電子發(fā)燒友網(wǎng)報(bào)道（文/李彎彎）近期，各大視頻平臺(tái)瘋傳一條消息，稱清華大學(xué)EUV項(xiàng)目，把ASML的光刻機(jī)巨大化，實(shí)現(xiàn)了光刻機(jī)國(guó)產(chǎn)化，并表示這個(gè)項(xiàng)目已經(jīng)在雄安新區(qū)落地，還在視頻中配了下面這張圖，表示圖片
2023-09-20 08:56:50
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聯(lián)想入股中科慧靈機(jī)器人公司 日前聯(lián)想入股中科慧靈機(jī)器人公司，北京中科慧靈機(jī)器人技術(shù)有限公司成立于2023年8月，是一家面向智能機(jī)器人、人工智能服務(wù)的企業(yè)，聯(lián)想的入股或是在加大對(duì)智能機(jī)器人的布局。
2024-03-21 16:46:34248 光刻機(jī)經(jīng)歷了5代產(chǎn)品發(fā)展，每次改進(jìn)和創(chuàng)新都顯著提升了光刻機(jī)所能實(shí)現(xiàn)的最小工藝節(jié)點(diǎn)。按照使用光源依次從g-line、i-line發(fā)展到KrF、ArF和EUV；按照工作原理依次從接觸接近式光刻機(jī)發(fā)展到浸沒步進(jìn)式投影光刻機(jī)和極紫外式光刻機(jī)。
2024-03-21 11:31:4142 
在曝光過程中，掩模版與涂覆有光刻膠的硅片直接接觸。接觸式光刻機(jī)的縮放比為1:1，分辨率可達(dá)到4-5微米。由于掩模和光刻膠膜層反復(fù)接觸和分離，隨著曝光次數(shù)的增加，會(huì)引起掩模版和光刻膠膜層損壞、芯片良率下降等不良后果。
2024-03-08 10:42:3788 
來源：半導(dǎo)體行業(yè)聯(lián)盟，謝謝 編輯：感知芯視界 Link 3月3日消息，華為哈勃投資事件數(shù)量開始回落，2023 年僅在投資市場(chǎng)上出手 9 次，同比大降62.5%，基本與其成立之初持平。 哈勃投資
2024-03-07 09:32:12227 根據(jù)資料顯示，在2012年，為了支持ASML EUV光刻機(jī)的研發(fā)與商用，并獲得EUV光刻機(jī)的優(yōu)先供應(yīng)，在2012年，英特爾、臺(tái)積電、三星均斥資入股了ASML。2012年7月，英特爾入股ASML獲得15%股權(quán)，并出資10億美元支持研發(fā)。
2024-02-23 17:27:59562 來源：DIGITIMES ASIA 佳能預(yù)計(jì)其納米壓印光刻機(jī)將于今年出貨，與ASML的EVU設(shè)備競(jìng)爭(zhēng)市場(chǎng)，因?yàn)槭澜绺鞯氐慕?jīng)濟(jì)體都熱衷于擴(kuò)大其本土芯片產(chǎn)能。 佳能董事長(zhǎng)兼首席執(zhí)行官Hiroaki
2024-02-01 15:42:05270 
太平洋安防市場(chǎng)原來生意很旺，安防市場(chǎng)是由珠三角地區(qū)做攝像
機(jī)、高速球、數(shù)碼矩陣、網(wǎng)絡(luò)攝像
機(jī)、平安城市的安防
企業(yè)支撐的，但是深圳的安防
企業(yè)方陣在與杭州的安防
企業(yè)集群PK中敗下陣來了，市場(chǎng)被杭州的?？低?/div>
2024-01-23 09:51:28
關(guān)于光刻機(jī)，大家還記得美國(guó)荷蘭日本的三方協(xié)議嗎？來回憶一下。 隨著芯片在各個(gè)領(lǐng)域的重要性不斷提升，人們對(duì)芯片制造的關(guān)注也日益增加。 但半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈非常復(fù)雜，不僅僅涉及到底層的架構(gòu)設(shè)計(jì)，還需要通過
