0
  • 聊天消息
  • 系統(tǒng)消息
  • 評論與回復(fù)
登錄后你可以
  • 下載海量資料
  • 學(xué)習(xí)在線課程
  • 觀看技術(shù)視頻
  • 寫文章/發(fā)帖/加入社區(qū)
會員中心
創(chuàng)作中心

完善資料讓更多小伙伴認(rèn)識你,還能領(lǐng)取20積分哦,立即完善>

3天內(nèi)不再提示

光刻膠板塊的大漲吸引了產(chǎn)業(yè)注意 ,國產(chǎn)光刻膠再遇發(fā)展良機?

旺材芯片 ? 來源:芯師爺 ? 作者:芯師爺 ? 2021-05-28 10:34 ? 次閱讀

5月27日,半導(dǎo)體光刻膠概念股開盤即走強,截至收盤,A股光刻膠板塊漲幅達6.48%。其中晶瑞股份、廣信材料直線拉升大漲20%封漲停,容大感光大漲13.28%,揚帆新材大漲11.37%,南大光電大漲9.72%,雅克科技大漲9.93%,強力新材、上海新陽、彤程新材等跟漲。

光刻膠板塊的大漲吸引了產(chǎn)業(yè)注意 ,國產(chǎn)光刻膠再遇發(fā)展良機?

KrF光刻膠海外供應(yīng)告急

據(jù)了解,光刻膠板塊本輪異動的背后,是KrF光刻膠海外供應(yīng)告急。自日本福島2月份發(fā)生強震后,光刻膠市場一度傳出“因受地震影響,信越化學(xué)KrF光刻膠生產(chǎn)以及海外供貨受阻”的消息,但是時隔3個月,KrF光刻膠在中國大陸的供應(yīng)困境依然沒有緩解。

從KrF光刻膠的供需來看,當(dāng)前的中國大陸KrF光刻膠供應(yīng)告急不難理解。

在供應(yīng)方,中國大陸光刻膠嚴(yán)重依賴進口,國產(chǎn)化率不足5%,就ArF 光刻膠供應(yīng)而言,當(dāng)前該市場由日本企業(yè)壟斷,頭部聚集效應(yīng)極為明顯。根據(jù)前瞻產(chǎn)業(yè)研究院整理統(tǒng)計,2019 年日本龍頭企業(yè) JSR、信越化學(xué)、TOK 和住友化學(xué)包攬前四,分別占據(jù)全球 ArF 光刻膠細(xì)分市場 25%、23%、20%和 15%市場份額,總計市場份額達到 83%。而第五名的美國陶氏化學(xué)在 ArF 光刻膠領(lǐng)域只占據(jù) 4%的市場份額。

在這種情況下,供貨占全球兩成的信越化學(xué)KrF光刻膠產(chǎn)線受地震影響產(chǎn)線至今尚未完全恢復(fù),對原本供應(yīng)就緊張的光刻膠市場而言雪上加霜。

其它光刻膠廠商對KrF光刻膠的供應(yīng)困境解決也有心無力,因為自2020年底以來,KrF光刻膠市場的需求實在是太強勁了。

一方面,據(jù)了解,目前半導(dǎo)體光刻膠最常使用曝光波長分類,主要有 g 線、i 線、KrF、ArF 和最先進的 EUV 光刻膠,其中 DUV 光刻機分為干法和浸潤式,因此 ArF 光刻膠也對應(yīng)分為干法和浸潤式兩類。不同晶圓尺寸所需的光刻膠類別不一。

本次供應(yīng)緊張的KrF光刻膠對應(yīng)的正是大熱門的8寸晶圓生產(chǎn)需求。受疫情帶來的“宅經(jīng)濟”和汽車半導(dǎo)體的強勁需求拉動,從去年下半年開始,8寸晶圓制造產(chǎn)能逐漸擴張,對KrF光刻膠的需求也水漲船高,造成了光刻膠等原材料的短缺和價格上漲。

另一方面,根據(jù)國家半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)協(xié)會數(shù)據(jù)顯示,2017-2020年間,中國大陸新建27座晶圓廠,在全球新建晶圓廠數(shù)量中占比43.5%,將成為全球晶圓廠投資活動最活躍的地區(qū)。大量新增晶圓廠的產(chǎn)能帶來了龐大的光刻膠市場需求。

此外,光刻膠的緊缺與其市場交易習(xí)慣也有一定關(guān)系。光刻膠作為晶圓制造的核心化學(xué)工藝品,有效期較短,晶圓廠正常的庫存通常不會太多,因此光刻膠供應(yīng)鏈易受自然災(zāi)害或政治經(jīng)濟沖突等突發(fā)事件影響,產(chǎn)生缺貨、漲價現(xiàn)象。

