全球最大的半導(dǎo)體制造設(shè)備供應(yīng)商荷蘭ASML今天披露說(shuō)，他們將按計(jì)劃在2015年提供450毫米晶圓制造設(shè)備的原型，Intel、三星電子、臺(tái)積電等預(yù)計(jì)將在2018年實(shí)現(xiàn)450毫米晶圓的商業(yè)性量產(chǎn)，與此同時(shí)，極紫外（EUV）光刻設(shè)備也進(jìn)展順利，將在今年交付兩套新的系統(tǒng)。
2013-04-21 09:42:14
1285 300~500nmKrF：波長(zhǎng)248.8nmArF：波長(zhǎng)193nm衍射效應(yīng)對(duì)光刻圖案的影響左圖是理想的光強(qiáng)分布，由于光的衍射效應(yīng)，實(shí)際的光強(qiáng)分布如右圖所示。當(dāng)光的波長(zhǎng)與mask的特征尺寸可比時(shí)，會(huì)產(chǎn)生明顯的衍射效應(yīng)。如上圖所示，透過(guò)mask的光相互疊加，使得不該受到光照的區(qū)域被曝光。
2014-09-26 10:35:02
數(shù)量級(jí)范圍。光刻技術(shù)成為一種精密的微細(xì)加工技術(shù)。 常規(guī)光刻技術(shù)是采用波長(zhǎng)為2000～4500埃的紫外光作為圖像信息載體，以光致抗蝕劑為中間（圖像記錄）媒介實(shí)現(xiàn)圖形的變換、轉(zhuǎn)移和處理，最終把圖像信息
2012-01-12 10:51:59
，之后經(jīng)過(guò)物鏡投射到曝光臺(tái)，這里放的就是8寸或者12英寸晶圓，上面涂抹了光刻膠，具有光敏感性，紫外光就會(huì)在晶圓上蝕刻出電路?！ 《す馄髫?fù)責(zé)光源產(chǎn)生，而光源對(duì)制程工藝是決定性影響的，隨著半導(dǎo)體工業(yè)節(jié)點(diǎn)
2020-07-07 14:22:55
SU-8光刻膠 SU-8光刻膠克服了普通光刻膠采用UV光刻深寬比不足的問(wèn)題，在近紫外光（365nm-400nm）范圍內(nèi)光吸收度很低，且整個(gè)光刻膠層所獲得的曝光量均勻一致，可得到具有垂直側(cè)壁和高深寬比
2018-07-12 11:57:08
。光刻機(jī)的曝光波長(zhǎng)也在由紫外譜g線 (436nm)→i線(365nm)→248nm→193nm→極紫外光（EUV）→X射線，甚至采用非光學(xué)光刻（電子束曝光、離子束曝光），光刻膠產(chǎn)品的綜合性能也必須隨之
2018-08-23 11:56:31
可以直接連接到控制器，電壓計(jì)或其他帶有電壓輸入的數(shù)據(jù)分析裝置。高度現(xiàn)代化的電子元件和帶有紫外玻璃窗的密封金屬外殼可消除封裝內(nèi)寄生電阻路徑導(dǎo)致的噪聲或電磁干擾。最后這款產(chǎn)品，也是從德國(guó)進(jìn)口的紫外光電二極
2019-03-04 09:51:23
紫外線發(fā)射管三個(gè)腳怎么接?目前我只接了二個(gè)腳 一個(gè)腳空著。不過(guò)會(huì)發(fā)亮（紫外光）但是會(huì)發(fā)熱？我給他提供的電壓是DC12V5V 都會(huì)發(fā)熱？這是什么原因？
2011-05-11 11:39:24
`紫外線，簡(jiǎn)稱UV，它對(duì)人們既有有利的方面，又有有害的方面，優(yōu)點(diǎn)是殺菌促進(jìn)骨骼發(fā)育，但是長(zhǎng)時(shí)間接觸會(huì)使皮膚老化產(chǎn)生斑點(diǎn)皮膚炎乃至皮膚癌、促進(jìn)白內(nèi)障?！ ?b class="flag-6" style="color: red">紫外線照射到織物上，一部分被吸收，一部分被反射
2017-11-29 17:02:53