2024-01-17 17:56:59292 光刻膠主要下游應(yīng)用包括：顯示屏制造、印刷電路板生產(chǎn)、半導(dǎo)體制造等，其中顯示屏是光刻膠最大的下游應(yīng)用，占比30%。光刻膠在半導(dǎo)體制造應(yīng)用占比24%，是第三達(dá)應(yīng)用場(chǎng)景。
2024-01-03 18:12:21346 
在10-11月份中國(guó)進(jìn)口ASML的光刻機(jī)激增10多倍后，美國(guó)官員聯(lián)系了荷蘭政府。荷蘭外交發(fā)言人表示，出口許可證是根據(jù)荷蘭國(guó)家安全逐案評(píng)估的。
2024-01-03 15:22:24553 1. ASML 聲明：2050 及2100 光刻機(jī)出口許可證已被部分撤銷 ? ASML日前發(fā)表聲明，稱荷蘭政府最近部分撤銷了此前頒發(fā)的NXT:2050i and NXT:2100i光刻機(jī)在2023
2024-01-02 11:20:33934 
如果我們假設(shè)光刻機(jī)成本為 3.5 億至 4 億美元，并且 2024 年 10 個(gè)光刻機(jī)的HIGH NA 銷售額將在 35億至40億美元之間。
2023-12-28 11:31:39406 光刻與光刻機(jī)
?對(duì)準(zhǔn)和曝光在光刻機(jī)(Lithography Tool)內(nèi)進(jìn)行。
?其它工藝在涂膠顯影機(jī)(Track)上進(jìn)行。
光刻機(jī)結(jié)構(gòu)及工作原理
?光刻機(jī)簡(jiǎn)介
?光刻機(jī)結(jié)構(gòu)及工作原理
2023-12-19 09:28:00245 
歡迎了解 光刻機(jī)（Lithography Machine）是一種半導(dǎo)體工業(yè)中常用的設(shè)備，用于將掩模版上的芯片電路圖轉(zhuǎn)移到硅片上，是IC制造的核心環(huán)節(jié)，光刻機(jī)的基本工作原理是利用光學(xué)原理將圖案投射
2023-12-18 08:42:12278 
勻膠是光刻中比較重要的一步，而旋涂速度是勻膠中至關(guān)重要的參數(shù)，那么我們?cè)趧蚰z時(shí)，是如何確定勻膠速度呢？它影響光刻膠的哪些性質(zhì)？
2023-12-15 09:35:56442 
光學(xué)模型是基于霍普金斯（Hopkins）光學(xué)成像理論，預(yù)先計(jì)算出透射相交系數(shù)（TCCs），從而描述光刻機(jī)的光學(xué)成像。光學(xué)模型中，經(jīng)過優(yōu)化的光源，通過光刻機(jī)的照明系統(tǒng)，照射在掩模上。如果在實(shí)際光刻
2023-12-11 11:35:32288 
光刻工藝就是把芯片制作所需要的線路與功能做出來。利用光刻機(jī)發(fā)出的光通過具有圖形的光罩對(duì)涂有光刻膠的薄片曝光，光刻膠見光后會(huì)發(fā)生性質(zhì)變化，從而使光罩上得圖形復(fù)印到薄片上，從而使薄片具有電子線路圖的作用
2023-12-04 09:17:241334 
雕刻電路圖案的核心制造設(shè)備是光刻機(jī)，它的精度決定了制程的精度。光刻機(jī)的運(yùn)作原理是先把設(shè)計(jì)好的芯片圖案印在掩膜上，用激光穿過掩膜和光學(xué)鏡片，將芯片圖案曝光在帶有光刻膠涂層的硅片上，涂層被激光照到之處則溶解，沒有被照到之處保持不變，掩膜上的圖案就被雕刻到芯片光刻膠涂層上。
2023-11-24 12:27:061280 
就國(guó)別來看，來自荷蘭的進(jìn)口額暴漲了超過6倍。預(yù)估其中大部分為荷蘭光刻機(jī)龍頭艾ASML的光刻機(jī)產(chǎn)品。來自日本的半導(dǎo)體設(shè)備進(jìn)口額成長(zhǎng)約40%、來自美國(guó)的進(jìn)口額則僅增長(zhǎng)20%。
