延續(xù)7納米制程領(lǐng)先優(yōu)勢(shì)，臺(tái)積電支援極紫外光(EUV)微影技術(shù)的7納米加強(qiáng)版(7+)制程將按既定時(shí)程于3月底正式量產(chǎn)，而全程采用EUV技術(shù)的5納米制程也將在2019年第2季進(jìn)入風(fēng)險(xiǎn)試產(chǎn)。 據(jù)了解，獨(dú)家
2019-02-13 10:08:15
4409 對(duì)于如今的半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)而言，EUV光刻機(jī)是打造下一代邏輯和DRAM工藝技術(shù)的關(guān)鍵所在，為了在未來的工藝軍備競(jìng)賽中保持優(yōu)勢(shì)，臺(tái)積電、三星和英特爾等廠商紛紛花重金購置EUV光刻機(jī)。 ? 然而，當(dāng)這些來自
2022-07-22 07:49:002403 ? 電子發(fā)燒友網(wǎng)報(bào)道（文/周凱揚(yáng)）作為目前最先進(jìn)的半導(dǎo)體制造設(shè)備，EUV光刻機(jī)的誕生是由各個(gè)部件在技術(shù)上的集體突破才最終成型的，比如光刻膠、掩膜板和鏡組等等。但最為關(guān)鍵的還是EUV名號(hào)中的極紫外光
2023-02-13 07:04:004326 設(shè)備供應(yīng)商艾司摩爾（ASML）已協(xié)同比利時(shí)微電子研究中心（IMEC）和重量級(jí)晶圓廠，合力改良EUV光源功率與晶圓產(chǎn)出速度，預(yù)計(jì)2015年可發(fā)布首款量產(chǎn)型EUV機(jī)臺(tái)。
2013-08-19 09:24:471637 “7納米是很重要的節(jié)點(diǎn)，是生產(chǎn)工藝第一次轉(zhuǎn)向EUV的轉(zhuǎn)折點(diǎn)。三星和臺(tái)積電都宣布了將采用EUV(極紫外光微影)技術(shù)在7納米，而EUV是摩爾定律能夠進(jìn)一步延續(xù)到5納米以下的關(guān)鍵。” Gartner(中國(guó)
2017-01-19 10:15:491397 在三星決定7nm率先導(dǎo)入EUV后，讓EUV輸出率獲得快速提升，臺(tái)積電決定在7nm強(qiáng)化版提供客戶設(shè)計(jì)定案，5nm才決定全數(shù)導(dǎo)入。
2017-08-23 08:38:231779 極紫外 (EUV) 光刻系統(tǒng)是當(dāng)今使用的最先進(jìn)的光刻系統(tǒng)。本文將介紹這項(xiàng)重要但復(fù)雜的技術(shù)。
2023-06-06 11:23:54688 
韓媒BusinessKorea昨日?qǐng)?bào)道，三星有意一口氣買下10臺(tái)單價(jià)為1.76億美元的EUV。三星如果真的這樣做，那就會(huì)提升其在7nm等先進(jìn)工藝上的領(lǐng)先優(yōu)勢(shì)。這一方面是由于EUV設(shè)備是未來集成電路
2017-10-24 06:47:006044 根據(jù)全球唯一能供應(yīng)EUV光刻機(jī)機(jī)臺(tái)的ASML最新官方消息揭露，截至2018年底，已對(duì)全球晶圓大廠供應(yīng)29臺(tái)EUV機(jī)臺(tái)(2017年占11臺(tái))，且2019年有望再出貨30臺(tái)EUV機(jī)臺(tái)。從2019年全球EUV機(jī)臺(tái)倍數(shù)成長(zhǎng)的現(xiàn)象觀察可知，2019年將是7nm EUV半導(dǎo)體產(chǎn)品元年。
2019-03-07 14:35:471108 根據(jù)最新數(shù)據(jù)顯示，ASML在12月中完成了第100臺(tái)EUV光刻機(jī)的出貨。更加利好的消息是，業(yè)內(nèi)預(yù)估ASML今年（2021年）的EUV光刻機(jī)產(chǎn)能將達(dá)到45~50臺(tái)的規(guī)模。
2021-01-03 00:28:004735 韓國(guó)三星近期積極將極紫外（EUV）曝光技術(shù)應(yīng)用在采用1z納米制程的DRAM記憶體生產(chǎn)上，并且完成了量產(chǎn)。而根據(jù)半導(dǎo)體分析機(jī)構(gòu)《TechInsights》拆解了分別采用EUV曝光技術(shù)和ArF-i曝光
2021-02-22 10:31:362509 EUV 產(chǎn)量到位了，是不是也該考慮良率了？ ? 在當(dāng)前的半導(dǎo)體制程不斷往7nm以下發(fā)展時(shí)，EUV光刻機(jī)就成了IDM和代工廠必不可少的工具之一。隨著臺(tái)積電、三星、英特爾和SK海力士等企業(yè)的EUV光刻機(jī)