國產(chǎn)KrF光刻膠技術(shù)處于追趕期

海外供應(yīng)告急之下,國產(chǎn)KrF光刻膠的發(fā)展也備受關(guān)注。據(jù)了解,一直以來,光刻膠的客戶壁壘較高,市場上光刻膠產(chǎn)品的更新速度較快,光刻膠廠家為了實現(xiàn)技術(shù)保密性,會與上游的原料供應(yīng)商保持密切合作關(guān)系,共同研發(fā)新技術(shù),增大了客戶的轉(zhuǎn)換成本。

但現(xiàn)在中小晶圓廠苦于位列海外光刻膠客戶列表尾部,目前無貨可取,在地緣政治的風(fēng)險下,大客戶也在積極建設(shè)光刻膠的本土供應(yīng)鏈,國產(chǎn)光刻膠產(chǎn)品在國內(nèi)有望迎來新一輪的客戶導(dǎo)入。

據(jù)不完全統(tǒng)計,目前中國多家光刻膠供應(yīng)廠商已經(jīng)宣布在KrF光刻膠領(lǐng)域取得技術(shù)進展,主要有北京科華微電子、晶瑞股份,南大光電,上海新陽等。

整體而言,國產(chǎn)KrF光刻膠還處于客戶驗證與導(dǎo)入階段。預(yù)計伴隨KrF光刻膠、ArF光刻膠研發(fā)完畢順利完成客戶驗證后,國產(chǎn)光刻膠將進入國產(chǎn)替代的高峰期。

北京科華:KrF已量產(chǎn),ArF光刻膠尚在研發(fā)過程中

北京科華微電子材料有限公司是一家中美合資企業(yè),現(xiàn)該公司的第一股東為彤程新材,是目前國內(nèi)唯一一家可供應(yīng)KrF光刻膠企業(yè)。

北京科華成立于 2004 年,是一家產(chǎn)品覆蓋 KrF(248nm)、I-line、G-line、紫外寬譜的光刻膠及配套試劑供應(yīng)商與服務(wù)商,也是集先進光刻膠產(chǎn)品研、產(chǎn)、銷為一體的擁有自主知識產(chǎn)權(quán)的高新技術(shù)企業(yè)??迫A微電子光刻膠產(chǎn)品序列完整,產(chǎn)品應(yīng)用領(lǐng)域涵蓋集成電路IC)、發(fā)光二極管LED)、分立器件、先進封裝、微機電系統(tǒng)(MEMS)等。

產(chǎn)品類型覆蓋 KrF(248nm)、G/I 線(含寬譜),主要包括:KrF光刻膠 DK1080、DK2000、DK3000系列;g-i line 光刻膠 KMP C5000、KMP C7000、KMP C8000、KMP EP3100 系列和 KMP EP3200A 系列;Lift-off 工藝使用的負(fù)膠 KMP E3000 系列;用于分立器件的 BN、BP 系列等。

晶瑞股份:KrF已完成中試,ArF光刻膠尚在研發(fā)過程中

蘇州晶瑞化學(xué)股份有限公司是一家生產(chǎn)銷售微電子業(yè)用超純化學(xué)材料和其他精細(xì)化工產(chǎn)品的上市企業(yè),產(chǎn)品廣泛應(yīng)用于超大規(guī)模集成電路、LED、TFT-LCD 面板制造過程、太陽能硅片的蝕刻與清洗。

2020 年 8 月 21 日晶瑞股份中報披露其子公司蘇州瑞紅 1993 年開 始光刻膠生產(chǎn),承擔(dān)并完成了國家 02 專項“i 線光刻膠產(chǎn)品開發(fā)及產(chǎn)業(yè)化”項目,i 線光刻膠已向國內(nèi)頭部的知名大尺寸半導(dǎo)體廠商供貨,KrF 光刻膠完成中試,產(chǎn)品分辨率達到了 0.25~0.13μm 的技術(shù)要求,建成了中試示范線。

2020 年 10 月 12 日,晶瑞股份對深交所關(guān)注函的回復(fù)公告顯示,公司擬購買光刻機設(shè)備的型號為 ASML XT 1900Gi ArF 浸入式光刻機,可用于研發(fā)最高分辨率達 28nm 的高端光刻膠。

南大光電:子公司寧波南大光電自主研發(fā)的ArF光刻膠已通過客戶認(rèn)證

南大光電是一家專業(yè)從事先進電子材料高純金屬有機化合物的研發(fā)、生產(chǎn)和銷售的高新技 術(shù)企業(yè),對關(guān)鍵技術(shù)擁有完全自主知識產(chǎn)權(quán),亦是全球 MO 源領(lǐng)導(dǎo)供應(yīng)商之一,產(chǎn)品主要應(yīng)用于下游制備 LED 外延片等。