2023-11-22 17:09:02419 EUV曝光是先進(jìn)制程芯片制造中最重要的部分，占據(jù)總時(shí)間、總成本的一半以上。由于這種光刻機(jī)極為復(fù)雜，因此ASML每年只能制造約60臺(tái)，而全球5家芯片制造商都依賴ASML的EUV光刻機(jī)，包括英特爾、美光、三星、SK海力士、臺(tái)積電。目前，AMSL約有70%的EUV光刻機(jī)被臺(tái)積電購(gòu)買。
2023-11-22 16:46:56383 光刻膠在未曝光之前是一種黏性流體，不同種類的光刻膠具有不同的黏度。黏度是光刻膠的一項(xiàng)重要指標(biāo)。那么光刻膠的黏度為什么重要？黏度用什么表征？哪些光刻膠算高黏度，哪些算低黏度呢？
2023-11-13 18:14:11570 
1. 尼康將推出成熟制程光刻機(jī)，積極開拓中國(guó)市場(chǎng) ? 目前在全球光刻機(jī)市場(chǎng)中，荷蘭ASML掌握62%的市場(chǎng)份額排名第一，佳能排名第二，占比31%。尼康排在第三位，占比僅7%，明顯落后。不過尼康近期
2023-11-09 11:17:29283 目前，俄羅斯雖然擁有利用外國(guó)制造設(shè)備的65納米技術(shù)，但不能生產(chǎn)光刻機(jī)。在現(xiàn)代光刻設(shè)備的情況下，外國(guó)企業(yè)被禁止出口之后，俄羅斯正在忙于自身的生產(chǎn)設(shè)備開發(fā)。
2023-11-06 11:38:55473 2020年時(shí)，ASML總裁還聲稱中國(guó)即使拿到設(shè)計(jì)圖紙也無法自制光刻機(jī)。但2021年開始，其態(tài)度出現(xiàn)變化，承認(rèn)中國(guó)有可能獨(dú)立制造光刻機(jī)系統(tǒng)。2022年甚至主動(dòng)表示要繼續(xù)向中國(guó)出售光刻機(jī)。2023年上半年，ASML開始大量向中國(guó)傾銷光刻機(jī)。
2023-10-30 16:18:101124 光學(xué)光刻是通過廣德照射用投影方法將掩模上的大規(guī)模集成電路器件的結(jié)構(gòu)圖形畫在涂有光刻膠的硅片上，通過光的照射，光刻膠的成分發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，從而生成電路圖。限制成品所能獲得的最小尺寸與光刻系統(tǒng)能獲得的分辨率直接相關(guān)，而減小照射光源的波長(zhǎng)是提高分辨率的最有效途徑。
2023-10-24 11:43:15271 
當(dāng)制程節(jié)點(diǎn)演進(jìn)到5nm時(shí)，DUV和多重曝光技術(shù)的組合也難以滿足量產(chǎn)需求了，EUV光刻機(jī)就成為前道工序的必需品了，沒有它，很難制造出符合應(yīng)用需求的5nm芯片，即使不用EUV能制造出一些5nm芯片，其整個(gè)生產(chǎn)線的良率也非常低，無法形成大規(guī)模的商業(yè)化生產(chǎn)。
2023-10-13 14:45:03834 
水平。 ? 美光的1γ節(jié)點(diǎn) ? 在今年五月，美光宣布將在日本引入EUV光刻機(jī)，用于開發(fā)下一代DRAM，基于最先進(jìn)的1γ節(jié)點(diǎn)。此消息一出，美光也就成為第一個(gè)為日本引入EUV光刻機(jī)的企業(yè)，美光計(jì)劃在未來幾年內(nèi)，為位于廣島的設(shè)施投資5000億日元持續(xù)
2023-10-10 01:13:001437 SMT鐳雕機(jī)_自動(dòng)在線激光刻印_全自動(dòng)翻板鐳雕機(jī)PCB在線激光鐳雕機(jī)，選用國(guó)際領(lǐng)先工業(yè)級(jí)激光器，加工速度快，使用壽命長(zhǎng)， 可刻印漢字，英文、數(shù)字、圖表、流水號(hào)、LOGO、條形碼、二維碼等內(nèi)容
2023-09-23 10:16:45
九月，華為新一代旗艦手機(jī)正式亮相市場(chǎng)，華為產(chǎn)業(yè)鏈火熱不斷。作為與電感變壓器企業(yè)息息相關(guān)的終端客戶，華為的動(dòng)向給行業(yè)又帶來了哪些影響?
