0
  • 聊天消息
  • 系統(tǒng)消息
  • 評論與回復(fù)
登錄后你可以
  • 下載海量資料
  • 學(xué)習(xí)在線課程
  • 觀看技術(shù)視頻
  • 寫文章/發(fā)帖/加入社區(qū)
會員中心
創(chuàng)作中心

完善資料讓更多小伙伴認(rèn)識你,還能領(lǐng)取20積分哦,立即完善>

3天內(nèi)不再提示

LCD光刻膠需求快速增長,政策及國產(chǎn)化風(fēng)向帶動國產(chǎn)廠商發(fā)展

牽手一起夢 ? 來源:新材料情報NMT ? 作者:佚名 ? 2020-06-12 17:13 ? 次閱讀

光刻膠按應(yīng)用領(lǐng)域分類,大致分為LCD光刻膠、PCB光刻膠(感光油墨)與半導(dǎo)體光刻膠等。按照下游應(yīng)用來看,目前LCD光刻膠占比26.6%,刻膠占比24.5%,半導(dǎo)體光刻膠占比24.1%,PCB光其他類光刻膠占比24.8%。

雖然國產(chǎn)替代進度最快的PCB光刻膠國產(chǎn)化率已達(dá)到50%,但技術(shù)門檻更高的 LCD 光刻膠國產(chǎn)化率在10%左右,進口替代空間巨大。

光刻膠呈現(xiàn)寡頭壟斷的局面

光刻膠行業(yè)具有極高的行業(yè)壁壘,因此在全球范圍其行業(yè)都呈現(xiàn)寡頭壟斷的局面。

從全球市場份額來看,主要由日本、美國、韓國企業(yè)所把控。目前前五大廠商占據(jù)了全球光刻膠市場87%的份額,行業(yè)集中度極高。其中,日本JSR、東京應(yīng)化、日本信越與富士電子材料市占率合計達(dá)到72%。

光刻技術(shù)隨著IC集成度的提升而不斷發(fā)展。為了滿足集成電路對密度和集成度水平的更高要求,半導(dǎo)體用光刻膠通過不斷縮短曝光波長以提高極限分辨率,世界芯片工藝水平目前已跨入微納米級別,光刻膠的波長由紫外寬譜逐步至g線(436nm)、i線(365nm)、KrF(248nm)、 ArF(193nm)、F2(157nm),以及最先進的EUV(《13.5nm)線水平。KrF和ArF光刻膠被日本、美國企業(yè)壟斷。日本在這一領(lǐng)域的控制力極大增強了日本整體的半導(dǎo)體實力。

目前我國半導(dǎo)體領(lǐng)域的g線、i線光刻膠基本可以滿足自給。而更為高端的KrF、ArF光刻膠,我國則幾乎全部依賴進口,國產(chǎn)化率存在極大的提升空間。

目前,芯片制造商使用的量產(chǎn)的最高端光刻膠為曝光波長193nm的ArF光刻膠。僅有海外企業(yè)能夠達(dá)到ArF及以上的技術(shù)水平。

在ArF光刻膠方面,JSR、信越化學(xué)、東京應(yīng)化、住友化學(xué)、富士膠片、陶氏化學(xué)分別占據(jù)24%、23%、20%、15%、8%、4%的市場份額。

在KrF光刻膠方面,東京應(yīng)化、信越化學(xué)、JSR、陶氏化學(xué)、韓國東進、富士膠片分別占據(jù)35%、22%、18%、11%、6%、5%的市場份額。

在EUV光刻膠方面,具備專利布局的前十大企業(yè)中,日本公司占有七席,并且富士膠片、信越化學(xué)、住友化學(xué)排名前三位,其專利申請數(shù)量大幅領(lǐng)先其他公司,體現(xiàn)日本在EUV光刻膠領(lǐng)域具備十分明顯的技術(shù)優(yōu)勢。

LCD光刻膠需求快速增長

全球面板市場穩(wěn)步上升,產(chǎn)能向大陸轉(zhuǎn)移,催生 LCD 光刻膠需求增長。

據(jù) IHS 2019年 6 月發(fā)布的數(shù)據(jù),2019 年全球 TFT-LCD 和 OLED 整體平板顯示容量約為 3.34 億平方米,2023 年有望上升至 3.75 億平方米,其中,TFT-LCD 面板市場容量約為 3.09 億平方米,未來需求將穩(wěn)步增長。

