0
  • 聊天消息
  • 系統(tǒng)消息
  • 評(píng)論與回復(fù)
登錄后你可以
  • 下載海量資料
  • 學(xué)習(xí)在線課程
  • 觀看技術(shù)視頻
  • 寫(xiě)文章/發(fā)帖/加入社區(qū)
會(huì)員中心
創(chuàng)作中心

完善資料讓更多小伙伴認(rèn)識(shí)你,還能領(lǐng)取20積分哦,立即完善>

3天內(nèi)不再提示

上海新陽(yáng):光刻膠產(chǎn)品處于實(shí)驗(yàn)研發(fā)和中試開(kāi)發(fā)階段

集成電路應(yīng)用雜志 ? 來(lái)源:全球半導(dǎo)體觀察 ? 2020-06-23 16:30 ? 次閱讀

上海新陽(yáng):光刻膠產(chǎn)品處于實(shí)驗(yàn)研發(fā)和中試開(kāi)發(fā)階段

近日,上海新陽(yáng)在2019年度網(wǎng)上業(yè)績(jī)說(shuō)明會(huì)上表示,公司KrF厚膜光刻膠配套的光刻機(jī)一季度已完成安裝調(diào)試,目前進(jìn)入試運(yùn)行階段。KrF厚膜中試產(chǎn)線在安裝調(diào)試建設(shè)當(dāng)中。而公司光刻膠產(chǎn)品還處于實(shí)驗(yàn)室研發(fā)和中試開(kāi)發(fā)階段,未來(lái)主要服務(wù)于國(guó)內(nèi)芯片制造公司。

對(duì)于公司兩臺(tái)光刻機(jī)何時(shí)到位,上海新陽(yáng)稱(chēng),公司購(gòu)買(mǎi)的ArF光刻機(jī)準(zhǔn)備運(yùn)輸中,時(shí)間尚不能確定。I線光刻機(jī)已完成招投標(biāo),在進(jìn)行采購(gòu)中。

此外,上海新陽(yáng)還表示,今年會(huì)加大光刻膠業(yè)務(wù)的投入,并且在未來(lái)幾年都會(huì)對(duì)光刻膠技術(shù)與產(chǎn)品開(kāi)發(fā)進(jìn)行較大投入。除光刻膠外,上海新陽(yáng)將繼續(xù)圍繞電子電鍍和電子清洗兩大核心技術(shù),持續(xù)研發(fā)創(chuàng)新,不斷滿足產(chǎn)業(yè)和客戶(hù)需求,增強(qiáng)我國(guó)半導(dǎo)體關(guān)鍵工藝材料與核心技術(shù)自主可控能力。

當(dāng)前,上海新陽(yáng)主要收入為氟碳涂料業(yè)務(wù),2019年涂料業(yè)務(wù)占營(yíng)業(yè)收入的57%,上海新陽(yáng)表示,隨著公司對(duì)半導(dǎo)體材料的研發(fā)和市場(chǎng)開(kāi)拓投入加大,公司半導(dǎo)體業(yè)務(wù)將快速增長(zhǎng),涂料業(yè)務(wù)的收入占比會(huì)逐步下降。2020年1季度半導(dǎo)體業(yè)務(wù)銷(xiāo)售增長(zhǎng)28%,受疫情影響涂料業(yè)務(wù)下降了23%;涂料業(yè)務(wù)占銷(xiāo)售比重與去年同期比下降了12%。

至于合肥項(xiàng)目的進(jìn)程,上海新陽(yáng)則稱(chēng),公司在合肥投資設(shè)立第二生產(chǎn)基地的項(xiàng)目目前正處于前期準(zhǔn)備工作當(dāng)中,由于受疫情影響進(jìn)度有所延緩。第二生產(chǎn)基地僅僅生產(chǎn)半導(dǎo)體功能性材料。

聲明:本文內(nèi)容及配圖由入駐作者撰寫(xiě)或者入駐合作網(wǎng)站授權(quán)轉(zhuǎn)載。文章觀點(diǎn)僅代表作者本人,不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場(chǎng)。文章及其配圖僅供工程師學(xué)習(xí)之用,如有內(nèi)容侵權(quán)或者其他違規(guī)問(wèn)題,請(qǐng)聯(lián)系本站處理。 舉報(bào)投訴
  • 半導(dǎo)體材料
    +關(guān)注

