--- 產(chǎn)品參數(shù) ---
- 產(chǎn)地 日本
--- 產(chǎn)品詳情 ---
因產(chǎn)品配置不同, 價(jià)格貨期需要電議, 圖片僅供參考, 一切以實(shí)際成交合同為準(zhǔn)
全自動(dòng)離子刻蝕機(jī) MEL 3100
伯東公司日本原裝進(jìn)口全自動(dòng)離子刻蝕機(jī) MEL 3100, 蝕刻速率 >10(nm/min), 均勻性 ≤±5%, 全自動(dòng)化系統(tǒng)減少人工操作, 保證產(chǎn)品高穩(wěn)定性和高質(zhì)量. 有效減少因人工操作帶來的損失!
全自動(dòng)離子刻蝕機(jī) MEL 3100 特性
全自動(dòng)化系統(tǒng)
清潔: 鈦用于經(jīng)常暴露于離子束的零件, 以產(chǎn)生低粒子. 晶圓輸送盒采用高效空氣過濾器.
占地面積小, 方便維護(hù)
10.4英寸觸摸屏
配置美國 KRI 考夫曼離子源和德國 Pfeiffer 分子泵.
全自動(dòng)離子刻蝕機(jī) MEL 3100 技術(shù)規(guī)格.
型號 | MEL 3100 |
樣品數(shù)量尺寸 | 3”φ-6”φ,1片 |
晶圓輸送盒 | 1個(gè), 25 片晶圓 |
極限真空 | 8x10-5 Pa |
均勻性 | ≤±5% |
蝕刻速率 | >10(nm/min) @SiO2 |
Hakuto 日本原裝設(shè)計(jì)制造離子刻蝕機(jī) IBE, 提供微米級刻蝕, 滿足所有材料的刻蝕, 即使對磁性材料,黃金 Au, 鉑 Pt, 合金等金屬及復(fù)合半導(dǎo)體材料, 這些難刻蝕的材料也能提供蝕刻. 可用于反應(yīng)離子刻蝕 RIE 不能很好刻蝕的材料. 自 1970年至今, Hakuto 伯東已累計(jì)交付約 500套離子蝕刻機(jī). 蝕刻機(jī)可配置德國 Pfeiffer 渦輪分子泵和美國 KRI 考夫曼離子源!
伯東公司超過 50年的刻蝕 IBE 市場經(jīng)驗(yàn), 擁有龐大的安裝基礎(chǔ)和經(jīng)過市場驗(yàn)證的刻蝕技術(shù)!
若您需要進(jìn)一步的了解離子蝕刻機(jī)詳細(xì)信息, 請聯(lián)絡(luò)上海伯東葉女士, 分機(jī)107
現(xiàn)部分品牌誠招合作代理商, 有意向者歡迎聯(lián)絡(luò)上海伯東 葉女士
上海伯東版權(quán)所有, 翻拷必究!
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