全球 LCD 面板產(chǎn)業(yè)經(jīng)歷了“美國研發(fā)—日本發(fā)展—韓國超越—臺灣崛起—大陸發(fā)力”的過程,美國最早研發(fā)出 LCD 技術(shù)后,80 年代后期由日本廠商將 LCD 技術(shù)產(chǎn)業(yè)化,全球面板產(chǎn)業(yè)幾乎被日本企業(yè)壟斷。

90 年代后,韓國和中國臺灣面板廠快速崛起,開始長時間主導(dǎo)市場,大陸面板自 2009 年開始發(fā)力,以京東方為首的大陸面板廠商產(chǎn)能持續(xù)翻倍增長。據(jù) IHS 數(shù)據(jù),2018 年大陸 LCD 產(chǎn)能占有率已達(dá)到 39%,預(yù)計 2023 年大陸產(chǎn)能將占全球總產(chǎn)能的 55%。

政策及國產(chǎn)化風(fēng)向帶動國產(chǎn)廠商發(fā)展

半導(dǎo)體材料和半導(dǎo)體設(shè)備作為半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈的最上游,對于產(chǎn)業(yè)的支撐意義明顯,具有同等重要的戰(zhàn)略意義。2020年至2022年是中國大陸晶圓廠投產(chǎn)高峰期,以長江存儲,長鑫存儲等新興晶圓廠和以中芯國際,華虹為代表的老牌晶圓廠正處于產(chǎn)能擴張期,未來3年將迎來密集投產(chǎn)。根據(jù)國內(nèi)晶圓廠的建設(shè)速度和規(guī)劃,預(yù)計2022年國內(nèi)半導(dǎo)體光刻膠市場是2019年的兩倍,半導(dǎo)體光刻膠市場將迎來高速發(fā)展期。

目前國內(nèi)在 LCD光刻膠領(lǐng)域有布局的國產(chǎn)廠商主要有飛凱材料、永太科技、蘇州瑞紅(晶瑞股份 100%控股)和北京科華微電子(南大光電持股 31.39%)。

飛凱材料已經(jīng)在高端的濕膜光刻膠領(lǐng)域通過下游廠商驗證,CF光刻膠已經(jīng)通過華星光電驗證。

晶瑞股份(蘇州瑞紅)承擔(dān)了國家重大科技項目02專項“i線光刻膠產(chǎn)品開發(fā)及產(chǎn)業(yè)化”項目并通過驗收,在國內(nèi)實現(xiàn)了i線(365nm)光刻膠量產(chǎn),并在中芯國際、揚杰科技、士蘭微等知名半導(dǎo)體廠通過了單項測試和分片測試,取得了客戶的產(chǎn)品認(rèn)證

同時,子公司蘇州瑞紅研發(fā)的 RZJ-325 系列光刻膠、高粘附性光刻膠RFJ-210G、TFT-Array 光刻膠部分產(chǎn)品、厚膜光刻膠 RZJ-T3520 等光刻膠產(chǎn)品也取得重大進展將逐步推向市場。

南大光電2019年半年報中披露公司正在自主創(chuàng)新和產(chǎn)業(yè)化的193nm光刻膠項目,已獲得國家02專項“193nm光刻膠及配套材料關(guān)鍵技術(shù)研究項目”和“ArF光刻膠開發(fā)和產(chǎn)業(yè)化項目”的正式立項,先后共獲得中央財政補貼15,101.65萬元,地方配套5,000萬元。

為促進我國光刻膠產(chǎn)業(yè)的發(fā)展,國家02重大專項給予了大力支持。今年5月,02重大專項實施管理辦公室組織任務(wù)驗收專家組、財務(wù)驗收專家組通過了“極紫外光刻膠材料與實驗室檢測技術(shù)研究”項目的任務(wù)驗收和財務(wù)驗收。

據(jù)悉,經(jīng)過項目組全體成員的努力攻關(guān),完成了EUV光刻膠關(guān)鍵材料的設(shè)計、制備和合成工藝研究、配方組成和光刻膠制備、實驗室光刻膠性能的初步評價裝備的研發(fā),達(dá)到了任務(wù)書中規(guī)定的材料和裝備的考核指標(biāo)。項目共申請發(fā)明專利15項(包括國際專利5項),截止到目前,共獲得授權(quán)專利10項(包括國際專利授權(quán)3項);培養(yǎng)了博士研究生9名,碩士研究生1名。