紫外光耐氣候試驗(yàn)箱主要是用于橡膠等材料的老化試驗(yàn)，采用了陽(yáng)光中的紫外線輻射，來(lái)對(duì)試驗(yàn)材料進(jìn)行老化試驗(yàn)，結(jié)合模擬溫度、濕度、凝露模擬氣候條件，對(duì)試驗(yàn)材料進(jìn)行綜合性老化試驗(yàn)。一般情況下，發(fā)生老化的試驗(yàn)
2017-09-07 15:07:23
自然界的陽(yáng)光和濕氣對(duì)材料的破壞，每年造成難以估計(jì)的經(jīng)濟(jì)損失，紫外光耐氣候試驗(yàn)箱可以再現(xiàn)陽(yáng)光、雨水和露水所產(chǎn)生的破壞。設(shè)備通過(guò)將待測(cè)材料曝曬放在經(jīng)過(guò)控制的陽(yáng)光和濕氣的交互循環(huán)中，同時(shí)提高溫度的方式
2018-03-01 10:47:14
光刻膠在近紫外光(365nm- 400nm)范圍內(nèi)光吸收度很低，且整個(gè)光刻膠層所獲得的曝光量均勻一致，可得到具有垂直側(cè)壁和高深寬比的厚膜圖形；它還具有良好的力學(xué)性能、抗化學(xué)腐蝕性和熱穩(wěn)定性。SU-
2018-07-04 14:42:34
`有時(shí)自己做一些PCB，閑來(lái)無(wú)事，利用紫外光LED和一個(gè)網(wǎng)購(gòu)定時(shí)模塊制作了一個(gè)曝光箱，還沒(méi)進(jìn)行PCB實(shí)操，放一個(gè)變色鏡在上面，十幾秒就變色，上圖`
2018-01-30 14:47:54
單片機(jī)解密IC芯片破解用紫外光有問(wèn)題會(huì)出現(xiàn)呢？在單片機(jī)解密IC芯片破解的過(guò)程中，有時(shí)要用到紫外光技術(shù)。但使用不當(dāng)會(huì)容易產(chǎn)生問(wèn)題。深圳愛(ài)體半導(dǎo)體有限公司為你簡(jiǎn)單羅列一些紫外光技術(shù)用于解密不同型
2017-03-20 17:23:00
本文介紹了一種基于AMBE-2000的紫外光語(yǔ)音系統(tǒng)設(shè)計(jì)。實(shí)驗(yàn)證明，紫外光語(yǔ)音通信系統(tǒng)具有低竊聽(tīng)率、低位辨率、全方位、高抗干擾能力、音質(zhì)優(yōu)、功耗低等特點(diǎn)。
2021-03-31 06:04:34
原文來(lái)源：如何對(duì)紫外光老化試驗(yàn)箱的維護(hù)保養(yǎng)工作小編：林頻儀器 為了使紫外光老化試驗(yàn)箱能過(guò)能好的工作，所以我們平時(shí)一定要對(duì)其進(jìn)行定期的維護(hù)和保養(yǎng)，這樣才能讓它一直處于良好的工作狀態(tài)，那我們?cè)谄綍r(shí)
2016-09-05 15:05:57
德國(guó)UV7800紫外光管道非開(kāi)挖修復(fù)機(jī)器人系統(tǒng)開(kāi)創(chuàng)式的配電設(shè)計(jì)，可以上UV燈鏈支持拓展延長(zhǎng)，固化效率提升1/3以上。同時(shí)設(shè)備可采用電腦程序控制或獨(dú)立的PLC系統(tǒng)控制。在突發(fā)事故中，平板電腦發(fā)生故障
2019-12-13 14:27:25
【作者】：呂鵬;劉春芳;張潮海;趙永蓬;王騏;賈興;【來(lái)源】：《強(qiáng)激光與粒子束》2010年02期【摘要】：描述了Z箍縮放電等離子體極紫外光源系統(tǒng)中的主脈沖電源,給出了主電路拓?fù)浣Y(jié)構(gòu),重點(diǎn)介紹了三級(jí)磁
2010-04-22 11:41:29