2023-09-20 10:17:21634 UV光刻機(jī)一般可以分為5種，即：接觸式光刻機(jī)，接近式光刻機(jī)，掃描投影式光刻機(jī)
2023-09-19 11:32:521303 
8 月 28 日，由華為云與生態(tài)伙伴聯(lián)合發(fā)起的“828?B2B 企業(yè)節(jié)”即將開幕，在這個(gè)以數(shù)字化轉(zhuǎn)型為主題的盛會(huì)上，華為云會(huì)攜手行業(yè)合作伙伴將以全新的形式為中小企業(yè)提供一個(gè)高效、便捷的在線溝通平臺(tái)
2023-09-12 23:18:22162 在芯片制造過程中，光刻機(jī)用于在硅片上形成光刻膠圖形，作為制造電路的模板。光刻機(jī)使用紫外光或其他光源照射硅片上的光刻膠，并通過投影光學(xué)系統(tǒng)將圖形投射到硅片上，以形成所需的微小結(jié)構(gòu)和圖案。
2023-09-12 14:34:372324 早在2015年，中國(guó)的長(zhǎng)春光機(jī)所就成功研發(fā)出了EUV（極紫外光刻）光刻機(jī)的高精度弧形反射鏡系統(tǒng)。這個(gè)系統(tǒng)的多層層鍍膜面形誤差小于0.1納米，達(dá)到了EUV級(jí)光刻機(jī)的標(biāo)準(zhǔn)。這個(gè)成就在國(guó)際上已經(jīng)堪稱頂尖水平。
2023-09-11 17:16:489826 運(yùn)動(dòng)平臺(tái)如雙XY橋臺(tái)、雙驅(qū)動(dòng)龍門臺(tái)、空流平臺(tái)等。這些線性運(yùn)動(dòng)平臺(tái)也將用于光刻機(jī)、面板處理、測(cè)試機(jī)、印刷電路板鉆并機(jī)、高精度激光處理設(shè)備、基因序列儀、腦細(xì)胞成像儀和其他醫(yī)療設(shè)備。
高動(dòng)態(tài)響應(yīng)
低安裝高度
UL與CE認(rèn)證
持續(xù)推力范圍103N至
瞬間推力范圍289N至
安裝高度34mm,36mm
2023-09-04 16:14:38
光刻機(jī)是半導(dǎo)體制造行業(yè)的“心臟”，也是集成電路制造過程中不可或缺的關(guān)鍵設(shè)備。盡管國(guó)在半導(dǎo)體領(lǐng)域取得了顯著進(jìn)展，但在光刻機(jī)的自主研發(fā)方面仍面臨諸多挑戰(zhàn)。本文旨在分析國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)研發(fā)中的幾大難點(diǎn)。
2023-08-30 09:42:062096 
，華為旗下深圳哈勃科技投資合伙企業(yè)（有限合伙）入股南京中江新材料科技有限公司，后者注冊(cè)資本由3000萬人民幣增至3529.41萬人民幣，哈勃將持有中江科易15%股權(quán)
2023-08-29 08:11:43976 
比亞迪入股前華為“天才少年”創(chuàng)辦的智元機(jī)器人 前幾天智元機(jī)器人的人形機(jī)器人“遠(yuǎn)征A1”于正式發(fā)布。現(xiàn)在前華為“天才少年”“稚暉君”創(chuàng)辦的智元機(jī)器人再次迎來好消息，比亞迪入股。 比亞迪押注華為
2023-08-25 18:04:181483 東方嘉盛回答說，公司上半年向深圳海關(guān)申請(qǐng)?jiān)O(shè)立寄售維修保稅倉(cāng)庫(kù)，已經(jīng)得到批準(zhǔn)。7月初，公司已中標(biāo)，將與國(guó)際頭芯片光刻機(jī)制造企業(yè)合作，共同在深圳建設(shè)承銷保價(jià)倉(cāng)庫(kù)，為華南地區(qū)集成電路制造企業(yè)提供全天候快速反應(yīng)的光刻機(jī)承銷維修服務(wù)。
2023-08-24 11:20:44687 光刻是半導(dǎo)體芯片生產(chǎn)流程中最復(fù)雜、最關(guān)鍵的工藝步驟，耗時(shí)長(zhǎng)、成本高。半導(dǎo)體芯片生產(chǎn)的難點(diǎn)和關(guān)鍵點(diǎn)在于將電路圖從掩模上轉(zhuǎn)移至硅片上，這一過程通過光刻來實(shí)現(xiàn)， 光刻的工藝水平直接決定芯片的制程水平和性能水平。
2023-08-23 10:47:531585 