    關(guān)注

    11

    文章

    541

    瀏覽量

    29575
  • 光刻機(jī)
    +關(guān)注

    關(guān)注

    31

    文章

    1150

    瀏覽量

    47405

原文標(biāo)題:上海新陽(yáng):光刻膠產(chǎn)品處于實(shí)驗(yàn)研發(fā)和中試開(kāi)發(fā)階段

文章出處:【微信號(hào):appic-cn,微信公眾號(hào):集成電路應(yīng)用雜志】歡迎添加關(guān)注!文章轉(zhuǎn)載請(qǐng)注明出處。

收藏 人收藏

    評(píng)論

    相關(guān)推薦

    光刻膠清洗去除方法

    光刻膠作為掩模進(jìn)行干法刻蝕或是濕法腐蝕后,一般都是需要及時(shí)的去除清洗,而一些高溫或者其他操作往往會(huì)導(dǎo)致光刻膠碳化難以去除。
    的頭像 發(fā)表于 11-11 17:06 ?456次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻膠</b>清洗去除方法

    一文解讀光刻膠的原理、應(yīng)用及市場(chǎng)前景展望

    光刻技術(shù)是現(xiàn)代微電子和納米技術(shù)的研發(fā)中的關(guān)鍵一環(huán),而光刻膠,又是光刻技術(shù)中的關(guān)鍵組成部分。隨著技術(shù)的發(fā)展,對(duì)微小、精密的結(jié)構(gòu)的需求日益增強(qiáng),光刻膠
    的頭像 發(fā)表于 11-11 10:08 ?450次閱讀
    一文解讀<b class='flag-5'>光刻膠</b>的原理、應(yīng)用及市場(chǎng)前景展望

    一文看懂光刻膠的堅(jiān)膜工藝及物理特性和常見(jiàn)光刻膠

    共讀好書(shū)關(guān)于常用光刻膠型號(hào)也可以查看這篇文章:收藏!常用光刻膠型號(hào)資料大全,幾乎包含所有芯片用光刻膠歡迎掃碼添加小編微信掃碼加入知識(shí)星球,領(lǐng)取公眾號(hào)資料
    的頭像 發(fā)表于 11-01 11:08 ?730次閱讀

    光刻膠的使用過(guò)程與原理

    本文介紹了光刻膠的使用過(guò)程與原理。
    的頭像 發(fā)表于 10-31 15:59 ?372次閱讀

    如何成功的烘烤微流控SU-8光刻膠?

    在微流控PDMS芯片加工的過(guò)程中,需要使用烘臺(tái)或者烤設(shè)備對(duì)SU-8光刻膠或PDMS聚合物進(jìn)行烘烤。SU-8光刻膠的烘烤通常需要進(jìn)行2-3次。本文簡(jiǎn)要介紹SU-8
    的頭像 發(fā)表于 08-27 15:54 ?286次閱讀

    導(dǎo)致光刻膠變色的原因有哪些?

    存儲(chǔ)時(shí)間 正和圖形反轉(zhuǎn)在存儲(chǔ)數(shù)月后會(huì)變暗,而且隨著儲(chǔ)存溫度升高而加速。因?yàn)樵擃?lèi)型光刻膠含有的光活性化合物形成偶氮染料,在 可見(jiàn)光譜的部分具有很強(qiáng)的吸收能力,對(duì)紫外靈敏度沒(méi)有任何影響。這種變色過(guò)程
    的頭像 發(fā)表于 07-11 16:07 ?579次閱讀

    光刻膠的硬烘烤技術(shù)

    根據(jù)光刻膠的應(yīng)用工藝,我們可以采用適當(dāng)?shù)姆椒▽?duì)已顯影的光刻膠結(jié)構(gòu)進(jìn)行處理以提高其化學(xué)或物理穩(wěn)定性。通常我們可以采用烘烤步驟來(lái)實(shí)現(xiàn)整個(gè)光刻膠結(jié)構(gòu)的熱交聯(lián),稱(chēng)為硬烘烤或者堅(jiān)膜。或通過(guò)低劑量紫外線輻照
    的頭像 發(fā)表于 07-10 13:46 ?869次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻膠</b>的硬烘烤技術(shù)