紫外光通信系統(tǒng)是一種新型的通信手段，與常規(guī)的通信系統(tǒng)相比，有很多優(yōu)勢(shì)。由于紫外線主要以散射方式傳播，并且傳播路徑有限，采用紫外光通信系統(tǒng)具有一定的繞過(guò)障礙物的能力，非常適用于近距離抗干擾的通信環(huán)境
2019-06-18 08:00:06
穩(wěn)定，并且能更好的再現(xiàn)試驗(yàn)結(jié)果。采用熒光UV燈模擬陽(yáng)光對(duì)物理性質(zhì)的影響，例如亮度下降、龜裂、剝落等方面，是最好的方法。有幾種不同的UV燈可供選擇。大多數(shù)的這些UV燈主要產(chǎn)生紫外光，而不是可見(jiàn)光和紅外光
2017-10-11 15:40:19
紫外光由于具有口盲特點(diǎn)而使其在通信方面有著特殊的的必要性及優(yōu)越性，紫外光的調(diào)制與接收是紫外光通信和其他常用通信方式的主要區(qū)別點(diǎn)；介紹了，紫外光通信系統(tǒng)的構(gòu)成原
2009-07-16 10:02:36
34 本文介紹了紫外通信系統(tǒng)中的視頻傳輸領(lǐng)域，詳細(xì)介紹了國(guó)內(nèi)外紫外光通信的發(fā)展形勢(shì)，以及紫外光視頻傳輸中遇到的問(wèn)題和解決方案?；赥I 生產(chǎn)的DM6437 開(kāi)發(fā)板，使用H.264 作為
2009-12-18 17:18:0620 新式半導(dǎo)體光刻技術(shù)中，極紫外光刻(EUV)被認(rèn)為是最有前途的方法之一，不過(guò)其實(shí)現(xiàn)難度也相當(dāng)高，從上世紀(jì)八十年代開(kāi)始探尋至今已經(jīng)將近三十年， 仍然未能投入實(shí)用。極紫外光
2010-06-17 17:27:381470 介紹了紫外 光通信 特點(diǎn)和信道模型，以LED為光源、光電倍增管為光接收器設(shè)計(jì)無(wú)線紫外光數(shù)字通信系統(tǒng)方案，研制了無(wú)線紫外光通信設(shè)備樣機(jī)，在不同條件下進(jìn)行實(shí)驗(yàn)。實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明
2011-06-08 15:01:1851 介紹了國(guó)內(nèi)外紫外光通信系統(tǒng)幾種紫外光源的發(fā)展,并從光譜特點(diǎn)、功率、效率等方面分析了其在紫外光通信中的應(yīng)用特點(diǎn)。指出了紫外發(fā)光二極管(UVED)決定了未來(lái)紫外光通信高速、小型
2011-10-17 17:02:1048 針對(duì)紫外光通信做了相應(yīng)研究，希望廣大研究愛(ài)好者能夠有所幫助
2016-03-11 10:33:095 ? 前些天，新聞曝光的中芯國(guó)際花了1．2億美元從荷蘭ASML買來(lái)一臺(tái)EUV極紫外光刻機(jī)，未來(lái)可用于生產(chǎn)7nm工藝芯片，而根據(jù)最新消息稱，長(zhǎng)江存儲(chǔ)也迎來(lái)了自己的第一臺(tái)光刻機(jī)，國(guó)產(chǎn)SSD固態(tài)硬盤(pán)將迎來(lái)重大突破。
2018-06-29 11:24:008478 納米電子與數(shù)字技術(shù)研發(fā)創(chuàng)新中心 IMEC 與美國(guó)楷登電子( Cadence) 公司聯(lián)合宣布，得益于雙方的長(zhǎng)期深入合作，業(yè)界首款 3nm 測(cè)試芯片成功流片。該項(xiàng)目采用極紫外光刻(EUV)技術(shù)。
2018-03-19 15:08:308347 光刻膠是用來(lái)制作圖案的光敏聚合物，它是造成隨機(jī)性效應(yīng)的罪魁禍?zhǔn)字?。根?jù)定義，隨機(jī)效應(yīng)描述了具有光量子隨機(jī)變化的事件。它們是不可預(yù)測(cè)的，沒(méi)有穩(wěn)定的模式。