光刻機(jī)有半導(dǎo)體工業(yè)“皇冠上的明珠“之稱，是高速生產(chǎn)芯片所需要的最關(guān)鍵和最復(fù)雜的設(shè)備之一（一臺(tái)光刻機(jī)有10萬個(gè)組件）。目前全世界的高端光刻機(jī)被荷蘭公司ASML壟斷（中低端產(chǎn)品美國(guó)、日本和中國(guó)均能生產(chǎn)），而絕大部分的組件供應(yīng)商又被美國(guó)控制。
2023-08-21 16:09:33472 、真空鍍膜的國(guó)產(chǎn)化率達(dá)到10-30％，在原子層沉積、光刻、量測(cè)檢測(cè)、離子注入的國(guó)產(chǎn)化率暫時(shí)低于5％。還有很長(zhǎng)的路要走，還有很多創(chuàng)新要去發(fā)力，還有很多的困難要去克服。 對(duì)于光刻機(jī)而言我們也在積極發(fā)力，比如華為也在光刻機(jī)技術(shù)取得了
2023-08-09 11:50:204182 喜報(bào)！我國(guó)第一臺(tái)28nm光刻機(jī)，交付時(shí)間已定！
2023-08-02 16:54:41965 
聯(lián)想入股RISC-V計(jì)算芯片商進(jìn)迭時(shí)空 RISC-V計(jì)算芯片商進(jìn)迭時(shí)空已經(jīng)得到了知名投資機(jī)構(gòu)經(jīng)緯、耀途、萬物、真格等的投資。 日前，聯(lián)想入股RISC-V計(jì)算芯片商進(jìn)迭時(shí)空；進(jìn)迭時(shí)空（杭州
2023-07-31 18:49:531000 隨著制程工藝的進(jìn)步，DRAM內(nèi)存芯片也面臨著CPU/GPU一樣的微縮難題，解決辦法就是上EUV光刻機(jī)，但是設(shè)備實(shí)在太貴，現(xiàn)在還要榨干DUV工藝最后一滴，DDR5內(nèi)存有望實(shí)現(xiàn)單條1TB。
2023-07-31 17:37:07875 
EUV（Extreme Ultraviolet）光刻機(jī)是一種高級(jí)光刻設(shè)備，用于半導(dǎo)體制造業(yè)中的微電子芯片生產(chǎn)。EUV光刻機(jī)是目前最先進(jìn)的光刻技術(shù)之一，它采用極端紫外光作為曝光光源，具有更短的波長(zhǎng)
2023-07-24 18:19:471095 摘要 ：隨著微電子產(chǎn)業(yè)的迅猛發(fā)展，我國(guó)迫切需要研制極大規(guī)模集成電路的加工設(shè)備-光刻機(jī)。曝光波長(zhǎng)為193nm的投影式光刻機(jī)因其技術(shù)成熟、曝光線寬可延伸至32nm節(jié)點(diǎn)的優(yōu)勢(shì)已成為目前光刻領(lǐng)域的主流設(shè)備
2023-07-17 11:02:38592 
ASML：沒向中國(guó)推出特別版光刻機(jī) 就是荷蘭出臺(tái)光刻機(jī)限制出口禁令后ASML給出了回應(yīng)，ASML：沒向中國(guó)推出特別版光刻機(jī)。ASML表示ASML一致都遵守所適用的法律條例，并沒有面向中國(guó)市場(chǎng)推出
2023-07-07 12:32:371112 光刻機(jī)是半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的重要設(shè)備之一。網(wǎng)傳荷蘭ASML（阿斯麥）試圖規(guī)避荷蘭新銷售許可禁令，向中國(guó)推出特別版DUV光刻機(jī)，但ASML據(jù)報(bào)否認(rèn)這一行動(dòng)，并指一直都遵守所適用的法律條例。
2023-07-07 11:50:521351 
GK-1000光刻掩膜版測(cè)溫儀，光刻機(jī)曝光光學(xué)系統(tǒng)測(cè)溫儀光刻機(jī)是一種用于微納米加工的設(shè)備，主要用于制造集成電路、光電子器件、MEMS（微機(jī)電系統(tǒng)）等微細(xì)結(jié)構(gòu)。光刻機(jī)是一種光學(xué)投影技術(shù)，通過將光線通過
2023-07-07 11:46:07
半導(dǎo)體企業(yè)可以繼續(xù)使用荷蘭的設(shè)備生產(chǎn) 28 納米及更成熟工藝的芯片。 消息稱該特別版 DUV 光刻機(jī)基于 Twinscan NXT: 1980Di 光刻系統(tǒng)改造，而 1980Di 是 10?年前推出
2023-07-06 16:45:01924 