在半導(dǎo)體光刻膠領(lǐng)域,南大光電擬投資 6.56 億元,3 年建成年產(chǎn) 25 噸 193nm(ArF 干式和浸沒式)光刻膠生產(chǎn)線,該啟動項目已獲得國家 02專項正式立項。

2020 年 11 月 6 日,南大光電披露 2020 年度向特定對象發(fā)行股票預(yù)案, 擬向特定對象發(fā)行股票的募集資金總額不超過 6.35 億元,其中 1.5 億元擬用于先進光刻 膠及高純配套材料的開發(fā)和產(chǎn)業(yè)化、ArF 光刻膠產(chǎn)品的開發(fā)和產(chǎn)業(yè)化。

上海新陽:主攻KrF和干法ArF光刻膠,目前已進入產(chǎn)能建設(shè)階段

上海新陽是以技術(shù)為主導(dǎo),立足于自主創(chuàng)新的高新技術(shù)企業(yè),專業(yè)從事半導(dǎo)體行業(yè)所需電子化學(xué)品及配套設(shè)備的研發(fā)設(shè)計、生產(chǎn)制造和銷售服務(wù),致力于為用戶提供化學(xué)材料、配套設(shè)備、應(yīng)用工藝和現(xiàn)場服務(wù)一體化的整體解決方案。

上海新陽主攻 KrF 和干法 ArF 光刻膠,已經(jīng)進入產(chǎn)能建設(shè)階段。根據(jù) 2020 年 11 月 3 日定增預(yù)案,公司擬定增募資不超過14.50 億元,其中 8.15 億元擬投資于集成電路制造用高端光刻膠研發(fā)、產(chǎn)業(yè)化項目,主要目標(biāo)為實現(xiàn) ArF 干法工藝使用的光刻膠和面向 3D NAND 臺階刻蝕的 KrF 厚膜光刻膠的產(chǎn)業(yè)化,力爭于 2023 年前實現(xiàn)上述產(chǎn)品的產(chǎn)業(yè)化,填補國內(nèi)空白。

編輯:jq

聲明:本文內(nèi)容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網(wǎng)站授權(quán)轉(zhuǎn)載。文章觀點僅代表作者本人,不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場。文章及其配圖僅供工程師學(xué)習(xí)之用,如有內(nèi)容侵權(quán)或者其他違規(guī)問題,請聯(lián)系本站處理。 舉報投訴
  • 二極管
    +關(guān)注

    關(guān)注

    147

    文章

    9641

    瀏覽量

    166530
  • IC
    IC
    +關(guān)注

    關(guān)注

    36

    文章

    5950

    瀏覽量

    175619
  • 封裝
    +關(guān)注

    關(guān)注

    126

    文章

    7905

    瀏覽量

    142971
  • 微機電
    +關(guān)注

    關(guān)注

    0

    文章

    28

    瀏覽量

    10385
  • 光刻膠
    +關(guān)注

    關(guān)注

    10

    文章

    317

    瀏覽量

    30240

原文標(biāo)題:A股光刻膠飆漲背后:僅一家可供應(yīng)高端光刻膠

文章出處:【微信號:wc_ysj,微信公眾號:旺材芯片】歡迎添加關(guān)注!文章轉(zhuǎn)載請注明出處。

收藏 人收藏

    評論

    相關(guān)推薦

    光刻膠成為半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的關(guān)鍵材料

    光刻膠是半導(dǎo)體制造等領(lǐng)域的一種重要材料,在整個電子元器件加工產(chǎn)業(yè)有著舉足輕重的地位。 它主要由感光樹脂、增感劑和溶劑等成分組成。其中,感光樹脂決定光刻膠的感光度和分辨率等關(guān)鍵性能,增
    的頭像 發(fā)表于 12-19 13:57 ?145次閱讀

    光刻膠清洗去除方法

    光刻膠作為掩模進行干法刻蝕或是濕法腐蝕后,一般都是需要及時的去除清洗,而一些高溫或者其他操作往往會導(dǎo)致光刻膠碳化難以去除。
    的頭像 發(fā)表于 11-11 17:06 ?455次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻膠</b>清洗去除方法

    一文解讀光刻膠的原理、應(yīng)用及市場前景展望

    光刻技術(shù)是現(xiàn)代微電子和納米技術(shù)的研發(fā)中的關(guān)鍵一環(huán),而光刻膠,又是光刻技術(shù)中的關(guān)鍵組成部分。隨著技術(shù)的發(fā)展,對微小、精密的結(jié)構(gòu)的需求日益增強,光刻膠
    的頭像 發(fā)表于 11-11 10:08 ?450次閱讀
    一文解讀<b class='flag-5'>光刻膠</b>的原理、應(yīng)用及市場前景展望

    一文看懂光刻膠的堅膜工藝及物理特性和常見光刻膠

    共讀好書關(guān)于常用光刻膠型號也可以查看這篇文章:收藏!常用光刻膠型號資料大全,幾乎包含所有芯片用光刻膠歡迎掃碼添加小編微信掃碼加入知識星球,領(lǐng)取公眾號資料
    的頭像 發(fā)表于 11-01 11:08 ?730次閱讀

    光刻膠的使用過程與原理

    本文介紹光刻膠的使用過程與原理。
    的頭像 發(fā)表于 10-31 15:59 ?372次閱讀

    如何成功的烘烤微流控SU-8光刻膠?

