江蘇蘇州吳中經(jīng)濟(jì)技術(shù)開發(fā)區(qū)項(xiàng)目集中簽約儀式于1月11日圓滿舉行,六大項(xiàng)目,總投資額達(dá)人民幣 63億元,預(yù)計(jì)實(shí)現(xiàn)銷售收入90億元。此次簽約項(xiàng)目中有四個為優(yōu)質(zhì)企業(yè)的增資擴(kuò)產(chǎn),兩個為新興產(chǎn)業(yè)的新投資項(xiàng)目,遍布多產(chǎn)業(yè)領(lǐng)域如檢測檢驗(yàn)、光刻膠、新能源、自動化設(shè)備以及高端醫(yī)療器械類。
據(jù)吳中發(fā)布的最新消息,簽約項(xiàng)目涵蓋了瑞紅集成電路高端光刻膠總部項(xiàng)目,該項(xiàng)投資高達(dá)15億元,旨在新建半導(dǎo)體光刻膠及其配套試劑的生產(chǎn)基地。值得注意的是,瑞紅蘇州還于1月8日宣布,為了滿足公司運(yùn)營與發(fā)展需求,向中國石化集團(tuán)資本有限公司非公開發(fā)行股份1.01億份,募集到了8.5億元資金,以支持其在先進(jìn)制程工藝半導(dǎo)體光刻膠及配套試劑領(lǐng)域的更好發(fā)展。
作為1993年創(chuàng)立并發(fā)展至今的瑞紅蘇州,已成為我國最大的專業(yè)級光刻膠生產(chǎn)商之一,也是業(yè)內(nèi)少有的能提供紫外寬譜、g線、i線、KrF和ArF全系列光刻機(jī)測試實(shí)驗(yàn)平臺的專業(yè)研發(fā)制造商。
聲明:本文內(nèi)容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網(wǎng)站授權(quán)轉(zhuǎn)載。文章觀點(diǎn)僅代表作者本人,不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場。文章及其配圖僅供工程師學(xué)習(xí)之用,如有內(nèi)容侵權(quán)或者其他違規(guī)問題,請聯(lián)系本站處理。
舉報(bào)投訴
相關(guān)推薦
光刻膠作為掩模進(jìn)行干法刻蝕或是濕法腐蝕后,一般都是需要及時的去除清洗,而一些高溫或者其他操作往往會導(dǎo)致光刻膠碳化難以去除。
發(fā)表于 11-11 17:06
?447次閱讀
共讀好書關(guān)于常用光刻膠型號也可以查看這篇文章:收藏!常用光刻膠型號資料大全,幾乎包含所有芯片用光刻膠歡迎掃碼添加小編微信掃碼加入知識星球,領(lǐng)取公眾號資料
發(fā)表于 11-01 11:08
?713次閱讀
本文介紹了光刻膠的使用過程與原理。
發(fā)表于 10-31 15:59
?364次閱讀
是作為設(shè)計(jì)圖形的載體,通過光刻過程將掩膜版上的設(shè)計(jì)圖形轉(zhuǎn)移到光刻膠上,再經(jīng)過刻蝕,將圖形刻到襯底上,從而實(shí)現(xiàn)圖形到硅片的轉(zhuǎn)移。掩膜版的精度和質(zhì)量在很大程度上決定了集成電路最終產(chǎn)品的質(zhì)量。在制造過程中,掩膜版
發(fā)表于 09-06 14:09
?719次閱讀
在微流控PDMS芯片加工的過程中,需要使用烘膠臺或者烤膠設(shè)備對SU-8光刻膠或PDMS聚合物進(jìn)行烘烤。SU-8光刻膠的烘烤通常需要進(jìn)行2-3次。本文簡要介紹SU-8
發(fā)表于 08-27 15:54
?277次閱讀
存儲時間 正膠和圖形反轉(zhuǎn)膠在存儲數(shù)月后會變暗,而且隨著儲存溫度升高而加速。因?yàn)樵擃愋?b class='flag-5'>光刻膠含有的光活性化合物形成偶氮染料,在 可見光譜的部分具有很強(qiáng)的吸收能力,對紫外靈敏度沒有任何影響。這種變色過程
發(fā)表于 07-11 16:07
?566次閱讀
根據(jù)光刻膠的應(yīng)用工藝,我們可以采用適當(dāng)?shù)姆椒▽σ扬@影的光刻膠結(jié)構(gòu)進(jìn)行處理以提高其化學(xué)或物理穩(wěn)定性。通常我們可以采用烘烤步驟來實(shí)現(xiàn)整個光刻膠結(jié)構(gòu)的熱交聯(lián),稱為硬烘烤或者堅(jiān)膜?;蛲ㄟ^低劑量紫外線輻照
發(fā)表于 07-10 13:46
?859次閱讀
評價一款光刻膠是否適合某種應(yīng)用需要綜合看這款光刻膠的特定性能,這里給出光刻膠一般特性的介紹。 1. 靈敏度 靈敏度(sensitivity)是衡量曝光速度的指標(biāo)。光刻膠的靈敏度越高,所
發(fā)表于 07-10 13:43
?652次閱讀
后烘是指(post exposure bake-PEB)是指在曝光之后的光刻膠膜的烘烤過程。由于光刻膠膜還未顯影,也就是說還未閉合,PEB也可以在高于光刻膠軟化溫度的情況下進(jìn)行。前面的文章中我們在
發(fā)表于 07-09 16:08
?1399次閱讀
圖形反轉(zhuǎn)膠是比較常見的一種紫外光刻膠,它既可以當(dāng)正膠使用又可以作為負(fù)膠使用。相比而言,負(fù)膠工藝更被人們所熟知。本文重點(diǎn)介紹其負(fù)
發(fā)表于 07-09 16:06
?640次閱讀
我們在使用光刻膠的時候往往關(guān)注的重點(diǎn)是光刻膠的性能,但是有時候我們會忽略光刻膠的保存和壽命問題,其實(shí)這個問題應(yīng)該在我們購買光刻膠前就應(yīng)該提出并規(guī)劃好。并且,在
發(fā)表于 07-08 14:57
?972次閱讀
與正光刻膠相比,電子束負(fù)光刻膠會形成相反的圖案?;诰酆衔锏呢?fù)型光刻膠會在聚合物鏈之間產(chǎn)生鍵或交聯(lián)。未曝光的光刻膠在顯影過程中溶解,而曝光的光刻膠
發(fā)表于 03-20 11:36
?2581次閱讀
光刻膠是一種涂覆在半導(dǎo)體器件表面的特殊液體材料,可以通過光刻機(jī)上的模板或掩模來進(jìn)行曝光。
發(fā)表于 03-04 17:19
?4723次閱讀
光刻膠不能太厚或太薄,需要按制程需求來定。比如對于需要長時間蝕刻以形成深孔的應(yīng)用場景,較厚的光刻膠層能提供更長的耐蝕刻時間。
發(fā)表于 03-04 10:49
?664次閱讀
光刻膠主要下游應(yīng)用包括:顯示屏制造、印刷電路板生產(chǎn)、半導(dǎo)體制造等,其中顯示屏是光刻膠最大的下游應(yīng)用,占比30%。光刻膠在半導(dǎo)體制造應(yīng)用占比24%,是第三達(dá)應(yīng)用場景。
發(fā)表于 01-03 18:12
?1331次閱讀
評論