    光刻膠的一般特性介紹

    評(píng)價(jià)一款光刻膠是否適合某種應(yīng)用需要綜合看這款光刻膠的特定性能,這里給出光刻膠一般特性的介紹。 1. 靈敏度 靈敏度(sensitivity)是衡量曝光速度的指標(biāo)。光刻膠的靈敏度越高,所
    的頭像 發(fā)表于 07-10 13:43 ?669次閱讀

    光刻膠后烘技術(shù)

    后烘是指(post exposure bake-PEB)是指在曝光之后的光刻膠膜的烘烤過(guò)程。由于光刻膠膜還未顯影,也就是說(shuō)還未閉合,PEB也可以在高于光刻膠軟化溫度的情況下進(jìn)行。前面的文章中我們?cè)?/div>
    的頭像 發(fā)表于 07-09 16:08 ?1409次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻膠</b>后烘技術(shù)

    光刻膠的圖形反轉(zhuǎn)工藝

    圖形反轉(zhuǎn)是比較常見(jiàn)的一種紫外光刻膠,它既可以當(dāng)正使用又可以作為負(fù)使用。相比而言,負(fù)工藝更被人們所熟知。本文重點(diǎn)介紹其負(fù)
    的頭像 發(fā)表于 07-09 16:06 ?652次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻膠</b>的圖形反轉(zhuǎn)工藝

    光刻膠的保存和老化失效

    我們?cè)谑褂?b class='flag-5'>光刻膠的時(shí)候往往關(guān)注的重點(diǎn)是光刻膠的性能,但是有時(shí)候我們會(huì)忽略光刻膠的保存和壽命問(wèn)題,其實(shí)這個(gè)問(wèn)題應(yīng)該在我們購(gòu)買(mǎi)光刻膠前就應(yīng)該提出并規(guī)劃好。并且,在
    的頭像 發(fā)表于 07-08 14:57 ?987次閱讀

    關(guān)于光刻膠的關(guān)鍵參數(shù)介紹

    與正光刻膠相比,電子束負(fù)光刻膠會(huì)形成相反的圖案?;诰酆衔锏呢?fù)型光刻膠會(huì)在聚合物鏈之間產(chǎn)生鍵或交聯(lián)。未曝光的光刻膠在顯影過(guò)程中溶解,而曝光的光刻膠
    的頭像 發(fā)表于 03-20 11:36 ?2586次閱讀
    關(guān)于<b class='flag-5'>光刻膠</b>的關(guān)鍵參數(shù)介紹

    光刻膠光刻機(jī)的區(qū)別

    光刻膠是一種涂覆在半導(dǎo)體器件表面的特殊液體材料,可以通過(guò)光刻機(jī)上的模板或掩模來(lái)進(jìn)行曝光。
    的頭像 發(fā)表于 03-04 17:19 ?4730次閱讀

    如何在芯片中減少光刻膠的使用量

    光刻膠不能太厚或太薄,需要按制程需求來(lái)定。比如對(duì)于需要長(zhǎng)時(shí)間蝕刻以形成深孔的應(yīng)用場(chǎng)景,較厚的光刻膠層能提供更長(zhǎng)的耐蝕刻時(shí)間。
    的頭像 發(fā)表于 03-04 10:49 ?666次閱讀
    如何在芯片中減少<b class='flag-5'>光刻膠</b>的使用量

    光刻膠分類(lèi)與市場(chǎng)結(jié)構(gòu)

    光刻膠主要下游應(yīng)用包括:顯示屏制造、印刷電路板生產(chǎn)、半導(dǎo)體制造等,其中顯示屏是光刻膠最大的下游應(yīng)用,占比30%。光刻膠在半導(dǎo)體制造應(yīng)用占比24%,是第三達(dá)應(yīng)用場(chǎng)景。
    發(fā)表于 01-03 18:12 ?1333次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻膠</b>分類(lèi)與市場(chǎng)結(jié)構(gòu)