2021-07-22 09:22:366730 作為近乎壟斷的光刻機(jī)巨頭，ASML的EUV光刻機(jī)已經(jīng)在全球頂尖的晶圓廠中獲得了使用。無論是英特爾、臺(tái)積電還是三星，EUV光刻機(jī)的購置已經(jīng)是生產(chǎn)支出中很大的一筆，也成了7nm之下不可或缺的制造設(shè)備
2021-12-01 10:07:4110988 電子發(fā)燒友網(wǎng)報(bào)道（文/周凱揚(yáng)）到了3nm這個(gè)工藝節(jié)點(diǎn)之后，單靠現(xiàn)有的0.33NA EUV光刻機(jī)就很難維系下去了。為了實(shí)現(xiàn)2nm乃至未來的埃米級(jí)工藝，將晶體管密度推向1000MTr/mm2，全面
2022-12-07 01:48:002199 電子發(fā)燒友網(wǎng)報(bào)道（文/周凱揚(yáng)）隨著歐美韓等國(guó)家均已引進(jìn)EUV光刻機(jī)，為其晶圓代工廠提供最先進(jìn)的工藝支持，日本雖然半導(dǎo)體制造水平這些年來提升不大，卻也計(jì)劃引進(jìn)EUV光刻機(jī)來打破這一困局，重回行業(yè)一流
2023-10-10 01:13:001438 電子發(fā)燒友網(wǎng)報(bào)道（文/周凱揚(yáng)）隨著雙碳目標(biāo)的提出，越來越多的行業(yè)應(yīng)用開始注意到能耗問題，尤其是在半導(dǎo)體制造設(shè)備上。就拿我們常常提及的EUV光刻機(jī)來說，就是一個(gè)不折不扣的耗電大戶，結(jié)合光刻半導(dǎo)體
2023-10-25 01:14:001062 ofweek電子工程網(wǎng)訊 國(guó)際半導(dǎo)體制造龍頭三星、臺(tái)積電先后宣布將于2018年量產(chǎn)7納米晶圓制造工藝。這一消息使得業(yè)界對(duì)半導(dǎo)體制造的關(guān)鍵設(shè)備之一極紫外光刻機(jī)（EUV）的關(guān)注度大幅提升。此后又有媒體
2017-11-14 16:24:44
MAX1614EUV - High-Side, n-Channel MOSFET Switch Driver Internal On/Off Latch - Maxim Integrated Products
2022-11-04 17:22:44
荷蘭ISTEQ公司TEUS系列EUV光源產(chǎn)品介紹：ISTEQ公司開發(fā)了一種基于激光產(chǎn)生等離子體（LPP）的EUV光源。該光源具有極高的亮度和極高的穩(wěn)定性。它采用可自刷新的材料，無需中斷和更換燃料盒
2023-07-05 16:06:24
荷蘭ISTEQ公司TEUS系列EUV光源產(chǎn)品介紹：ISTEQ公司開發(fā)了一種基于激光產(chǎn)生等離子體（LPP）的EUV光源。該光源具有極高的亮度和極高的穩(wěn)定性。它采用可自刷新的材料，無需中斷和更換燃料盒
2023-07-05 16:16:48
分析：450mm，EUV，TSV都將延遲
現(xiàn)在不用再期待了，根據(jù)IC insights公司的數(shù)據(jù)，看起來兩個(gè)兩個(gè)正在顯現(xiàn)的重要的IC制造技術(shù)都將延遲，包括450mm晶圓和遠(yuǎn)紫外（EUV）光刻
2010-01-26 09:02:25694 進(jìn)入10nm工藝節(jié)點(diǎn)之后，EUV光刻機(jī)越來越重要，全球能產(chǎn)EUV光刻機(jī)的就是荷蘭ASML公司了，他們總共賣出18臺(tái)EUV光刻機(jī)，總價(jià)值超過20億歐元，折合每套系統(tǒng)售價(jià)超過1億歐元，可謂價(jià)值連城。
2017-01-19 18:22:593470 盡管EUV現(xiàn)在還存在各種障礙，但是其未來應(yīng)用前景依然各方被看好。從長(zhǎng)遠(yuǎn)角度來看，發(fā)展EUV技術(shù)是非常必要的。對(duì)此，林雨指出：“自上世紀(jì)九十年代起，中國(guó)便開始關(guān)注并發(fā)展EUV技術(shù)。最初開展的基礎(chǔ)性
2017-11-15 10:13:551240 非EUV技術(shù)的7納米制程，直接上7納米LPP EUV制程技術(shù)的原因。如今，三星終于公布了7納米LPP制程已完成新思科技（Synopsys）物理認(rèn)證，意味著7納米EUV制程將可全球量產(chǎn)了。
2018-06-19 15:06:004522 盡管極紫外光(EUV)步進(jìn)機(jī)的大量生產(chǎn)面臨復(fù)雜的問題以及緊迫的時(shí)間，專家們?nèi)匀槐С謽酚^態(tài)度...