根據(jù)測算,伴隨LCD產(chǎn)業(yè)中心的轉(zhuǎn)移,疊加材料國產(chǎn)化的大趨勢,我國LCD光刻膠市場規(guī)模及國產(chǎn)化率有望逐步提升,預(yù)計2019-2023年,我國LCD光刻膠市場規(guī)模將會從40億元提升到69億元,4年 CARG14.6%;LCD光刻膠材料的國產(chǎn)化率有望從5%快速提升至40%,國產(chǎn)材料龍頭有望充分受益。在LCD光刻膠領(lǐng)域,隨著國內(nèi)技術(shù)的不斷突破,在產(chǎn)業(yè)驅(qū)動和政策支持下,預(yù)計龍頭企業(yè)將優(yōu)先搶占國產(chǎn)化的市場空間,有望享受全球產(chǎn)業(yè)轉(zhuǎn)移下豐厚的業(yè)績回報。

責(zé)任編輯:gt

聲明:本文內(nèi)容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網(wǎng)站授權(quán)轉(zhuǎn)載。文章觀點僅代表作者本人,不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場。文章及其配圖僅供工程師學(xué)習(xí)之用,如有內(nèi)容侵權(quán)或者其他違規(guī)問題,請聯(lián)系本站處理。 舉報投訴
  • pcb
    pcb
    +關(guān)注

    關(guān)注

    4319

    文章

    23099

    瀏覽量

    397941
  • 半導(dǎo)體
    +關(guān)注

    關(guān)注

    334

    文章

    27367

    瀏覽量

    218821
  • lcd
    lcd
    +關(guān)注

    關(guān)注

    34

    文章

    4426

    瀏覽量

    167517
收藏 人收藏

    評論

    相關(guān)推薦

    半導(dǎo)體材料市場規(guī)模不斷增長 國產(chǎn)化持續(xù)推進

    中銀證券針對我國半導(dǎo)體材料出具了研報,重點內(nèi)容如下: 1)我國半導(dǎo)體材料市場規(guī)模不斷增長,國產(chǎn)化持續(xù)推進。 AI驅(qū)動先進制程市場需求增長,半導(dǎo)體制造產(chǎn)能擴張,有望進一步帶動相關(guān)材料的采
    的頭像 發(fā)表于 12-20 13:44 ?148次閱讀

    為什么很多電子產(chǎn)品主板封裝用國產(chǎn)化了?

    為什么很多電子產(chǎn)品主板封裝用國產(chǎn)化了?電子產(chǎn)品的主板使用膠水的主要目的是為了加固、密封、絕緣等,確保產(chǎn)品的穩(wěn)定性、耐用性和可靠性。隨著中國電子制造業(yè)的快速發(fā)展,對于電子膠粘劑的
    的頭像 發(fā)表于 12-06 09:42 ?189次閱讀
    為什么很多電子產(chǎn)品主板封裝用<b class='flag-5'>膠</b>都<b class='flag-5'>國產(chǎn)化</b>了?

    一文解讀光刻膠的原理、應(yīng)用及市場前景展望

    光刻技術(shù)是現(xiàn)代微電子和納米技術(shù)的研發(fā)中的關(guān)鍵一環(huán),而光刻膠,又是光刻技術(shù)中的關(guān)鍵組成部分。隨著技術(shù)的發(fā)展,對微小、精密的結(jié)構(gòu)的需求日益增強,
    的頭像 發(fā)表于 11-11 10:08 ?450次閱讀
    一文解讀<b class='flag-5'>光刻膠</b>的原理、應(yīng)用及市場前景展望

    一文看懂光刻膠的堅膜工藝及物理特性和常見光刻膠

    共讀好書關(guān)于常用光刻膠型號也可以查看這篇文章:收藏!常用光刻膠型號資料大全,幾乎包含所有芯片用光刻膠歡迎掃碼添加小編微信掃碼加入知識星球,領(lǐng)取公眾號資料
    的頭像 發(fā)表于 11-01 11:08 ?730次閱讀

    光刻膠的使用過程與原理

    本文介紹了光刻膠的使用過程與原理。
    的頭像 發(fā)表于 10-31 15:59 ?372次閱讀

    如何成功的烘烤微流控SU-8光刻膠?