2018-03-27 08:09:0010811 
隨機(jī)變化需要新方法、新工具，以及不同公司之間的合作。 極紫外（EUV）光刻技術(shù)正在接近生產(chǎn)，但是隨機(jī)性變化又稱為隨機(jī)效應(yīng)正在重新浮出水面，并為這項(xiàng)期待已久的技術(shù)帶來(lái)了更多的挑戰(zhàn)
2018-03-31 11:52:005861 臺(tái)積電為防堵強(qiáng)敵三星在七納米導(dǎo)入極紫外光（EUV）及后段先進(jìn)封裝，搶食蘋(píng)果新一代處理器訂單，已加速在七納米強(qiáng)化版導(dǎo)入極紫外光時(shí)程。供應(yīng)鏈透露，臺(tái)積電可望年底建構(gòu)七納米強(qiáng)化版試產(chǎn)線，進(jìn)度追平或超前三星，讓三星無(wú)奪蘋(píng)機(jī)會(huì)。
2018-04-08 11:22:00896 紫外光通信系統(tǒng)是一種新型的通信手段，與常規(guī)的通信系統(tǒng)相比，有很多優(yōu)勢(shì)。由于紫外線主要以散射方式傳播，并且傳播路徑有限，采用紫外光通信系統(tǒng)具有一定的繞過(guò)障礙物的能力，非常適用于近距離抗干擾的通信環(huán)境。
2018-07-17 15:34:2813346 荷蘭半導(dǎo)體設(shè)備大廠ASML日前表示，該公司2018年將出貨20套極紫外光(EUV)光刻機(jī)，該數(shù)量預(yù)期在2019年將增加到30套以上。
2018-07-27 18:34:453542 今年4月開(kāi)始，臺(tái)積電第一代7nm工藝(CLN7FF/N7)投入量產(chǎn)，蘋(píng)果A12、華為麒麟980、高通“驍龍855”、AMD下代銳龍/霄龍等處理器都正在或?qū)?huì)使用它制造，但仍在使用傳統(tǒng)的深紫外光刻(DUV)技術(shù)。
2018-10-17 15:44:564730 本文檔的主要內(nèi)容詳細(xì)介紹的是紫外光電管的原理圖詳細(xì)資料免費(fèi)下載。
2018-10-18 08:00:0019 “ASML的EUV
光刻機(jī)使用的13.5納米的極
紫外光源，價(jià)格高達(dá)3000萬(wàn)元，還要在真空下使用?！表?xiàng)目副總師胡松說(shuō)，“而我們使用的365納米
紫外光的汞燈，只要幾萬(wàn)元一只。我們整機(jī)價(jià)格在百萬(wàn)元級(jí)到千萬(wàn)元級(jí)，加工能力介于深
紫外級(jí)和極
紫外級(jí)之間，讓很多用戶大喜過(guò)望?！?/div>
2018-12-03 10:53:1212225 ASML副總裁Anthony Yen表示，ASML已開(kāi)始開(kāi)發(fā)極紫外（EUV）光刻機(jī)，其公司認(rèn)為，一旦當(dāng)今的系統(tǒng)達(dá)到它們的極限，就將需要使用極紫外光刻機(jī)來(lái)繼續(xù)縮小硅芯片的特征尺寸。
2018-12-09 10:35:077142 紫外光通信系統(tǒng)是一種新型的通信手段，與常規(guī)的通信系統(tǒng)相比，有很多優(yōu)勢(shì)。由于紫外線主要以散射方式傳播，并且傳播路徑有限，采用紫外光通信系統(tǒng)具有一定的繞過(guò)障礙物的能力，非常適用于近距離抗干擾的通信環(huán)境。
2019-02-21 15:40:375540 極紫外光刻時(shí)代的大幕已拉開(kāi)……
2019-02-27 13:41:11611 臺(tái)積電官方宣布，已經(jīng)開(kāi)始批量生產(chǎn)7nm N7+工藝，這是臺(tái)積電第一次、也是行業(yè)第一次量產(chǎn)EUV極紫外光刻技術(shù)，意義非凡，也領(lǐng)先Intel、三星一大步。