2018-06-01 16:01:492726 另外，7nm EUV的好處還在于，比多重曝光的步驟要少，也就是相同時(shí)間內(nèi)的產(chǎn)量將提升。當(dāng)然，這里說的是最理想的情況， 比如更好的EUV薄膜以減少光罩的污染、自修正機(jī)制過關(guān)堪用等。三星稱，7nm EUV若最終成行，將被證明是成本更優(yōu)的方案。
2018-06-22 15:53:453469 臺(tái)積電前不久試產(chǎn)了7nm EUV工藝，預(yù)計(jì)明年大規(guī)模量產(chǎn)，三星今天宣布量產(chǎn)7nm EUV工藝，這意味著EUV工藝就要正式商業(yè)化了，而全球最大的光刻機(jī)公司荷蘭ASML為這一天可是拼了20多年。
2018-10-19 10:49:293306 隨著三星宣布7nm EUV工藝的量產(chǎn)，2018年EUV光刻工藝終于商業(yè)化了，這是EUV工藝研發(fā)三十年來的一個(gè)里程碑。不過EUV工藝要想大規(guī)模量產(chǎn)還有很多技術(shù)挑戰(zhàn)，目前的光源功率以及晶圓產(chǎn)能輸出還沒有
2018-10-30 16:28:403376 隨著晶圓代工廠臺(tái)積電及記憶體廠三星電子的7納米邏輯制程均支援極紫外光（EUV）微影技術(shù)，并會(huì)在2019年進(jìn)入量產(chǎn)階段，半導(dǎo)體龍頭英特爾也確定正在開發(fā)中的7納米制程會(huì)支援新一代EUV技術(shù)。
2019-01-03 11:31:593812 據(jù)臺(tái)媒2月12日?qǐng)?bào)道，為延續(xù)7納米制程領(lǐng)先優(yōu)勢(shì)，臺(tái)積電支持極紫外光(EUV)微影技術(shù)的7nm加強(qiáng)版制程將按既定時(shí)間于3月底正式量產(chǎn)，而全程采用EUV技術(shù)的5nm制程也將在今年第2季進(jìn)入風(fēng)險(xiǎn)試產(chǎn)。
2019-02-16 11:11:154482 將光刻技術(shù)轉(zhuǎn)移到EUV波段意味著材料和光源的巨大變化。新的13.5納米EUV等離子體光源取代了193納米波長(zhǎng)的紫外激光器。光子能量隨著波長(zhǎng)的減小而增加，因此來自激光驅(qū)動(dòng)的新型等離子體EUV光源的每個(gè)光子所攜帶的能量是來自舊激光光源的光子的14倍。
2019-03-16 10:32:215629 多重成像技術(shù)結(jié)合起來使用，但這在無形中提升了制造成本，拉長(zhǎng)了工藝周期。為了通過提升技術(shù)成本來平衡工序成本和周期成本，廠商們將底牌壓在了EUV光刻機(jī)身上，但是EUV真的能夠滿足廠商們的期盼嗎？
2019-04-03 17:26:554449 由于三星去年就小規(guī)模投產(chǎn)了7nm EUV，同時(shí)ASML（荷蘭阿斯麥）將EUV光刻機(jī)的年出貨量從18臺(tái)提升到今年的預(yù)計(jì)30臺(tái)，顯然促使臺(tái)積電不得不加快腳步。
2019-04-30 17:30:037913 繼臺(tái)積電、三星晶圓代工、英特爾等國(guó)際大廠在先進(jìn)邏輯制程導(dǎo)入極紫外光（EUV）微影技術(shù)后，同樣面臨制程微縮難度不斷增高的DRAM廠也開始評(píng)估采用EUV技術(shù)量產(chǎn)。三星電子今年第四季將開始利用EUV技術(shù)生產(chǎn)1z納米DRAM，SK海力士及美光預(yù)期會(huì)在1α納米或1β納米評(píng)估導(dǎo)入EUV技術(shù)。
2019-06-18 17:20:312438 DRAM廠商在面對(duì)DRAM價(jià)格不斷下跌的困境下，已經(jīng)在考慮導(dǎo)入EUV技術(shù)用于制造DRAM，主要目的是為了降低成本。
2019-06-21 09:10:012047 根據(jù)國(guó)外媒體報(bào)導(dǎo)，曾表示目前制程技術(shù)還用不上EUV技術(shù)的各大DRAM廠在目前DRAM價(jià)格直直落，短期看不到止跌訊號(hào)的情況下，也頂不住生產(chǎn)成本的壓力，開始考量導(dǎo)入EUV技術(shù)，以降低生產(chǎn)成本。南韓三星將在2019 年底前正式導(dǎo)入。
