlong創(chuàng)龍科技 于 2023-6-15 16:57 編輯
創(chuàng)龍科技RK3568J核心板獲得“100%國(guó)產(chǎn)化”認(rèn)證
日前，創(chuàng)龍科技“國(guó)產(chǎn)化率100%認(rèn)證”的核心板再添一員
2023-06-15 16:56:01
151n光刻膠曝光顯影后開(kāi)口底部都會(huì)有一撮殘留，找不到原因。各位幫分析下
2023-04-20 13:13:52
、恩智浦、英飛凌、德州儀器、微芯科技、意法半導(dǎo)體等國(guó)際大廠(chǎng)，市場(chǎng)占有率合計(jì)超95%，國(guó)內(nèi)市場(chǎng)同樣如此，國(guó)產(chǎn)化率不足5%。與商規(guī)、工規(guī)相比，車(chē)規(guī)級(jí)MCU的要求極為嚴(yán)苛，壽命要達(dá)到15年以上，且要支持-40
2023-02-03 13:49:45
本帖最后由 火調(diào)王工 于 2015-1-23 11:56 編輯
BOM見(jiàn)圖，手邊一個(gè)芯片國(guó)產(chǎn)化項(xiàng)目，其中我努力找了部分，但是關(guān)鍵的電源部分還是沒(méi)有找到特別合適的替換途徑，我記得有那么一個(gè)專(zhuān)門(mén)
2015-01-04 13:51:20
◆ 全國(guó)產(chǎn)化設(shè)計(jì)，2盤(pán)位組Raid 0，對(duì)外提供多路的高速數(shù)據(jù)接口；◆ 采用豐科NVME存儲(chǔ)架構(gòu)，可通過(guò)千兆/萬(wàn)兆網(wǎng)口提供FTP或網(wǎng)盤(pán)訪(fǎng)問(wèn)功能；◆ 具有全國(guó)產(chǎn)、低功耗、小尺寸，提供標(biāo)準(zhǔn)eXFAT文件系統(tǒng)的特性，可廣泛應(yīng)用相關(guān)領(lǐng)域的數(shù)據(jù)采集記錄存儲(chǔ)及數(shù)據(jù)管理；
2022-08-24 10:33:55
PMT-2離線(xiàn)光刻膠微粒子計(jì)數(shù)器是一款新型液體顆粒監(jiān)測(cè)儀器。采用激光光散或光阻原理的顆粒檢測(cè)傳感器，可以對(duì)超純水、自來(lái)水、飲用水、去離子水、礦泉水、蒸餾水、無(wú)機(jī)化學(xué)品、有機(jī)化學(xué)品、有機(jī)溶劑、清洗劑
2022-12-14 10:44:24
PMT-2在線(xiàn)光刻膠液體粒子計(jì)數(shù)器，采用英國(guó)普洛帝核心技術(shù)創(chuàng)新型的第八代雙激光窄光顆粒檢測(cè)傳感器，雙精準(zhǔn)流量控制-精密計(jì)量柱塞泵和超精密流量電磁控制系統(tǒng)，可以對(duì)清洗劑、半導(dǎo)體、超純水
2023-01-03 15:54:49
光刻膠與光刻工藝技術(shù) 微電路的制造需要把在數(shù)量上精確控制的雜質(zhì)引入到硅襯底上的微小 區(qū)域內(nèi),然后把這些區(qū)域連起來(lái)以形成器件和VLSI電路.確定這些區(qū)域圖形 的工藝是由光刻來(lái)完成的,也就是說(shuō),首先在硅片上旋轉(zhuǎn)涂覆光刻膠,再將 其曝露于某種光源下,如紫外光,
2011-03-09 16:43:21
0 這是一種老式的旋轉(zhuǎn)涂膠機(jī)，將芯片上涂上光刻膠然后將芯片放到上邊，可以通過(guò)機(jī)器的旋轉(zhuǎn)的力度將光刻膠均勻分布到芯片表面，光刻膠只有均勻涂抹在芯片表面，才能保證光刻的成功。
2018-05-17 14:39:3718498 默克與中電彩虹的創(chuàng)新合作項(xiàng)目光刻膠國(guó)產(chǎn)化項(xiàng)目于 7 月 17 日在陜西咸陽(yáng)正式竣工。
2018-07-19 09:09:387064 在國(guó)家政策與市場(chǎng)的雙重驅(qū)動(dòng)下，近年來(lái)，國(guó)內(nèi)企業(yè)逐步向面板、半導(dǎo)體光刻膠發(fā)力……
2019-04-23 16:15:3612831 