2019-05-28 11:20:413233 臺(tái)積電官方宣布，已經(jīng)開(kāi)始批量生產(chǎn)7nm N7+工藝，這是臺(tái)積電第一次、也是行業(yè)第一次量產(chǎn)EUV極紫外光刻技術(shù)，意義非凡。
2019-05-28 16:18:243401 本文檔的主要內(nèi)容詳細(xì)介紹的是紫外光電管測(cè)試電路原理圖免費(fèi)下載。
2019-06-19 08:00:0014 三星宣布，位于韓國(guó)京畿道華城市的V1工廠已經(jīng)開(kāi)始量產(chǎn)7nm 7LPP、6nm 6LPP工藝，這也是全球第一座專門(mén)為EUV極紫外光刻工藝打造的代工廠。
2020-02-21 16:19:052214 據(jù)國(guó)外媒體報(bào)道，在芯片的制造過(guò)程中，光刻機(jī)是必不可少的設(shè)備，在芯片工藝提升到7nm EUV、5nm之后，極紫外光刻機(jī)也就至關(guān)重要。
2020-03-07 10:50:591943 據(jù)國(guó)外媒體報(bào)道，在芯片的制造過(guò)程中，光刻機(jī)是必不可少的設(shè)備，在芯片工藝提升到7nm EUV、5nm之后，極紫外光刻機(jī)也就至關(guān)重要。
2020-03-07 14:39:545045 據(jù)國(guó)外媒體報(bào)道，半導(dǎo)體行業(yè)光刻系統(tǒng)供應(yīng)商ASML（阿斯麥）去年交付了26臺(tái)極紫外光刻機(jī)（EUV），調(diào)查公司Omdia表示，其中約一半面向大客戶臺(tái)積電。ASML此前公布，2019年，共向客戶交付了26
2020-04-09 11:20:062310 對(duì)于芯片制造廠商來(lái)說(shuō)，光刻機(jī)的重要性不言而喻，尤其是目前芯片制造工藝已經(jīng)提升至5nm和3nm之后，極紫外光刻機(jī)就顯得更為重要。而ASML作為全球唯一有能力制造極紫外光刻機(jī)的廠商，他的一舉一動(dòng)，牽動(dòng)著所有相關(guān)產(chǎn)業(yè)上下游廠商的心。
2020-04-15 15:44:364093 4月17日消息，據(jù)國(guó)外媒體報(bào)道，在智能手機(jī)等高端設(shè)備芯片的工藝提升到5nm之后，能生產(chǎn)5nm芯片的極紫外光刻機(jī)就顯得異常重要，而作為目前全球唯一能生產(chǎn)極紫外光刻機(jī)的廠商，阿斯麥的供應(yīng)量直接決定了各大芯片制造商5nm芯片的產(chǎn)能。
2020-04-18 09:09:433544 頂級(jí)光刻機(jī)有多難搞？ASML的光刻機(jī)，光一個(gè)零件他就調(diào)整了10年！拿荷蘭最新極紫外光EUV光刻機(jī)舉例，其內(nèi)部精密零件多達(dá)10萬(wàn)個(gè)，比汽車零件精細(xì)數(shù)十倍！
2020-07-02 09:38:3911513 紫外線傳感器又叫紫外光敏管（簡(jiǎn)稱紫外管），是一種利用光電子發(fā)射效應(yīng)的光電管。
2020-08-06 16:10:01814 
光刻機(jī)價(jià)格高達(dá)1.2億美元，比一架波音737都貴。 下面是最近ASML公布的極紫外光光刻機(jī)內(nèi)部加工時(shí)的鏡頭，十分震撼： 在這臺(tái)光刻機(jī)中，每秒在真空環(huán)境中，從底部容器流出5萬(wàn)滴融化的錫液，一對(duì)激光束照射每一滴液體產(chǎn)生等離子體，釋放出更短的波長(zhǎng)，