2019-06-21 10:13:343319 當(dāng)前半導(dǎo)體制程微縮到10納米節(jié)點(diǎn)以下，包括開始采用的7納米制程，以及未來5納米、3納米甚至2納米制程，EUV極紫外光光刻技術(shù)已成為不可或缺的設(shè)備。藉由EUV設(shè)備導(dǎo)入，不僅加快生產(chǎn)效率、提升良率，還能
2019-07-05 15:32:482520 在上周的Semicon West上，ASML提供了有關(guān)當(dāng)前EUV系統(tǒng)以及正在開發(fā)的0.55高NA系統(tǒng)的最新信息。
2019-07-27 10:37:333351 
格芯首席技術(shù)官Gary Patton表示，如果在5nm的時(shí)候沒有使用EUV光刻機(jī)，那么光刻的步驟將會(huì)超過100步，這會(huì)讓人瘋狂。所以所EUV光刻機(jī)無疑是未來5nm和3nm芯片的最重要生產(chǎn)工具，未來圍繞EUV光刻機(jī)的爭(zhēng)奪戰(zhàn)將會(huì)變得異常激烈。因?yàn)檫@是決定這些廠商未來在先進(jìn)工藝市場(chǎng)競(jìng)爭(zhēng)的關(guān)鍵。
2019-09-03 17:18:1812845 
近些年來EUV光刻這個(gè)詞大家應(yīng)該聽得越來越多，三星在去年發(fā)布的Exynos 9825 SoC就是首款采用7nm EUV工藝打造的芯片，臺(tái)積電的7nm+也是他們首次使用EUV光刻的工藝，蘋果的A13
2020-02-29 10:58:473149 近些年來EUV光刻這個(gè)詞大家應(yīng)該聽得越來越多，三星在去年發(fā)布的Exynos 9825 SoC就是首款采用7nm EUV工藝打造的芯片，臺(tái)積電的7nm+也是他們首次使用EUV光刻的工藝，蘋果的A13
2020-02-29 11:42:4529308 據(jù)ZDnet報(bào)道，三星宣布，已成功將EUV技術(shù)應(yīng)用于DRAM的生產(chǎn)中。
2020-03-25 16:24:392783 臺(tái)媒稱，翔名切入臺(tái)積電5nm極紫外光（EUV）光罩盒表面處理業(yè)務(wù)，與EUV光罩盒大廠接洽合作機(jī)會(huì)，以獨(dú)家專利無電鍍鎳（ENP）表面處理技術(shù)來提升產(chǎn)品良率，目前該光罩盒廠正進(jìn)行評(píng)估測(cè)試，未來獲臺(tái)積電EUV制程指定產(chǎn)品入場(chǎng)門票機(jī)會(huì)大增。
2020-07-24 17:27:20671 與此同時(shí)， 他指出，EUV繼續(xù)為ASML的客戶提高產(chǎn)量，迄今為止，他們的客戶已經(jīng)使用EUV光刻機(jī)曝光了超過1100萬個(gè)EUV晶圓，并交付了57個(gè)3400x EUV系統(tǒng)（3400平臺(tái)是EUV生產(chǎn)平臺(tái)）。
2020-08-14 11:20:552048 
據(jù)估算，ASML今年下半年可能會(huì)再出貨 22 臺(tái)EUV設(shè)備，明年全年最多50臺(tái)。據(jù)臺(tái)媒DIGITIMES報(bào)導(dǎo)，臺(tái)積電也將擴(kuò)大采購 EUV 設(shè)備，搶下ASML明年超過1/3的供貨，這樣一來臺(tái)積電明年
2020-09-29 17:26:24802 
據(jù)中國(guó)臺(tái)灣經(jīng)濟(jì)日?qǐng)?bào)報(bào)道，三星（Samsung）明年可能導(dǎo)入極紫外光（EUV）技術(shù)生產(chǎn)內(nèi)存，美光（Micron）企業(yè)副總裁、中國(guó)臺(tái)灣美光董事長(zhǎng)徐國(guó)晉表示，美光不打算跟進(jìn)，目前并無采用 EUV 計(jì)劃
2020-10-12 09:36:181660 ASML的EUV光刻機(jī)是目前全球唯一可以滿足22nm以下制程芯片生產(chǎn)的設(shè)備，其中10nm及以下的芯片制造，EUV光刻機(jī)必不可缺。一臺(tái)EUV光刻機(jī)的售價(jià)為1.48億歐元，折合人民幣高達(dá)11.74億元
2020-10-19 12:02:499647 
臺(tái)積電是第一家將EUV（極紫外）光刻工藝商用到晶圓代工的企業(yè)，目前投產(chǎn)的工藝包括N7+、N6和N5三代。