從經(jīng)開(kāi)區(qū)企業(yè)北京欣奕華科技有限公司（以下簡(jiǎn)稱(chēng)“欣奕華”）了解到，經(jīng)過(guò)多年的行業(yè)累積和技術(shù)迭代，欣奕華在平板顯示用負(fù)性光刻膠領(lǐng)域?qū)崿F(xiàn)了量產(chǎn)，預(yù)計(jì)今年將有1000噸的光刻膠交付用戶(hù)，約占國(guó)內(nèi)市場(chǎng)的8%。
2019-10-28 16:38:493761 隨著電子信息產(chǎn)業(yè)發(fā)展的突飛猛進(jìn)，光刻膠市場(chǎng)總需求不斷提升。2019年全球光刻膠市場(chǎng)規(guī)模預(yù)計(jì)接近90億美元，自2010年至今CAGR約5.4%，預(yù)計(jì)未來(lái)3年仍以年均5%的速度增長(zhǎng)，預(yù)計(jì)至2022年全球光刻膠市場(chǎng)規(guī)模將超過(guò)100億美元。
2020-03-01 19:02:484098 在國(guó)際半導(dǎo)體領(lǐng)域，我國(guó)雖已成為半導(dǎo)體生產(chǎn)大國(guó)，但整個(gè)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈仍比較落后。特別是由于國(guó)內(nèi)光刻膠廠(chǎng)布局較晚，半導(dǎo)體光刻膠技術(shù)相較于海外先進(jìn)技術(shù)差距較大，國(guó)產(chǎn)化不足5%。在這種條件下，國(guó)內(nèi)半導(dǎo)體廠(chǎng)商積極開(kāi)展研究，如晶瑞股份的KrF光刻膠，南大光電的ArF光刻膠均取得較好的研究效果。
2020-03-06 15:40:564165 與ASML一臺(tái)售價(jià)媲美一架F35 戰(zhàn)斗機(jī)，達(dá)到1億以上歐元的NXE3400B EVU設(shè)備比較起來(lái)，全球市場(chǎng)規(guī)模只有90億美元的光刻膠就要不顯眼許多。
2020-03-29 17:04:003758 光刻膠按應(yīng)用領(lǐng)域分類(lèi)，大致分為L(zhǎng)CD光刻膠、PCB光刻膠（感光油墨）與半導(dǎo)體光刻膠等。按照下游應(yīng)用來(lái)看，目前LCD光刻膠占比26．6%，刻膠占比24．5%，半導(dǎo)體光刻膠占比24．1%，PCB光其他類(lèi)光刻膠占比24．8%。
2020-06-12 17:13:395380 等光刻工序?qū)⑺枰奈⒓?xì)圖形從光罩（掩模版）轉(zhuǎn)移到待加工基片上。依據(jù)使用場(chǎng)景，這里的待加工基片可以是集成電路材料，顯示面板材料或者印刷電路板。 據(jù)第三方機(jī)構(gòu)智研咨詢(xún)統(tǒng)計(jì)，2019年全球光刻膠市場(chǎng)規(guī)模預(yù)計(jì)近90億美元，
2020-09-15 14:00:1416535 全球光刻膠市場(chǎng)規(guī)模從2016 年的15 億美元增長(zhǎng)至2019年的18億美元，年復(fù)合增長(zhǎng)率達(dá)6.3%；應(yīng)用方面，光刻膠主要應(yīng)用在PCB、半導(dǎo)體及LCD顯示等領(lǐng)域，各占約25%市場(chǎng)份額。
2020-09-21 11:28:043290 
開(kāi)發(fā)行股票計(jì)劃募集資金總額不超過(guò)人民幣 120,000.00萬(wàn)元，扣除發(fā)行費(fèi)用后的募集資金凈額擬投入以下項(xiàng)目。其中，有8.5億元將會(huì)投入到新一代電子信息材料國(guó)產(chǎn)化項(xiàng)目-光刻膠及光刻膠配套試劑研發(fā)當(dāng)中。 雅克科技于2010年在深交所中小企業(yè)板上市，主
2020-09-24 10:32:014540 
全球光刻膠市場(chǎng)規(guī)模從2016 年的15 億美元增長(zhǎng)至2019年的18億美元，年復(fù)合增長(zhǎng)率達(dá)6.3%；應(yīng)用方面，光刻膠主要應(yīng)用在PCB、半導(dǎo)體及LCD顯示等領(lǐng)域，各占約25%市場(chǎng)份額。 國(guó)內(nèi)光刻膠整體
