根據(jù)國外媒體報(bào)導(dǎo),曾表示目前制程技術(shù)還用不上EUV技術(shù)的各大DRAM廠在目前DRAM價(jià)格直直落,短期看不到止跌訊號的情況下,也頂不住生產(chǎn)成本的壓力,開始考量導(dǎo)入EUV技術(shù),以降低生產(chǎn)成本。南韓三星將在2019 年底前正式導(dǎo)入。
報(bào)導(dǎo)指出,為了應(yīng)付半導(dǎo)體制程微縮,因此有了EUV設(shè)備與技術(shù)。使用EUV 技術(shù)后,除了同樣制程的情況下,可將電晶體密度提升,同頻率下功耗降低,且因?yàn)橹瞥涛⒖s,使得單位位元數(shù)產(chǎn)出增加,降低光罩用量,如此就可降低成本。不過EUV設(shè)備昂貴,過去DRAM價(jià)格居高不下的時期,各家DRAM廠商擴(kuò)大產(chǎn)能都來不及,暫時不考慮目前制程導(dǎo)入EUV技術(shù)。但市況大不如前,導(dǎo)致想法改變。
根據(jù)市場研究調(diào)查單位DRAMeXchange的研究資料顯示,當(dāng)前DRAM市場供給過剩導(dǎo)致價(jià)格不斷下跌的情況持續(xù)。對此,DRAM廠雖然盡量減產(chǎn),但仍然無法讓價(jià)格明顯止跌。因此,唯一能維持獲利的方法就是微縮制程來降低單位生產(chǎn)成本。不過,DRAM制程向1z 納米或1α 納米制程推進(jìn)的難度愈來愈高,隨著EUV量產(chǎn)技術(shù)獲得突破,將可有效降低DRAM的生產(chǎn)成本。
報(bào)導(dǎo)指出,基于以上的原因,南韓三星預(yù)期在2019年11月開始量產(chǎn)采用EUV 技術(shù)的1z 納米DRAM,量產(chǎn)初期將與三星晶圓代工共用EUV設(shè)備,初期使用量雖不大,但卻等于宣示DRAM微影技術(shù)會開始向EUV的方向發(fā)展。至于,SK海力士及美光也已經(jīng)表明,現(xiàn)階段開始評估導(dǎo)入EUV技術(shù)的需求。對此,業(yè)界預(yù)期將,可能在1α 納米或1β 納米世代開始真正導(dǎo)入。
報(bào)導(dǎo)進(jìn)一步表示,三星的1z 納米屬于第三代10納米級的制程,10納米級的制程并不是10納米制程,而是由于20納米制程節(jié)點(diǎn)之后的DRAM制程升級變得困難,所以DRAM記憶體制程的線寬指標(biāo)不再那么精確,于是有了1x 納米、1y 納米及1z 納米等制程節(jié)點(diǎn)之分。簡單來說,1x 納米制程相當(dāng)于16 到19 納米,1y 納米制程相當(dāng)于14到16納米,1z 納米制程則是大概為12到14納米制程的等級,而在這之后還有1α 及1β 納米制程節(jié)點(diǎn)。
由于,先進(jìn)制程采用EUV微影技術(shù)已是趨勢,在臺積電2019第2季量產(chǎn)內(nèi)含EUV技術(shù)的7納米加強(qiáng)版制程,并且獲得客戶訂單之后,競爭對手三星的晶圓代工也采用EUV量產(chǎn)7納米制程,英特爾則是預(yù)期2021年量產(chǎn)的7納米制程將會首度導(dǎo)入EUV技術(shù)。而隨著制程持續(xù)推進(jìn)至5納米或3納米節(jié)點(diǎn)之后,預(yù)期對EUV的需求也會越來越大,屆時EUV設(shè)備已將成為半導(dǎo)體軍備競賽中不可或缺的要項(xiàng)。
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原文標(biāo)題:行業(yè) | DRAM開始進(jìn)入EUV時代?
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