2020-10-22 14:48:561425 ASML公司的EUV光刻機(jī)全球獨(dú)一份，現(xiàn)在主要是用在7nm及以下的邏輯工藝上，臺(tái)積電、三星用它生產(chǎn)CPU、GPU等芯片。馬上內(nèi)存芯片也要跟進(jìn)了，SK海力士宣布明年底量產(chǎn)EUV工藝內(nèi)存。
2020-10-30 10:54:211646 據(jù)韓媒報(bào)道，三星副董事長(zhǎng)李在镕在訪問荷蘭期間，在會(huì)議上要求ASML在一個(gè)月內(nèi)交付三星已購買的9臺(tái)EUV光刻設(shè)備。 報(bào)道稱，ASML正在審查三星的要求，這部分EUV設(shè)備最早可于11月運(yùn)往韓國(guó)。 據(jù)悉
2020-10-30 14:13:081269 在半導(dǎo)體工藝進(jìn)入7nm之后，EUV光刻機(jī)就成為兵家必備大殺器了，全球也只有ASML公司能生產(chǎn)，單價(jià)達(dá)到10億人民幣一臺(tái)。不過在EUV技術(shù)上，ASML還真不一定就是第一，專利比三星還少。
2020-11-17 09:33:371298 在半導(dǎo)體工藝進(jìn)入7nm之后，EUV光刻機(jī)就成為兵家必備大殺器了，全球也只有ASML公司能生產(chǎn)，單價(jià)達(dá)到10億人民幣一臺(tái)。不過在EUV技術(shù)上，ASML還真不一定就是第一，專利比三星還少。
2020-11-17 10:25:182211 體上，三分之二的調(diào)查參與者認(rèn)為這將產(chǎn)生積極的影響。前往EUV時(shí)，口罩的數(shù)量減少了。這是因?yàn)?b class="flag-6" style="color: red">EUV將整個(gè)行業(yè)帶回單一模式。具有多個(gè)圖案的193nm浸入需要在高級(jí)節(jié)點(diǎn)處使用更多的掩模。
2020-11-23 14:42:091096 目前，EUV光刻機(jī)的部署安裝主要在臺(tái)積電、三星的晶圓代工廠。不過，內(nèi)存廠商們也開始著手上馬了。
2020-11-27 09:09:091651 據(jù)中國(guó)臺(tái)灣經(jīng)濟(jì)日?qǐng)?bào)報(bào)道，EUV 光刻機(jī)制造商 ASML 首席執(zhí)行官 Peter Wennink 帶領(lǐng)高管拜訪三星，雙方尋求技術(shù)與投資合作。三星希望能搶在臺(tái)積電之前，取得 ASML 下一代 EUV
2020-12-02 11:16:571536 繼SK海力士日前宣布在M14和建設(shè)中的M16工廠均引入EUV光刻機(jī)后，三星也坐不住了。 按照三星的說法，自2014年以來，EUV光刻參與的晶圓超過了400萬片，公司積累了豐富的經(jīng)驗(yàn)，也比其它廠商掌握
2020-12-04 18:26:542201 根據(jù)韓國(guó)媒體《Etnews》報(bào)導(dǎo)指出，目前全球3大DRAM存儲(chǔ)器中尚未明確表示采用EUV極紫外光刻機(jī)的美商美光（Micron），因日前招聘網(wǎng)站開始征求EUV工程師，揭露美光也在進(jìn)行EUV運(yùn)用于DRAM先進(jìn)制程，準(zhǔn)備與韓國(guó)三星、SK海力士競(jìng)爭(zhēng)
2020-12-25 14:33:101459 美國(guó)美光科技開始提速
EUV DRAM。加入到三星電子、SK海力士等全球第一、第二
EUV廠商選擇的
EUV陣營(yíng)后，后續(xù)
EUV競(jìng)爭(zhēng)或?qū)⒏鼮榧ち摇?/div>
2020-12-25 14:43:131642 之前有消息稱，臺(tái)積電正在籌集更多的資金，為的是向ASML購買更多更先進(jìn)制程的EUV光刻機(jī)，而這些都是為了新制程做準(zhǔn)備。
2020-12-29 09:22:482192 EUV（極紫外光）光刻機(jī)，是目前半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)已投入規(guī)模生產(chǎn)使用的最先進(jìn)光刻機(jī)類型。近來，有不少消息都指出，EUV光刻機(jī)耗電量非常大，甚至它還成為困擾臺(tái)積電的一大難題。 為何EUV光刻機(jī)會(huì)這么耗電
2021-02-14 14:05:003915 近期三星為爭(zhēng)搶
EUV設(shè)備，高層頻頻傳出密訪ASML，
EUV的重要性早已不言而喻。提到