2020-10-10 17:40:252957 光刻膠是由感光樹(shù)脂、增感劑和溶劑三種主要成份組成的、對(duì)光敏感的混合液體。利用光化學(xué)反應(yīng)，經(jīng)曝光、顯影、刻蝕等工藝將所需要的微細(xì)圖形從掩模版轉(zhuǎn)移到待加工基片上的圖形轉(zhuǎn)移介質(zhì)，其中曝光是通過(guò)紫外光
2022-12-06 14:53:541238 稱(chēng)，“ArF 光刻膠產(chǎn)品開(kāi)發(fā)和產(chǎn)業(yè)化”是寧波南大光電承接國(guó)家“02 專(zhuān)項(xiàng)”的一個(gè)重點(diǎn)攻關(guān)項(xiàng)目。本次產(chǎn)品的認(rèn)證通過(guò)，標(biāo)志著“ArF 光刻膠產(chǎn)品開(kāi)發(fā)和產(chǎn)業(yè)化”項(xiàng)目取得了關(guān)鍵性的突破，成為國(guó)內(nèi)通過(guò)產(chǎn)品驗(yàn)證的第一只國(guó)產(chǎn) ArF 光刻膠。? 此舉意味著國(guó)產(chǎn)193nm ArF 光刻膠產(chǎn)
2020-12-25 18:24:096227 近期，專(zhuān)注于電子材料市場(chǎng)研究的TECHCET發(fā)布最新統(tǒng)計(jì)和預(yù)測(cè)數(shù)據(jù)：2021年，半導(dǎo)體制造所需的光刻膠市場(chǎng)規(guī)模將同比增長(zhǎng)11％，達(dá)到19億美元。
2021-03-22 10:51:125081 ，但關(guān)鍵在于能造是一回事，能用是另一回事，這其實(shí)也是半導(dǎo)體材料產(chǎn)業(yè)的核心問(wèn)題所在。 01純度 無(wú)論是氟化氫、聚酰亞胺、光刻膠還是硅片，純度是其最核心的標(biāo)準(zhǔn)之一。比如對(duì)于光刻膠來(lái)說(shuō)，目前國(guó)外的光刻膠阻抗可以做到10^15，國(guó)內(nèi)基本上
2021-05-11 13:46:382922 
由于KrF光刻膠產(chǎn)能受限以及全球晶圓廠(chǎng)積極擴(kuò)產(chǎn)等，占據(jù)全球光刻膠市場(chǎng)份額超兩成的日本供應(yīng)商信越化學(xué)已經(jīng)向中國(guó)大陸多家一線(xiàn)晶圓廠(chǎng)限制供貨KrF光刻膠，且已通知更小規(guī)模晶圓廠(chǎng)停止供貨KrF光刻膠
2021-06-25 16:12:28784 大漲9.72%，雅克科技大漲9.93%，強(qiáng)力新材、上海新陽(yáng)、彤程新材等跟漲。 光刻膠板塊的大漲吸引了產(chǎn)業(yè)注意 ，國(guó)產(chǎn)光刻膠再遇發(fā)展良機(jī)？ KrF光刻膠海外供應(yīng)告急 據(jù)了解，光刻膠板塊本輪異動(dòng)的背后，是KrF光刻膠海外供應(yīng)告急。自日本福島2月份發(fā)生強(qiáng)震后，光刻膠市場(chǎng)一度傳
2021-05-28 10:34:152623 光刻膠是光刻機(jī)研發(fā)的重要材料，換句話(huà)說(shuō)光刻機(jī)就是利用特殊光線(xiàn)將集成電路映射到硅片的表面，如果想要硅片的表面不留下痕跡，就需要網(wǎng)硅片上涂一層光刻膠。
2022-02-05 16:11:0011281 本文提出了一種新型的雙層光阻劑方法來(lái)減少負(fù)光阻劑浮渣。選擇正光刻膠作為底層抗蝕劑，選擇負(fù)光刻膠作為頂層抗蝕膠。研究了底層抗蝕劑的粘度和厚度對(duì)浮渣平均數(shù)量的影響。實(shí)驗(yàn)表明，低粘度正光刻膠AZ703
2022-03-24 16:04:23756 
灰化，簡(jiǎn)單的理解就是用氧氣把光刻膠燃燒掉，光刻膠的基本成分是碳?xì)溆袡C(jī)物，在射頻或微波作用下，氧氣電離成氧原子并與光刻膠發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，生成一氧化碳，二氧化碳和水等，再通過(guò)泵被真空抽走，完成光刻膠的去除。
