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北京中科同志科技股份有限公司

集研發(fā)、生產(chǎn)、銷售為一體的真空回流焊、亞微米貼片機、smt生產(chǎn)線設(shè)備、真空共晶爐、點膠機、印刷機等SMT設(shè)備及PCB設(shè)備的廠家

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  • 發(fā)布了文章 2025-02-10 11:35

    半導體封裝革新之路:互連工藝的升級與變革

    在半導體產(chǎn)業(yè)中,封裝是連接芯片與外界電路的關(guān)鍵環(huán)節(jié),而互連工藝則是封裝中的核心技術(shù)之一。它負責將芯片的輸入輸出端口(I/O端口)與封裝基板或外部電路連接起來,實現(xiàn)電信號的傳輸與交互。本文將詳細介紹半導體封裝中的互連工藝,包括其主要分類、技術(shù)特點、應(yīng)用場景以及未來的發(fā)展趨勢。
  • 發(fā)布了文章 2025-02-08 10:44

    從研發(fā)到應(yīng)用:國產(chǎn)高速高精度貼片機的全面發(fā)展之路

    在電子制造行業(yè)的快速發(fā)展浪潮中,表面貼裝技術(shù)(SMT)作為電子組裝領(lǐng)域的主流技術(shù),正以前所未有的速度推動著電子產(chǎn)品的生產(chǎn)效率和質(zhì)量提升。而貼片機作為SMT生產(chǎn)線中的核心設(shè)備,其性能和技術(shù)水平直接決定了電子產(chǎn)品的制造效率和品質(zhì)。近年來,國產(chǎn)高速高精度貼片機在技術(shù)創(chuàng)新、市場拓展等方面取得了顯著的成就,正逐步打破國際品牌的壟斷,成為全球電子制造業(yè)中不可忽視的力量。
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  • 發(fā)布了文章 2025-02-07 11:32

    濕度大揭秘!如何影響功率半導體器件芯片焊料熱阻?

    近年來,隨著電力電子技術(shù)的快速發(fā)展,功率半導體器件在風力發(fā)電、光伏發(fā)電、電動汽車等戶外工況中的應(yīng)用日益廣泛。然而,這些戶外環(huán)境往往伴隨著較高的濕度,這對功率半導體器件的運行可靠性構(gòu)成了嚴峻挑戰(zhàn)。特別是濕度對功率半導體器件芯片焊料熱阻的影響,已成為學術(shù)界和工業(yè)界關(guān)注的焦點。本文將深入探討濕度對功率半導體器件芯片焊料熱阻的影響機理,以期為功率半導體器件的設(shè)計、制
  • 發(fā)布了文章 2025-02-06 11:33

    碳化硅SiC MOSFET:八大技術(shù)難題全解析!

    碳化硅(SiC)MOSFET作為一種新型功率半導體器件,因其高耐壓、低損耗、高頻率等優(yōu)異性能,在電力電子領(lǐng)域得到了廣泛應(yīng)用。然而,SiCMOSFET在研發(fā)和應(yīng)用過程中也面臨著一系列技術(shù)問題。本文將詳細探討SiCMOSFET的八大技術(shù)問題,并給出相應(yīng)的解決方案或研究方向。一、SiCMOSFET的柵極氧化層可靠性問題問題概述:SiCMOSFET的柵極氧化層是其核
  • 發(fā)布了文章 2025-01-24 11:01

    集成電路外延片詳解:構(gòu)成、工藝與應(yīng)用的全方位剖析

    集成電路是現(xiàn)代電子技術(shù)的基石,而外延片作為集成電路制造過程中的關(guān)鍵材料,其性能和質(zhì)量直接影響著最終芯片的性能和可靠性。本文將深入探討集成電路外延片的組成、制備工藝及其對芯片性能的影響。
  • 發(fā)布了文章 2025-01-23 10:30