EUV，大家首先想到的就是ASML，ASML并不是一個(gè)家喻戶曉的名字，但他卻是現(xiàn)代技術(shù)的關(guān)鍵。因?yàn)樗峁┝酥圃?/div>
2021-01-16 09:43:112542 近期三星為爭(zhēng)搶EUV設(shè)備，高層頻頻傳出密訪ASML，EUV的重要性早已不言而喻。提到EUV，大家首先想到的就是ASML，ASML并不是一個(gè)家喻戶曉的名字，但他卻是現(xiàn)代技術(shù)的關(guān)鍵。因?yàn)樗峁┝酥圃彀雽?dǎo)體必不可少的“光刻”機(jī)器，在摩爾定律即將發(fā)展到盡頭的現(xiàn)在，可以說，得EUV者得先進(jìn)工藝。
2021-01-16 09:44:472137 近期三星為爭(zhēng)搶EUV設(shè)備，高層頻頻傳出密訪ASML，EUV的重要性早已不言而喻。提到EUV，大家首先想到的就是ASML，ASML并不是一個(gè)家喻戶曉的名字，但他卻是現(xiàn)代技術(shù)的關(guān)鍵。因?yàn)樗峁┝酥圃彀雽?dǎo)體必不可少的“光刻”機(jī)器，在摩爾定律即將發(fā)展到盡頭的現(xiàn)在，可以說，得EUV者得先進(jìn)工藝。
2021-01-16 10:32:574386 目前，還有ASML有能力生產(chǎn)最先進(jìn)的EUV光刻機(jī)，三星、臺(tái)積電都是ASML的客戶。但受《瓦森納協(xié)定》的制約，中國(guó)大陸沒有從ASML買來一臺(tái)EUV光刻機(jī)。
2021-01-21 08:56:184078 ASML公司前兩天發(fā)布了財(cái)報(bào)，全年凈銷售額140億歐元，EUV光刻機(jī)出貨31臺(tái)，帶來了45億歐元的營(yíng)收，單價(jià)差不多11.4億歐元了。 雖然業(yè)績(jī)?cè)鲩L(zhǎng)很亮眼，但是ASML也有隱憂，實(shí)際上EUV光刻機(jī)
2021-01-22 17:55:242639 隨著半導(dǎo)體工藝進(jìn)入10nm節(jié)點(diǎn)以下，EUV光刻機(jī)成為制高點(diǎn)，之前臺(tái)積電搶購了全球多數(shù)的EUV光刻機(jī)，率先量產(chǎn)7nm、5nm工藝，現(xiàn)在內(nèi)存廠商也要入場(chǎng)了，SK海力士豪擲4.8萬億韓元搶購EUV光刻機(jī)。
2021-02-25 09:28:551644 隨著半導(dǎo)體工藝進(jìn)入10nm節(jié)點(diǎn)以下，EUV光刻機(jī)成為制高點(diǎn)，之前臺(tái)積電搶購了全球多數(shù)的EUV光刻機(jī)，率先量產(chǎn)7nm、5nm工藝，現(xiàn)在內(nèi)存廠商也要入場(chǎng)了，SK海力士豪擲4.8萬億韓元搶購EUV光刻機(jī)。
2021-02-25 11:39:091844 三星一方面在積極向唯一的EUV光刻機(jī)廠商ASML爭(zhēng)取訂單，另外一方面也在增資為EUV產(chǎn)業(yè)鏈輸血。
2021-03-04 09:52:411757 三星一方面在積極向唯一的EUV光刻機(jī)廠商ASML爭(zhēng)取訂單，另外一方面也在增資為EUV產(chǎn)業(yè)鏈輸血。
2021-03-04 10:13:051665 日前，ASML產(chǎn)品營(yíng)銷總監(jiān)Mike Lercel向媒體分享了EUV（極紫外）光刻機(jī)的最新進(jìn)展。
2021-03-19 09:39:404630 從2019年開始，晶圓廠就開始有限度地將極紫外線（EUV）光刻技術(shù)用于芯片的大批量制造（HVM）。在當(dāng)時(shí)，ASML的Twinscan NXE系列光刻機(jī)能夠滿足客戶的基本生產(chǎn)需求，然而整個(gè)EUV
2021-04-08 11:09:401989 因此除了臺(tái)積電、三星及英特爾等晶圓廠爭(zhēng)搶EUV，后續(xù)包含美光、SK海力士也需要大量EUV設(shè)備。乘著5G普及的“順風(fēng)”，半導(dǎo)體微縮化需求逐步高漲，半導(dǎo)體廠家加速導(dǎo)入EUV，EUV設(shè)備成為炙手可熱的產(chǎn)品。
2021-05-18 09:49:512182 
電子發(fā)燒友網(wǎng)報(bào)道（文/周凱揚(yáng)）作為近乎壟斷的光刻機(jī)巨頭，ASML的EUV光刻機(jī)已經(jīng)在全球頂尖的晶圓廠中獲得了使用。無論是英特爾、臺(tái)積電還是三星，EUV光刻機(jī)的購置已經(jīng)是生產(chǎn)支出中很大的一筆，也成了