2022-07-21 11:20:174871 光刻膠產(chǎn)品說(shuō)明英文版資料分享。
2022-08-12 16:17:252 南大光電最新消息顯示，國(guó)產(chǎn)193nm（ArF）光刻膠研發(fā)成功，這家公司成為通過(guò)國(guó)家“02專(zhuān)項(xiàng)”驗(yàn)收的ArF光刻膠項(xiàng)目實(shí)施主體；徐州博康宣布，該公司已開(kāi)發(fā)出數(shù)十種高端光刻膠產(chǎn)品系列，包括
2022-08-31 09:47:141285 光刻膠的組成：樹(shù)脂（resin/polymer），光刻膠中不同材料的粘合劑，給與光刻膠的機(jī)械與化學(xué)性質(zhì)（如粘附性、膠膜厚度、熱穩(wěn)定性等）；感光劑，感光劑對(duì)光能發(fā)生光化學(xué)反應(yīng)；溶劑（Solvent
2022-10-21 16:40:0415831 半導(dǎo)體光刻膠用光敏材料仍屬于“卡脖子”產(chǎn)品，海外進(jìn)口依賴(lài)較重，不同品質(zhì)之間價(jià) 格差異大。以國(guó)內(nèi) PAG 對(duì)應(yīng)的化學(xué)放大型光刻膠（主要是 KrF、ArF 光刻膠）來(lái)看，樹(shù)脂在 光刻膠中的固含量
2022-11-18 10:07:432574 光刻膠是IC制造的核心耗材，技術(shù)壁壘極高。根據(jù)TECHCET數(shù)據(jù)，預(yù)計(jì)2022年全球半導(dǎo)體光刻膠市場(chǎng)規(guī)模達(dá)到23億美元，同比增長(zhǎng)7.5%，2025年超過(guò)25億美元。
2023-03-21 14:00:492095 來(lái)源：欣奕華材料 據(jù)欣奕華材料官微消息，近日，國(guó)內(nèi)光刻膠龍頭企業(yè)阜陽(yáng)欣奕華材料科技有限公司（以下簡(jiǎn)稱(chēng)“阜陽(yáng)欣奕華”）完成超5億元人民幣 D 輪融資。 據(jù)悉，本輪融資由盛景嘉成母基金
2023-06-13 16:40:00552 芯片制造的國(guó)產(chǎn)化任重道遠(yuǎn)，比如在EDA工具的國(guó)產(chǎn)化、光刻機(jī)等，國(guó)產(chǎn)化都還有很長(zhǎng)的路要走。有統(tǒng)計(jì)數(shù)據(jù)顯示，目前階段我國(guó)在清洗、熱處理、去膠設(shè)備的國(guó)產(chǎn)化率分別達(dá)到34％、40％、90％，在涂膠顯影、刻蝕
2023-08-09 11:50:204183 光刻膠在未曝光之前是一種黏性流體，不同種類(lèi)的光刻膠具有不同的黏度。黏度是光刻膠的一項(xiàng)重要指標(biāo)。那么光刻膠的黏度為什么重要？黏度用什么表征？哪些光刻膠算高黏度，哪些算低黏度呢？
2023-11-13 18:14:11571 
勻膠是光刻中比較重要的一步，而旋涂速度是勻膠中至關(guān)重要的參數(shù)，那么我們?cè)趧蚰z時(shí)，是如何確定勻膠速度呢？它影響光刻膠的哪些性質(zhì)？
2023-12-15 09:35:56442 
光刻膠主要下游應(yīng)用包括：顯示屏制造、印刷電路板生產(chǎn)、半導(dǎo)體制造等，其中顯示屏是光刻膠最大的下游應(yīng)用，占比30%。光刻膠在半導(dǎo)體制造應(yīng)用占比24%，是第三達(dá)應(yīng)用場(chǎng)景。
2024-01-03 18:12:21346 
光刻膠是一種涂覆在半導(dǎo)體器件表面的特殊液體材料，可以通過(guò)光刻機(jī)上的模板或掩模來(lái)進(jìn)行曝光。
2024-03-04 17:19:18402 與正光刻膠相比，電子束負(fù)光刻膠會(huì)形成相反的圖案?；诰酆衔锏呢?fù)型光刻膠會(huì)在聚合物鏈之間產(chǎn)生鍵或交聯(lián)。未曝光的光刻膠在顯影過(guò)程中溶解，而曝光的光刻膠則保留下來(lái)，從而形成負(fù)像。
2024-03-20 11:36:50200 
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