    在微流控PDMS芯片加工的過程中,需要使用烘臺或者烤設(shè)備對SU-8光刻膠或PDMS聚合物進行烘烤。SU-8光刻膠的烘烤通常需要進行2-3次。本文簡要介紹SU-8
    的頭像 發(fā)表于 08-27 15:54 ?286次閱讀

    導(dǎo)致光刻膠變色的原因有哪些?

    非常緩慢,因此通常只有在更換新批次的光刻膠時才會被注意到。 污染 光刻膠與水或不適合的溶劑(如異丙醇)接觸,或經(jīng)冷凍后的抗蝕劑可能會改變其顏色。在這種情況下,光刻膠的變質(zhì)是不可避免的。
    的頭像 發(fā)表于 07-11 16:07 ?579次閱讀

    光刻膠的硬烘烤技術(shù)

    根據(jù)光刻膠的應(yīng)用工藝,我們可以采用適當(dāng)?shù)姆椒▽σ扬@影的光刻膠結(jié)構(gòu)進行處理以提高其化學(xué)或物理穩(wěn)定性。通常我們可以采用烘烤步驟來實現(xiàn)整個光刻膠結(jié)構(gòu)的熱交聯(lián),稱為硬烘烤或者堅膜?;蛲ㄟ^低劑量紫外線輻照
    的頭像 發(fā)表于 07-10 13:46 ?869次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻膠</b>的硬烘烤技術(shù)

    光刻膠的一般特性介紹

    越小。曝光劑量以毫焦耳每平方厘米(mJ/cm2)為單位.光刻膠聚合物分子的解鏈或者交聯(lián)是通過吸收特定波長的光輻射能量完成的。一種光刻膠通常只在某些特定的波長范圍內(nèi)使用,因此需要注意每款光刻膠
    的頭像 發(fā)表于 07-10 13:43 ?669次閱讀

    光刻膠后烘技術(shù)

    后烘是指(post exposure bake-PEB)是指在曝光之后的光刻膠膜的烘烤過程。由于光刻膠膜還未顯影,也就是說還未閉合,PEB也可以在高于光刻膠軟化溫度的情況下進行。前面的文章中我們在
    的頭像 發(fā)表于 07-09 16:08 ?1408次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻膠</b>后烘技術(shù)

    光刻膠的圖形反轉(zhuǎn)工藝

    圖形反轉(zhuǎn)是比較常見的一種紫外光刻膠,它既可以當(dāng)正使用又可以作為負(fù)使用。相比而言,負(fù)工藝更被人們所熟知。本文重點介紹其負(fù)
    的頭像 發(fā)表于 07-09 16:06 ?652次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻膠</b>的圖形反轉(zhuǎn)工藝

    光刻膠的保存和老化失效

    通常要考慮光刻膠是否過期失效。接下來我們將介紹一下光刻膠保存和老化失效的基礎(chǔ)知識。 光刻膠的保存 光刻膠對光敏感,在光照或高溫條件下其性能
    的頭像 發(fā)表于 07-08 14:57 ?987次閱讀

    關(guān)于光刻膠的關(guān)鍵參數(shù)介紹

    與正光刻膠相比,電子束負(fù)光刻膠會形成相反的圖案?;诰酆衔锏呢?fù)型光刻膠會在聚合物鏈之間產(chǎn)生鍵或交聯(lián)。未曝光的光刻膠在顯影過程中溶解,而曝光的光刻膠
    的頭像 發(fā)表于 03-20 11:36 ?2586次閱讀
    關(guān)于<b class='flag-5'>光刻膠</b>的關(guān)鍵參數(shù)介紹

    光刻膠光刻機的區(qū)別

    光刻膠是一種涂覆在半導(dǎo)體器件表面的特殊液體材料,可以通過光刻機上的模板或掩模來進行曝光。
    的頭像 發(fā)表于 03-04 17:19 ?4730次閱讀

    光刻膠分類與市場結(jié)構(gòu)

    光刻膠主要下游應(yīng)用包括:顯示屏制造、印刷電路板生產(chǎn)、半導(dǎo)體制造等,其中顯示屏是光刻膠最大的下游應(yīng)用,占比30%。光刻膠在半導(dǎo)體制造應(yīng)用占比24%,是第三達應(yīng)用場景。
    發(fā)表于 01-03 18:12 ?1333次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻膠</b>分類與市場結(jié)構(gòu)