2021-12-07 14:01:1010742 臺(tái)積電和三星從7nm工藝節(jié)點(diǎn)就開始應(yīng)用EUV光刻層了，并且在隨后的工藝迭代中，逐步增加半導(dǎo)體制造過程中的EUV光刻層數(shù)。
2022-05-13 14:43:202077 
先進(jìn)光刻工藝EUV相關(guān)知識(shí)，適合對(duì)半導(dǎo)體工藝有興趣的人員，或者是從事光刻工藝的工程師
2022-06-13 14:48:23
1 HVM中的EUV光刻
?背景和歷史
?使用NXE的EUV光刻：3400B
?EUV生成原理
?EUV來源：架構(gòu)
?現(xiàn)場(chǎng)EUV源
?電源展望
?總結(jié)
2022-06-13 14:45:450 中國(guó)芯的進(jìn)步那是有目共睹，我國(guó)在光刻機(jī)，特別是在EUV光刻機(jī)方面，更是不斷尋求填補(bǔ)空白的途徑。
2022-07-05 10:38:3516742 EUV光刻機(jī)是在2018年開始出現(xiàn)，并在2019年開始大量交付，而臺(tái)積電也是在2019年推出了7nm EUV工藝。
2022-07-07 09:48:444523 說到芯片，估計(jì)每個(gè)人都知道它是什么，但說到光刻，許多人可能不知道它是什么。光刻機(jī)是制造芯片的機(jī)器和設(shè)備。沒有光刻機(jī)的話，就無法生產(chǎn)芯片，因此每個(gè)人都知道光刻機(jī)對(duì)芯片制造業(yè)的重要性。那么euv光刻機(jī)
2022-07-10 11:42:276977 可以生產(chǎn)出納米尺寸更小、功能更強(qiáng)大的芯片。 小于5 nm的芯片晶片只能由EUV光刻機(jī)生產(chǎn)。 EUV光刻機(jī)有光源系統(tǒng)、光學(xué)鏡頭、雙工作臺(tái)系統(tǒng)三大核心技術(shù)。 目前，最先進(jìn)的光刻機(jī)是荷蘭ASML公司的EUV光刻機(jī)。預(yù)計(jì)在光路系統(tǒng)的幫助下，能
2022-07-10 14:35:066173 目前，光刻機(jī)主要分為EUV光刻機(jī)和DUV光刻機(jī)。DUV是深紫外線，EUV是非常深的紫外線。DUV使用的是極紫外光刻技術(shù)，EUV使用的是深紫外光刻技術(shù)。EUV為先進(jìn)工藝芯片光刻的發(fā)展方向。那么duv
2022-07-10 14:53:1078127 euv光刻機(jī)原理是什么 芯片生產(chǎn)的工具就是紫外光刻機(jī)，是大規(guī)模集成電路生產(chǎn)的核心設(shè)備，對(duì)芯片技術(shù)有著決定性的影響。小于5 nm的芯片只能由EUV光刻機(jī)生產(chǎn)。那么euv光刻機(jī)原理是什么呢？ EUV
2022-07-10 15:28:1015099 電子發(fā)燒友網(wǎng)報(bào)道（文/ 周凱揚(yáng) ）到了3nm這個(gè)工藝節(jié)點(diǎn)之后，單靠現(xiàn)有的0.33NA EUV光刻機(jī)就很難維系下去了。 為了實(shí)現(xiàn)2nm乃至未來的埃米級(jí)工藝，將晶體管密度推向1000MTr/mm2，全面
2022-12-07 07:25:02952 從出貨量的不斷增多，再到產(chǎn)品的更新?lián)Q代。ASML嘗到了EUV帶給他的紅利，但是ASML的首席技術(shù)官透露EUV即將走到盡頭，之后的技術(shù)可能根本實(shí)現(xiàn)不了。
2023-01-30 16:31:492509 但imec先進(jìn)成像、工藝和材料高級(jí)副總裁斯蒂芬·希爾（Steven Scheer）在接受采訪時(shí)非常理性地指出，要經(jīng)濟(jì)高效地引入High NA EUV光刻機(jī)，還需翻越“四堵墻”，包括改進(jìn)EUV光刻膠的厚度、底層材料的屬性、3D掩膜效應(yīng)對(duì)成像的影響，以及與新型邏輯晶體管、存儲(chǔ)芯片組件進(jìn)行協(xié)同設(shè)計(jì)。
2023-03-17 09:27:091230 DUV是深紫外線（Deep Ultraviolet Lithography），EUV是極深紫外線（Extreme Ultraviolet Lithography）。前者采用極紫外光刻技術(shù)，后者采用深紫外光刻技術(shù)。