6月27日，記者查詢天眼查發(fā)現(xiàn)，近日，深圳銳視智芯科技有限公司（下稱“銳視智芯”）發(fā)生工商變更，新增股東華為關(guān)聯(lián)公司深圳哈勃科技投資合伙企業(yè)（有限合伙）、青島同歌一期創(chuàng)業(yè)投資基金合伙企業(yè)（有限合伙
2023-06-29 08:44:11284 光刻機(jī)的難度在于要滿足復(fù)雜的制程需求、高精度的要求以及大規(guī)模生產(chǎn)的挑戰(zhàn)。為了應(yīng)對(duì)這些挑戰(zhàn)，光刻機(jī)制造商需要投入大量的研發(fā)資源和技術(shù)創(chuàng)新，不斷提升設(shè)備性能和穩(wěn)定性。
2023-06-28 16:37:4819503 報(bào)道稱，ASML 量產(chǎn)尖端半導(dǎo)體工藝所需的 EUV 光刻機(jī)。Rapidus 計(jì)劃利用經(jīng)產(chǎn)省提供的補(bǔ)貼，采購(gòu) EUV 光刻設(shè)備。IT之家注意到，EUV 光刻機(jī)在全球范圍內(nèi)較為短缺，面臨著臺(tái)積電、英特爾、三星等巨頭的爭(zhēng)搶。報(bào)道指出，如果 Rapidus 和 ASML 展開合作，有望強(qiáng)化供應(yīng)鏈。
2023-06-27 16:08:05498 
搞光刻機(jī)必須要有搞核彈的精神，但只有這種精神是不夠的！光刻機(jī)畢竟不是核彈，光刻機(jī)從試驗(yàn)機(jī)改良成量產(chǎn)機(jī)，需要與產(chǎn)線相結(jié)合試驗(yàn)生產(chǎn)，這些步驟是不可能秘密進(jìn)行的。
2023-06-27 15:50:0810752 
電子發(fā)燒友網(wǎng)報(bào)道（文/周凱揚(yáng)）在上游的半導(dǎo)體制造產(chǎn)業(yè)中，除了光刻機(jī)等設(shè)備外，光刻膠、掩膜版等材料也是決定晶圓質(zhì)量與良率的關(guān)鍵因素。就拿掩膜版來說，這個(gè)承載設(shè)計(jì)圖形的材料，經(jīng)過曝光后將圖形信息轉(zhuǎn)移到
2023-06-22 01:27:001984 因此光刻機(jī)對(duì)芯片制造非常重要，它是影響芯片制造質(zhì)量和效率的重要因素?？v觀全球光刻機(jī)市場(chǎng)，荷蘭ASML公司一家獨(dú)大，占據(jù)全球80%的光刻機(jī)市場(chǎng)份額，高端EUV光刻機(jī)的市占比更是達(dá)到100%。
2023-06-20 11:42:271258 文章大綱 光刻是芯片制造最核心環(huán)節(jié)，大陸自給率亟待提升 ·光刻機(jī)是芯片制造的核心設(shè)備，市場(chǎng)規(guī)模全球第二 ·一超兩強(qiáng)壟斷市場(chǎng)，大陸卡脖子現(xiàn)象凸顯 光刻機(jī)：多個(gè)先進(jìn)系統(tǒng)的組合，核心零部件被海外廠商壟斷
2023-06-19 10:04:008367 
光刻機(jī)可分為前道光刻機(jī)和后道光刻機(jī)。光刻機(jī)既可以用在前道工藝，也可以用在后道工藝，前道光刻機(jī)用于芯片的制造，曝光工藝極其復(fù)雜，后道光刻機(jī)主要用于封裝測(cè)試，實(shí)現(xiàn)高性能的先進(jìn)封裝，技術(shù)難度相對(duì)較小。
2023-06-15 11:14:533429 
來源：欣奕華材料 據(jù)欣奕華材料官微消息，近日，國(guó)內(nèi)光刻膠龍頭企業(yè)阜陽(yáng)欣奕華材料科技有限公司（以下簡(jiǎn)稱“阜陽(yáng)欣奕華”）完成超5億元人民幣 D 輪融資。 據(jù)悉，本輪融資由盛景嘉成母基金
2023-06-13 16:40:00552 光刻機(jī)可分為前道光刻機(jī)和后道光刻機(jī)。光刻機(jī)既可以用在前道工藝，也可以用在后道工藝，前道光刻機(jī)用于芯片的制造，曝光工藝極其復(fù)雜，后道光刻機(jī)主要用于封裝測(cè)試，實(shí)現(xiàn)高性能的先進(jìn)封裝，技術(shù)難度相對(duì)較小。
2023-06-09 10:49:205857 
極紫外光刻的制約因素
耗電量高極紫外線波長(zhǎng)更短，但易被吸收，可利用率極低，需要光源提供足夠大的功率。如ASML 3400B光刻機(jī)，250W的功率，每天耗電達(dá)到三萬度。