2020-10-15 09:20:054438 據(jù)國(guó)外媒體報(bào)道，已經(jīng)推出了兩款極紫外光刻機(jī)的阿斯麥，正在研發(fā)第三款，計(jì)劃在明年年中開(kāi)始出貨。
2020-10-15 16:14:111565 日前三星電子副董事長(zhǎng)李在镕前往荷蘭拜訪光刻機(jī)大廠ASML，其目的就是希望ASML 的高層能答應(yīng)提早交付三星已經(jīng)同意購(gòu)買的極紫外光光刻設(shè)備（EUV）。
2020-10-24 09:39:061509 11月5日，世界光刻機(jī)巨頭荷蘭阿斯麥ASML亮相第三屆進(jìn)博會(huì)。作為全球唯一能生產(chǎn)EUV（極紫外光）光刻機(jī)的企業(yè)，由于ASML目前仍不能向中國(guó)出口EUV光刻機(jī)，所以此次展示的是其DUV（深紫外光）光刻機(jī)。據(jù)悉，該產(chǎn)品可生產(chǎn)7nm及以上制程芯片。
2020-11-06 11:18:552396 
11月5日，世界光刻機(jī)巨頭荷蘭阿斯麥ASML亮相第三屆進(jìn)博會(huì)。作為全球唯一能生產(chǎn)EUV（極紫外光）光刻機(jī)的企業(yè)，由于ASML目前仍不能向中國(guó)出口EUV光刻機(jī)，所以此次展示的是其DUV（深紫外光）光刻機(jī)。據(jù)悉，該產(chǎn)品可生產(chǎn)7nm及以上制程芯片。
2020-11-06 11:27:465517 中國(guó)需要光刻機(jī)，尤其是支持先進(jìn)制程的高端光刻機(jī)。具體來(lái)說(shuō)，就是 EUV （極紫外光源）光刻機(jī)。
2020-11-11 10:13:304278 
在5nm、6nm工藝大規(guī)模投產(chǎn)、第二代5nm工藝即將投產(chǎn)的情況下，芯片代工商臺(tái)積電對(duì)極紫外光刻機(jī)的需求也明顯增加。而外媒最新援引產(chǎn)業(yè)鏈消息人士的透露報(bào)道稱，臺(tái)積電已向阿斯麥下達(dá)了2021的極紫外光刻
2020-11-17 17:20:141640 員廣泛應(yīng)用，但是市場(chǎng)對(duì)于塑料、油漆、印刷油墨和染料等產(chǎn)品的檢測(cè)需求日益增加，而這些產(chǎn)品檢測(cè)更適合采用紫外（UV）照明。過(guò)去，這些產(chǎn)品的檢測(cè)受到了紫外光源成本過(guò)高的限制。然而，隨著低成本紫外LED照明的出現(xiàn)，這些應(yīng)用正變得越來(lái)越便宜。 紫外
2020-11-19 14:34:192887 近日，據(jù)外媒報(bào)道，在芯片制程工藝方面一直落后于臺(tái)積電的三星電子，目前正在尋求加強(qiáng)與極紫外光刻機(jī)供應(yīng)商ASML的合作，以加速5nm和3nm制程的研發(fā)。
2020-11-24 14:54:522073 12月2日消息，據(jù)國(guó)外媒體報(bào)道，全球第一大芯片代工商臺(tái)積電，能夠獲得大量的芯片代工訂單，除了領(lǐng)先的制程工藝，還得益于阿斯麥所供應(yīng)的大量先進(jìn)的光刻機(jī)，在第二代7nm和5nm所需要的極紫外光刻機(jī)方面，尤其如此，他們獲得的極紫外光刻機(jī)的數(shù)量，遠(yuǎn)多于三星。
2020-12-02 10:21:09835 特別是，韓國(guó)公司正在迅速縮小其在極紫外光刻技術(shù)上與外國(guó)公司的差距。2019年，韓國(guó)本土提出的專利申請(qǐng)數(shù)量為40件，超過(guò)了國(guó)外企業(yè)的10件。這是韓國(guó)提交的專利申請(qǐng)首次超過(guò)國(guó)外。2020年，韓國(guó)提交的申請(qǐng)數(shù)量也是國(guó)外的兩倍多。
