0
  • 聊天消息
  • 系統(tǒng)消息
  • 評(píng)論與回復(fù)
登錄后你可以
  • 下載海量資料
  • 學(xué)習(xí)在線課程
  • 觀看技術(shù)視頻
  • 寫(xiě)文章/發(fā)帖/加入社區(qū)
會(huì)員中心
創(chuàng)作中心

完善資料讓更多小伙伴認(rèn)識(shí)你,還能領(lǐng)取20積分哦,立即完善>

3天內(nèi)不再提示

南大光電預(yù)計(jì)2019年底建成一條光刻膠生產(chǎn)線

半導(dǎo)體動(dòng)態(tài) ? 來(lái)源:工程師吳畏 ? 2019-07-18 16:14 ? 次閱讀

7月17日,南大光電在互動(dòng)平臺(tái)透露,公司設(shè)立光刻膠事業(yè)部,并成立了全資子公司“寧波南大光電材料有限公司”,全力推進(jìn)“ArF光刻膠開(kāi)發(fā)和產(chǎn)業(yè)化項(xiàng)目”落地實(shí)施。目前該項(xiàng)目完成的研發(fā)技術(shù)正在等待驗(yàn)收中,預(yù)計(jì)2019年底建成一條光刻膠生產(chǎn)線,項(xiàng)目產(chǎn)業(yè)化基地建設(shè)順利。

資料顯示,南大光電是一家專業(yè)從事高純電子材料研發(fā)、生產(chǎn)和銷售的高新技術(shù)企業(yè),公司于2012年8月7日在深圳證券交易所創(chuàng)業(yè)板掛牌上市。

憑借30多年來(lái)的技術(shù)積累優(yōu)勢(shì),南大光電先后攻克了國(guó)家863計(jì)劃MO源全系列產(chǎn)品產(chǎn)業(yè)化、國(guó)家“02—專項(xiàng)”高純電子氣體(砷烷、磷烷)研發(fā)與產(chǎn)業(yè)化、ALD/CVD前驅(qū)體產(chǎn)業(yè)化等多個(gè)困擾我國(guó)數(shù)十年的項(xiàng)目,填補(bǔ)了多項(xiàng)國(guó)內(nèi)空白。2017年,南大光電承擔(dān)了集成電路芯片制造用關(guān)鍵核心材料之一的193nm光刻膠材料的研發(fā)與產(chǎn)業(yè)化項(xiàng)目。

通過(guò)承擔(dān)國(guó)家重大技術(shù)攻關(guān)項(xiàng)目并實(shí)現(xiàn)產(chǎn)業(yè)化,南大光電形成了MO源、電子特氣、ALD/CVD前驅(qū)體材料和光刻膠四大業(yè)務(wù)板塊。

聲明:本文內(nèi)容及配圖由入駐作者撰寫(xiě)或者入駐合作網(wǎng)站授權(quán)轉(zhuǎn)載。文章觀點(diǎn)僅代表作者本人,不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場(chǎng)。文章及其配圖僅供工程師學(xué)習(xí)之用,如有內(nèi)容侵權(quán)或者其他違規(guī)問(wèn)題,請(qǐng)聯(lián)系本站處理。 舉報(bào)投訴
  • 光刻膠
    +關(guān)注

    關(guān)注

    10

    文章

    318

    瀏覽量

    30254
  • 南大光電
    +關(guān)注

    關(guān)注

    0

    文章

    20

    瀏覽量

    4949
收藏 人收藏

    評(píng)論

    相關(guān)推薦

    三星減少NAND生產(chǎn)光刻膠使用量

    近日,據(jù)相關(guān)報(bào)道,三星電子在3D NAND閃存生產(chǎn)領(lǐng)域取得了重要技術(shù)突破,成功大幅減少了光刻工藝中光刻膠的使用量。 據(jù)悉,三星已經(jīng)制定了未來(lái)NAND閃存的生產(chǎn)路線圖,并計(jì)劃在這
    的頭像 發(fā)表于 11-27 11:00 ?257次閱讀

    光刻膠清洗去除方法

    光刻膠作為掩模進(jìn)行干法刻蝕或是濕法腐蝕后,般都是需要及時(shí)的去除清洗,而些高溫或者其他操作往往會(huì)導(dǎo)致光刻膠碳化難以去除。
    的頭像 發(fā)表于 11-11 17:06 ?524次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻膠</b>清洗去除方法

    文解讀光刻膠的原理、應(yīng)用及市場(chǎng)前景展望

    光刻技術(shù)是現(xiàn)代微電子和納米技術(shù)的研發(fā)中的關(guān)鍵環(huán),而光刻膠,又是光刻技術(shù)中的關(guān)鍵組成部分。隨著技術(shù)的發(fā)展,對(duì)微小、精密的結(jié)構(gòu)的需求日益增強(qiáng),光刻膠
    的頭像 發(fā)表于 11-11 10:08 ?478次閱讀
    <b class='flag-5'>一</b>文解讀<b class='flag-5'>光刻膠</b>的原理、應(yīng)用及市場(chǎng)前景展望

