荷蘭ISTEQ公司TEUS系列EUV光源
產(chǎn)品介紹：
ISTEQ公司開發(fā)了一種基于激光產(chǎn)生等離子體（LPP）的EUV光源。該光源具有極高的亮度和極高的穩(wěn)定性。它采用可自刷新的材料，無需中斷和更換燃料盒，因此持續(xù)運行時間極長。
ISTEQ公司為LPP光源開發(fā)的燃料是針對特定應用的光譜范圍而設計的。然而，對于掩模檢查的應用，公司開發(fā)了一種高頻錫旋轉靶，已在全球范圍內獲得專利。
產(chǎn)品特點：
·高亮度以及出色的穩(wěn)定性
·最少的碎片
·極高的正常運行時間
·高占空比和交鑰匙操作
·用戶友好的自動化協(xié)議，確保系統(tǒng)平穩(wěn)運行，沒有中斷的風險。
產(chǎn)品應用：
·掩模和表面檢查：
·圖案掩模檢測 (PMI)
·區(qū)域掩模檢測 (AIMS)
·掩?？瞻讬z測 (MBI)
·EUV 掃描儀檢
·材料科學
·晶圓檢查
TEUS 系列激光等離子體光源 |
型號參數(shù)：
型號 | TEUS S-100 | TEUS S-200 | TEUS S-400 |
激光平均功率W | 100 | 200 | 400 |
脈沖重頻 kHz | 25或70 | 50或135（可調） | 100或200（可調） |
EUV功率立體角 sr | 0.05 | ||
等離子體尺寸 μm | ≤ 60或 ≤ 40 | ≤ 60或 ≤ 45 | |
帶內輻射轉換效率(13.5 nm±1%) | 2 % @2π·sr or 1.6% @2π·sr | ||
碎片處理系統(tǒng)后角內光通量mW | 11 或 9 | 22 或 18 | 44 或 40 |
碎片處理系統(tǒng)后光譜亮度W/mm2·sr | ≥ 80或 ≥ 140 | ≥ 160或 ≥ 280 | ≥ 310或 ≥ 500 |
等離子體穩(wěn)定性 | 3% rms | ||
在24/7運行狀態(tài)下，在不使用特殊膜過濾器情況下，收集器壽命下降10% | 不少于8個月 | 不少于4個月 | 不少于2個月 |
在24/7運行狀態(tài)下，使用特殊膜過濾器情況下，收集器壽命下降10% | 不少于18個月 | 不少于9個月 | 不少于4個月 |
維護時間間隔 | 4 個月 - 1 天 | 3個月 - 2天 | 2個月 - 1天 |
24/7 運行模式下的正常運行時間*** | 4個月 | 3個月 | 1個月 |
電源 | 5 kW | 8.5 kW | 10.5 kW |
尺寸（長×寬×高）mm | 1500×1000×1200 | ||
重量，包括激光組件 kg | 770 | ||
房間潔凈度等級 | ISO 7 | ||
水流量 | 10升/分鐘 | 15升/分鐘 | 25升/分鐘 |