生產(chǎn)效率仍不
2023-06-08 15:56:42283 
光刻機(jī)技術(shù)有多難搞？有人將它與核彈相提并論：目前，全球光刻機(jī)已由荷蘭ASML、日本尼康和佳能公司完全壟斷。10nm節(jié)點(diǎn)以下，ASML穩(wěn)穩(wěn)占據(jù)100%的市場(chǎng)，佳能和尼康等同業(yè)競(jìng)爭(zhēng)對(duì)手難以打破這樣的局面
2023-06-08 14:55:0020068 
asml是euv技術(shù)開發(fā)的領(lǐng)先者。asml公司是半導(dǎo)體領(lǐng)域光刻機(jī)生產(chǎn)企業(yè)的領(lǐng)頭羊，也是全球市場(chǎng)占有率最大的光刻機(jī)生產(chǎn)企業(yè)。2012年，asml推出了世界上第一個(gè)euv試制品，并于2016年推出了euv第一個(gè)商用顯卡制造機(jī)asmlnxe:3400b。
2023-06-08 09:37:553202 光刻機(jī)是半導(dǎo)體制造領(lǐng)域的核心設(shè)備之一，其發(fā)展過程當(dāng)然是半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)發(fā)展的重要組成部分。雖然我們?cè)诰W(wǎng)上經(jīng)常可以看到光刻機(jī)的突破性地圖，但事實(shí)上，從光刻機(jī)的概念萌芽到目前的技術(shù)發(fā)展和大量生產(chǎn)，其發(fā)展過程是漫長(zhǎng)而艱辛的。
2023-06-08 09:30:07992 極紫外 (EUV) 光刻系統(tǒng)是當(dāng)今使用的最先進(jìn)的光刻系統(tǒng)。本文將介紹這項(xiàng)重要但復(fù)雜的技術(shù)。
2023-06-06 11:23:54688 
上海伯東客戶日本某生產(chǎn)半導(dǎo)體用光刻機(jī)公司, 光刻機(jī)真空度需要達(dá)到 1x10-11 pa 的超高真空, 因?yàn)樵O(shè)備整體較大, 需要對(duì)構(gòu)成光刻機(jī)的真空相關(guān)部件進(jìn)行檢漏且要求清潔無油, 滿足無塵室使用要求, 為了方便進(jìn)行快速檢漏, 采購(gòu)伯東 Pfeiffer 便攜式氦質(zhì)譜檢漏儀 ASM 310.
2023-06-02 15:53:52396 
上海伯東客戶某光刻機(jī)生產(chǎn)商, 生產(chǎn)的電子束光刻機(jī) Electron Beam Lithography System 最大能容納 300mmφ 的晶圓片和 6英寸的掩模版, 適合納米壓印, 光子器件
2023-06-02 15:49:40492 
由于美國(guó)的干涉，asml的極紫外線光刻機(jī)無法出口到中國(guó)，甚至深度紫外線光刻機(jī)也受到了限制。很明顯，美國(guó)不會(huì)放松對(duì) EUV光刻機(jī)的出口限制。
2023-06-01 10:43:441552 ，獲2輪及以上融資的企業(yè)占比達(dá)54%。
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生態(tài)伙伴介紹：深圳科創(chuàng)學(xué)院
深圳科創(chuàng)學(xué)院由李澤湘教授攜二十多年科創(chuàng)教育以及150 多家硬科技企業(yè)、包括8家估值過十億美金的獨(dú)角獸企業(yè)培育與孵化的經(jīng)驗(yàn)，集合
2023-05-26 10:56:51
之前的小講堂有介紹過，光刻過程就好比用照相機(jī)拍照，將掩模版上的芯片設(shè)計(jì)版圖曝光到晶圓上，從而制造出微小的電路結(jié)構(gòu)。ASML光刻機(jī)的鏡片組使用極其精密的加工手段制造，使得最終像差被控制在納米級(jí)別，才能穩(wěn)定地通過曝光印刷微電路。
2023-05-25 10:13:28497 
需要明確什么是EUV光刻機(jī)。它是一種采用極紫外線光源進(jìn)行曝光的設(shè)備。與傳統(tǒng)的ArF光刻機(jī)相比，EUV光刻機(jī)可以將曝光分辨率提高到7納米以下的超高級(jí)別，從而實(shí)現(xiàn)更高清晰度和更高性能的芯片制造。