    揭秘Au-Sn共晶鍵合:MEMS封裝的高效解決方案

    隨著微型機電系統(tǒng)(MEMS)技術(shù)的快速發(fā)展,其在汽車、醫(yī)療、通信、消費電子等領(lǐng)域的應(yīng)用日益廣泛。MEMS器件由于其獨特的結(jié)構(gòu)和功能特性,對封裝技術(shù)提出了極高的要求。其中,氣密性封裝是MEMS封裝中的關(guān)鍵技術(shù)之一,它不僅能夠保護MEMS器件免受外部環(huán)境的影響,還能提高器件的性能和可靠性。Au-Sn共晶鍵合技術(shù)作為一種先進的封裝技術(shù),在MEMS氣密性封裝中展現(xiàn)出
  • 發(fā)布了文章 2025-01-22 12:57

    集成電路新突破:HKMG工藝引領(lǐng)性能革命

    隨著集成電路技術(shù)的飛速發(fā)展,器件尺寸不斷縮小,性能不斷提升。然而,這種縮小也帶來了一系列挑戰(zhàn),如柵極漏電流增加、多晶硅柵耗盡效應(yīng)等。為了應(yīng)對這些挑戰(zhàn),業(yè)界開發(fā)出了高K金屬柵(High-K Metal Gate,簡稱HKMG)工藝。HKMG工藝作為現(xiàn)代集成電路制造中的關(guān)鍵技術(shù)之一,對提升芯片性能、降低功耗具有重要意義。本文將詳細介紹HKMG工藝的基本原理、分類
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  • 發(fā)布了文章 2025-01-20 11:44

    半導體制造里的ALD工藝:比“精”更“精”!

    在半導體制造這一高度精密且不斷進步的領(lǐng)域,每一項技術(shù)都承載著推動行業(yè)發(fā)展的關(guān)鍵使命。原子層沉積(Atomic Layer Deposition,簡稱ALD)工藝,作為一種先進的薄膜沉積技術(shù),正逐漸成為半導體制造中不可或缺的一環(huán)。本文將深入探討半導體中為何會用到ALD工藝,并分析其獨特優(yōu)勢和應(yīng)用場景。
  • 發(fā)布了文章 2025-01-17 14:45

    揭秘PoP封裝技術(shù),如何引領(lǐng)電子產(chǎn)品的未來?

    隨著電子產(chǎn)品的日益小型化、多功能化,對半導體封裝技術(shù)提出了更高要求。PoP(Package on Package,疊層封裝)作為一種先進的封裝技術(shù),在智能手機、數(shù)碼相機、便攜式穿戴設(shè)備等消費類電子產(chǎn)品中得到了廣泛應(yīng)用。本文將詳細探討PoP疊層封裝工藝的原理、特點、結(jié)構(gòu)類型、關(guān)鍵技術(shù)、應(yīng)用以及未來發(fā)展趨勢。
  • 發(fā)布了文章 2025-01-16 13:14

    引線框架質(zhì)量大起底:影響集成電路的關(guān)鍵因素

    集成電路(IC)是現(xiàn)代電子信息技術(shù)的核心內(nèi)容,是現(xiàn)代電子工程、計算機和信息工業(yè)開發(fā)的重要基礎(chǔ)。在集成電路的構(gòu)成中,引線框架作為連接芯片與外部電路的關(guān)鍵部件,其質(zhì)量對集成電路的整體性能、可靠性和使用壽命具有至關(guān)重要的影響。本文將深入分析集成電路中引線框架的質(zhì)量影響因素,探討其對集成電路性能的具體影響,并提出相應(yīng)的質(zhì)量控制措施。

企業(yè)信息

認證信息: 中科同志科技

聯(lián)系人:張經(jīng)理

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地址:馬駒橋聯(lián)東U谷科技園區(qū)15號12I

公司介紹:中科同志專業(yè)研發(fā)生產(chǎn)真空回流焊、氮氣回流焊和亞微米貼片機,從事半導體真空封裝設(shè)備20年,2014年真空回流焊獲得國家科技部火炬計劃產(chǎn)業(yè)化示范項目,2016-2022年,20多項產(chǎn)品獲得獲得北京市新技術(shù)新產(chǎn)品。在真空回流焊領(lǐng)域,中科同志獲得100多項專利,是目前行業(yè)其他公司的3倍以上。

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