中國公司砸7100萬引入ASML光刻機

1月19日晚，國內(nèi)半導(dǎo)體材料公司晶瑞股份發(fā)表公告，宣稱購得ASML公司光刻機一臺，將用于高端光刻膠項目。

晶瑞表示，自公司開展設(shè)備采購活動以來，受到投資者廣泛密切關(guān)注。

經(jīng)公司多方協(xié)商、積極運作，順利購得ASML XT1900 Gi型光刻機一臺。該設(shè)備于2021年1月19日運抵蘇州并成功搬入公司高端光刻膠研發(fā)實驗室。

下一步，公司將積極組織相關(guān)資源，盡快完成設(shè)備的安裝調(diào)試工作。

從晶瑞公司的信息來看，公司采購的光刻機設(shè)備為ASML XT 1900 Gi型ArF浸入式光刻機，可用于研發(fā)最高分辨率達28nm的高端光刻膠。

此外，28nm級別的光刻機在ASML公司中并不算多先進的型號了，官網(wǎng)上列出的沉浸式光刻機最舊的型號也是XT1965CI了，可用于20nm以下的工藝。

不過晶瑞公司購買的這臺光刻機花了1102.5萬美元，約合人民幣7129萬元，價值不菲。

晶瑞公司表示，公司量產(chǎn)光刻膠近30年，組建了國內(nèi)領(lǐng)先的光刻膠研發(fā)團隊，具有豐富的光刻膠研發(fā)和生產(chǎn)經(jīng)驗，先后承擔了國家“85”攻關(guān)、“863”重大專項、科技部創(chuàng)新基金等科技項目、承擔了國家02重大專項“i線光刻膠產(chǎn)品開發(fā)及產(chǎn)業(yè)化”項目，并順利通過國家02重大專項驗收。

公司完成中試的 KrF光刻膠已進入客戶測試階段，達到0.15μm的分辨率。

本次購買的 ASML光刻機設(shè)備系公司集成電路制造用高端光刻膠研發(fā)項目的必要實驗設(shè)備，旨在研發(fā)出更高端的 ArF 光刻膠，若研發(fā)工作進展順利，將有助于公司將光刻膠產(chǎn)品序列實現(xiàn)到 ArF 光刻膠的跨越，并最終實現(xiàn)應(yīng)用于12英寸芯片制造的戰(zhàn)略布局。
責編AJX