2023-03-20 14:23:2412166 EUV光刻技術(shù)仍被認(rèn)為是實(shí)現(xiàn)半導(dǎo)體行業(yè)持續(xù)創(chuàng)新的關(guān)鍵途徑。隨著技術(shù)的不斷發(fā)展和成熟，預(yù)計(jì)EUV光刻將在未來繼續(xù)推動(dòng)芯片制程的進(jìn)步。
2023-05-18 15:49:041792 
asml是euv技術(shù)開發(fā)的領(lǐng)先者。asml公司是半導(dǎo)體領(lǐng)域光刻機(jī)生產(chǎn)企業(yè)的領(lǐng)頭羊，也是全球市場(chǎng)占有率最大的光刻機(jī)生產(chǎn)企業(yè)。2012年，asml推出了世界上第一個(gè)euv試制品，并于2016年推出了euv第一個(gè)商用顯卡制造機(jī)asmlnxe:3400b。
2023-06-08 09:37:553202 EUV（Extreme Ultraviolet）光刻機(jī)是一種高級(jí)光刻設(shè)備，用于半導(dǎo)體制造業(yè)中的微電子芯片生產(chǎn)。EUV光刻機(jī)是目前最先進(jìn)的光刻技術(shù)之一，它采用極端紫外光作為曝光光源，具有更短的波長(zhǎng)
2023-07-24 18:19:471095 EUV掩膜，也稱為EUV掩模或EUV光刻掩膜，對(duì)于極紫外光刻（EUVL）這種先進(jìn)光刻技術(shù)至關(guān)重要。EUV光刻是一種先進(jìn)技術(shù)，用于制造具有更小特征尺寸和增強(qiáng)性能的下一代半導(dǎo)體器件。
2023-08-07 15:55:02399 今年的大部分討論都集中在 EUV 的下一步發(fā)展以及高數(shù)值孔徑 EUV 的時(shí)間表和技術(shù)要求上。ASML戰(zhàn)略營(yíng)銷高級(jí)總監(jiān)Michael Lercel表示，目標(biāo)是提高EUV的能源效率，以及他們下一代高數(shù)值孔徑EUV工具的開發(fā)狀況。
2023-08-11 11:25:25252 
EUV光刻膠材料是光敏物質(zhì)，當(dāng)受到EUV光子照射時(shí)會(huì)發(fā)生化學(xué)變化。這些材料在解決半導(dǎo)體制造中的各種挑戰(zhàn)方面發(fā)揮著關(guān)鍵作用，包括提高靈敏度、控制分辨率、減少線邊緣粗糙度（LER）、降低釋氣和提高熱穩(wěn)定性。
2023-09-11 11:58:42349 
近20年來，EUV光源、EUV掩模和EUV光刻膠一直是EUV光刻的三大技術(shù)挑戰(zhàn)。
2023-09-14 09:45:12563 
EUV 光是指用于微芯片光刻的極紫外光，涉及在微芯片晶圓上涂上感光材料并小心地將其曝光。這會(huì)將圖案打印到晶圓上，用于微芯片設(shè)計(jì)過程中的后續(xù)步驟。
2023-10-30 12:22:55615 EUV曝光是先進(jìn)制程芯片制造中最重要的部分，占據(jù)總時(shí)間、總成本的一半以上。由于這種光刻機(jī)極為復(fù)雜，因此ASML每年只能制造約60臺(tái)，而全球5家芯片制造商都依賴ASML的EUV光刻機(jī)，包括英特爾、美光、三星、SK海力士、臺(tái)積電。目前，AMSL約有70%的EUV光刻機(jī)被臺(tái)積電購買。
2023-11-22 16:46:56383 三星D1a nm LPDDR5X器件的EUV光刻工藝
2023-11-23 18:13:02579 
高數(shù)值孔徑EUV 今年的大部分討論都集中在EUV的下一步發(fā)展以及高數(shù)值孔徑EUV的時(shí)間表和技術(shù)要求上。ASML戰(zhàn)略營(yíng)銷高級(jí)總監(jiān)Michael Lercel表示，其目標(biāo)是提高EUV的能源效率，以及下一代高數(shù)值孔徑EUV工具的發(fā)展?fàn)顩r。
2023-11-23 16:10:27255 
在討論ASML以及為何復(fù)制其技術(shù)如此具有挑戰(zhàn)性時(shí)，分析通常集中在EUV機(jī)器的極端復(fù)雜性上，這歸因于競(jìng)爭(zhēng)對(duì)手復(fù)制它的難度。
2024-01-17 10:46:13116 
已全部加載完成
電子發(fā)燒友App
工商網(wǎng)監(jiān)
評(píng)論