    文看懂光刻膠的堅(jiān)膜工藝及物理特性和常見(jiàn)光刻膠

    原文標(biāo)題:文看懂光刻膠的堅(jiān)膜工藝及物理特性和常見(jiàn)光刻膠
    的頭像 發(fā)表于 11-01 11:08 ?818次閱讀

    光刻膠的使用過(guò)程與原理

    本文介紹了光刻膠的使用過(guò)程與原理。
    的頭像 發(fā)表于 10-31 15:59 ?399次閱讀

    友達(dá)光電的Micro LED生產(chǎn)線預(yù)計(jì)2025啟動(dòng)量產(chǎn)

    友達(dá)光電正全力打造全球頂尖的4.5代Micro LED生產(chǎn)線,預(yù)計(jì)今年10月竣工,旨在引領(lǐng)Micro LED市場(chǎng)潮流。該生產(chǎn)線計(jì)劃于2025
    的頭像 發(fā)表于 10-28 14:50 ?1007次閱讀

    如何成功的烘烤微流控SU-8光刻膠

    控SU-8光刻膠烘烤:軟烘、后曝光烘烤和硬烘 在整個(gè)SU-8模具制備的過(guò)程中,微流控SU-8光刻膠需要烘烤2或3次,每次烘烤都有不同的作用。 第
    的頭像 發(fā)表于 08-27 15:54 ?301次閱讀

    導(dǎo)致光刻膠變色的原因有哪些?

    存儲(chǔ)時(shí)間 正和圖形反轉(zhuǎn)在存儲(chǔ)數(shù)月后會(huì)變暗,而且隨著儲(chǔ)存溫度升高而加速。因?yàn)樵擃愋?b class='flag-5'>光刻膠含有的光活性化合物形成偶氮染料,在 可見(jiàn)光譜的部分具有很強(qiáng)的吸收能力,對(duì)紫外靈敏度沒(méi)有任何影響。這種變色過(guò)程
    的頭像 發(fā)表于 07-11 16:07 ?587次閱讀

    光刻膠的硬烘烤技術(shù)

    根據(jù)光刻膠的應(yīng)用工藝,我們可以采用適當(dāng)?shù)姆椒▽?duì)已顯影的光刻膠結(jié)構(gòu)進(jìn)行處理以提高其化學(xué)或物理穩(wěn)定性。通常我們可以采用烘烤步驟來(lái)實(shí)現(xiàn)整個(gè)光刻膠結(jié)構(gòu)的熱交聯(lián),稱為硬烘烤或者堅(jiān)膜?;蛲ㄟ^(guò)低劑量紫外線輻照
    的頭像 發(fā)表于 07-10 13:46 ?924次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻膠</b>的硬烘烤技術(shù)

    光刻膠般特性介紹

    評(píng)價(jià)光刻膠是否適合某種應(yīng)用需要綜合看這款光刻膠的特定性能,這里給出光刻膠般特性的介紹。 1. 靈敏度 靈敏度(sensitivity)
    的頭像 發(fā)表于 07-10 13:43 ?704次閱讀

    光刻膠后烘技術(shù)

    光刻過(guò)程文章中簡(jiǎn)單介紹過(guò)后烘工藝但是比較簡(jiǎn)單,本文就以下些應(yīng)用場(chǎng)景下介紹后烘的過(guò)程和作用。 化學(xué)放大正 機(jī)理 當(dāng)使用“正常”正時(shí),
    的頭像 發(fā)表于 07-09 16:08 ?1449次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻膠</b>后烘技術(shù)

    光刻膠的圖形反轉(zhuǎn)工藝

    圖形反轉(zhuǎn)是比較常見(jiàn)的種紫外光刻膠,它既可以當(dāng)正使用又可以作為負(fù)使用。相比而言,負(fù)工藝更
    的頭像 發(fā)表于 07-09 16:06 ?670次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻膠</b>的圖形反轉(zhuǎn)工藝

    光刻膠的保存和老化失效

    通常要考慮光刻膠是否過(guò)期失效了。接下來(lái)我們將介紹一下光刻膠保存和老化失效的基礎(chǔ)知識(shí)。 光刻膠的保存 光刻膠對(duì)光敏感,在光照或高溫條件下其性能會(huì)發(fā)生變化。
    的頭像 發(fā)表于 07-08 14:57 ?1035次閱讀

    關(guān)于光刻膠的關(guān)鍵參數(shù)介紹

    與正光刻膠相比,電子束負(fù)光刻膠會(huì)形成相反的圖案。基于聚合物的負(fù)型光刻膠會(huì)在聚合物鏈之間產(chǎn)生鍵或交聯(lián)。未曝光的光刻膠在顯影過(guò)程中溶解,而曝光的光刻膠
    的頭像 發(fā)表于 03-20 11:36 ?2616次閱讀
    關(guān)于<b class='flag-5'>光刻膠</b>的關(guān)鍵參數(shù)介紹

    光刻膠光刻機(jī)的區(qū)別

    光刻膠種涂覆在半導(dǎo)體器件表面的特殊液體材料,可以通過(guò)光刻機(jī)上的模板或掩模來(lái)進(jìn)行曝光。
    的頭像 發(fā)表于 03-04 17:19 ?4770次閱讀