    在微流控PDMS芯片加工的過程中,需要使用烘臺或者烤設(shè)備對SU-8光刻膠或PDMS聚合物進行烘烤。SU-8光刻膠的烘烤通常需要進行2-3次。本文簡要介紹SU-8
    的頭像 發(fā)表于 08-27 15:54 ?286次閱讀

    國產(chǎn)在線測徑儀為什么能達(dá)到先進水平?

    不同行業(yè)對尺寸檢測的需求。這些應(yīng)用領(lǐng)域的多樣需求推動了國產(chǎn)測徑儀技術(shù)的不斷進步和升級。 政策支持 國家對高端裝備制造業(yè)的支持
    發(fā)表于 08-16 17:45

    國產(chǎn)FPGA的發(fā)展前景是什么?

    國產(chǎn)替代加速 政策支持:近年來,國家對半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的支持力度不斷加大,為國產(chǎn)FPGA的發(fā)展提供了有力保障。政府補助、稅收優(yōu)惠等政策措施促進了
    發(fā)表于 07-29 17:04

    導(dǎo)致光刻膠變色的原因有哪些?

    存儲時間 正和圖形反轉(zhuǎn)在存儲數(shù)月后會變暗,而且隨著儲存溫度升高而加速。因為該類型光刻膠含有的光活性化合物形成偶氮染料,在 可見光譜的部分具有很強的吸收能力,對紫外靈敏度沒有任何影響。這種變色過程
    的頭像 發(fā)表于 07-11 16:07 ?579次閱讀

    光刻膠的硬烘烤技術(shù)

    根據(jù)光刻膠的應(yīng)用工藝,我們可以采用適當(dāng)?shù)姆椒▽σ扬@影的光刻膠結(jié)構(gòu)進行處理以提高其化學(xué)或物理穩(wěn)定性。通常我們可以采用烘烤步驟來實現(xiàn)整個光刻膠結(jié)構(gòu)的熱交聯(lián),稱為硬烘烤或者堅膜?;蛲ㄟ^低劑量紫外線輻照
    的頭像 發(fā)表于 07-10 13:46 ?869次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻膠</b>的硬烘烤技術(shù)

    需求帶動射頻電源市場增長,國產(chǎn)廠商逐步發(fā)力

    的等離子體具有不同的化學(xué)性能,在腔體內(nèi)部可以實現(xiàn)不同的工藝需求。 隨著國內(nèi)晶圓廠新增擴產(chǎn)和存量替換需求增長,半導(dǎo)體薄膜沉積、刻蝕機等核心設(shè)備的市場空間打開,射頻電源也迎來新的增長空間,并為國產(chǎn)
    的頭像 發(fā)表于 07-10 08:43 ?286次閱讀

    光刻膠的保存和老化失效

    我們在使用光刻膠的時候往往關(guān)注的重點是光刻膠的性能,但是有時候我們會忽略光刻膠的保存和壽命問題,其實這個問題應(yīng)該在我們購買光刻膠前就應(yīng)該提出并規(guī)劃好。并且,在
    的頭像 發(fā)表于 07-08 14:57 ?987次閱讀

    關(guān)于光刻膠的關(guān)鍵參數(shù)介紹

    與正光刻膠相比,電子束負(fù)光刻膠會形成相反的圖案?;诰酆衔锏呢?fù)型光刻膠會在聚合物鏈之間產(chǎn)生鍵或交聯(lián)。未曝光的光刻膠在顯影過程中溶解,而曝光的光刻膠
    的頭像 發(fā)表于 03-20 11:36 ?2586次閱讀
    關(guān)于<b class='flag-5'>光刻膠</b>的關(guān)鍵參數(shù)介紹

    如何在芯片中減少光刻膠的使用量

    光刻膠不能太厚或太薄,需要按制程需求來定。比如對于需要長時間蝕刻以形成深孔的應(yīng)用場景,較厚的光刻膠層能提供更長的耐蝕刻時間。
    的頭像 發(fā)表于 03-04 10:49 ?666次閱讀
    如何在芯片中減少<b class='flag-5'>光刻膠</b>的使用量

    光刻膠分類與市場結(jié)構(gòu)

    光刻膠主要下游應(yīng)用包括:顯示屏制造、印刷電路板生產(chǎn)、半導(dǎo)體制造等,其中顯示屏是光刻膠最大的下游應(yīng)用,占比30%。光刻膠在半導(dǎo)體制造應(yīng)用占比24%,是第三達(dá)應(yīng)用場景。
    發(fā)表于 01-03 18:12 ?1333次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻膠</b>分類與市場結(jié)構(gòu)