2023-05-22 12:48:373985 在投影光刻機(jī)照明系統(tǒng)中，均勻照明是保證加工出的線條線寬均勻一致的一項(xiàng)重要技術(shù)。通常，用于光刻機(jī)照明系統(tǒng)的勻光元件有積分棒、衍射光學(xué)元件和微透鏡陣列。積分棒勻光的缺點(diǎn)是，限制了照明最大孔徑角
2023-05-17 14:52:061061 
不僅是國(guó)內(nèi)的網(wǎng)友這么認(rèn)為，唯光刻機(jī)論在海外也很有市場(chǎng)，似乎大部分網(wǎng)友都是這樣想的，已經(jīng)到了神化ASML的地步了，只要提到芯片制造就會(huì)強(qiáng)調(diào)光刻機(jī)會(huì)卡脖子，而有了光刻機(jī)，臺(tái)積電這樣的公司就能隨便復(fù)制一樣。
2023-05-15 11:10:271112 
在集成電路制造領(lǐng)域，如果說光刻機(jī)是推動(dòng)制程技術(shù)進(jìn)步的“引擎”，光刻膠就是這部“引擎”的“燃料”。
2023-05-13 11:28:381121 
2023年中國(guó)光刻機(jī)現(xiàn)狀是什么樣的呢？自從2018年以來，我國(guó)開始被美國(guó)各種手段制裁，光刻機(jī)被卡脖子，美國(guó)不讓荷蘭賣先進(jìn)的光刻機(jī)給我們，這也讓這些年來無數(shù)國(guó)人關(guān)注光刻機(jī)的研發(fā)進(jìn)度。
2023-05-10 16:24:1521220 在整個(gè)芯片制造過程中，幾乎每一道工序的實(shí)施都離不開光刻技術(shù)。光刻技術(shù)也是制造芯片最關(guān)鍵的技術(shù)，占芯片制造成本的35%以上。
2023-04-26 08:57:031033 光刻就是把芯片制作所需要的線路與功能區(qū)做出來。利用光刻機(jī)發(fā)出的光通過具有圖形的光罩對(duì)涂有光刻膠的薄片曝光，光刻膠見光后會(huì)發(fā)生性質(zhì)變化，從而使光罩上得圖形復(fù)印到薄片上，從而使薄片具有電子線路圖的作用
2023-04-25 11:05:322260 
151n光刻膠曝光顯影后開口底部都會(huì)有一撮殘留，找不到原因。各位幫分析下
2023-04-20 13:13:52
光刻機(jī)是半導(dǎo)體工業(yè)中非常重要的設(shè)備，用于在半導(dǎo)體芯片制造過程中將芯片圖形化。由于光刻機(jī)的精度和性能要求非常高，其制造難度也相對(duì)較大，目前市場(chǎng)上僅有少數(shù)幾家公司能夠生產(chǎn)出頂級(jí)光刻機(jī)。那么，中國(guó)能否造出頂級(jí)光刻機(jī)呢？
2023-04-07 13:35:244597 一樣。像上文提及的EUV光刻機(jī)則是用于生產(chǎn)芯片的光刻機(jī)，此外還有封裝芯片的光刻機(jī)以及用于LED制造領(lǐng)域的投影光刻機(jī)。 近幾年，我國(guó)本土企業(yè)在光刻機(jī)的研制方面正一步一個(gè)腳印地穩(wěn)步前進(jìn)，拿上海微電子裝備股份有限公司來說，近幾年，其先
2023-04-06 08:56:49679 
光刻是將設(shè)計(jì)好的電路圖從掩膜版轉(zhuǎn)印到晶圓表面的光刻膠上，通過曝光、顯影將目標(biāo)圖形印刻到特定材料上的技術(shù)。光刻工藝包括三個(gè)核心流程：涂膠、對(duì)準(zhǔn)和曝光以及光刻膠顯影，整個(gè)過程涉及光刻機(jī)，涂膠顯影機(jī)、量測(cè)設(shè)備以及清洗設(shè)備等多種核心設(shè)備，其中價(jià)值量最大且技術(shù)壁壘最高的部分就是光刻機(jī)。
2023-03-25 09:32:394952 為2nm及更先進(jìn)芯片的生產(chǎn)提供更強(qiáng)大的助力。 計(jì)算光刻是芯片設(shè)計(jì)和制造領(lǐng)域中最大的計(jì)算工作負(fù)載，每年消耗數(shù)百億CPU小時(shí)。而NVIDIA cuLitho計(jì)算光刻庫(kù)利用GPU技術(shù)實(shí)現(xiàn)計(jì)算光刻，可以極大的降低功耗、節(jié)省時(shí)間。 目前臺(tái)積電、光刻機(jī)制造商阿斯麥，以及EDA巨頭新思科技都已經(jīng)導(dǎo)入
2023-03-23 18:55:377488 
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