2020-12-11 13:40:541386 光刻機(jī)（Mask Aligner) 又名：掩模對(duì)準(zhǔn)曝光機(jī)，曝光系統(tǒng)，光刻系統(tǒng)等。常用的光刻機(jī)是掩膜對(duì)準(zhǔn)光刻，所以叫 Mask Alignment System。一般的光刻工藝要經(jīng)歷硅片表面清洗烘干
2020-12-29 09:14:542095 對(duì)于阿斯麥（ASML）來(lái)說(shuō)，他們正在研發(fā)更先進(jìn)的光刻機(jī)，這也是推動(dòng)芯片工藝?yán)^續(xù)前行的重要?jiǎng)恿Α?ASML是全球目前唯一能制造極紫外光刻機(jī)的廠商，其在推出TWINSCAN NXE:3400B和NXE
2020-12-29 11:06:572287 12月29日消息，據(jù)國(guó)外媒體報(bào)道，ASML正在研發(fā)更先進(jìn)、效率更高的高數(shù)值孔徑極紫外光刻機(jī)：NXE:5000系列，設(shè)計(jì)已經(jīng)基本完成，預(yù)計(jì)在2022年開(kāi)始商用。
2020-12-30 10:29:302159 呢？OFweek君根據(jù)公開(kāi)資料整理出了一些原因，供讀者參考。 與DUV（深紫外光）光刻機(jī)相比，EUV光刻機(jī)的吞吐量相對(duì)較低，每小時(shí)可曝光處理的晶圓數(shù)量約在120片－175片之間，技術(shù)改進(jìn)后，速度可以提升至275片每小時(shí)。但相對(duì)而言，EUV生產(chǎn)效率還是更高，
2021-02-14 14:05:003915 據(jù)國(guó)外媒體報(bào)道，臺(tái)積電和三星電子的芯片制程工藝，均已提升到了 5nm，更先進(jìn)的工藝研發(fā)也在推進(jìn)，并在謀劃量產(chǎn)事宜。 在制程工藝提升到 5nm 之后，也就意味著臺(tái)積電、三星等廠商，對(duì)極紫外光刻機(jī)的需求
2021-01-25 17:10:181352 ，對(duì)極紫外光刻機(jī)的需求會(huì)不斷增加，而全球目前唯一能生產(chǎn)極紫外光刻機(jī)廠商的阿斯麥，也就大量供應(yīng)極紫外光刻機(jī)。 英文媒體在最新的報(bào)道中表示，在芯片制程工藝方面走在行業(yè)前列的臺(tái)積電，在今年預(yù)計(jì)可獲得 18 臺(tái)極紫外光刻機(jī)，三星和英特爾也將
2021-01-25 17:21:543321 如今全球芯片短缺，不僅僅已經(jīng)嚴(yán)重營(yíng)銷到了科技數(shù)碼產(chǎn)業(yè)，就連汽車產(chǎn)業(yè)也深受其害。為了滿足2021年的需求激增，目前有國(guó)外媒體稱臺(tái)積電一口氣向荷蘭ASML下達(dá)了18臺(tái)最先進(jìn)的極紫外光刻機(jī)需求，如此之大的需求令可以說(shuō)是史上的天量，三星英特爾急了。
2021-01-26 09:22:051158 對(duì)于臺(tái)積電來(lái)說(shuō)，他們今年依然會(huì)狂購(gòu)極紫外光刻，用最先進(jìn)的工藝來(lái)確保自己處于競(jìng)爭(zhēng)的最有力地位。
2021-01-26 11:21:511137 如今全球芯片短缺，不僅僅已經(jīng)嚴(yán)重營(yíng)銷到了科技數(shù)碼產(chǎn)業(yè)，就連汽車產(chǎn)業(yè)也深受其害。 為了滿足2021年的需求激增，目前有國(guó)外媒體稱臺(tái)積電一口氣向荷蘭ASML下達(dá)了18臺(tái)最先進(jìn)的極紫外光刻機(jī)需求，如此之
2021-01-27 09:56:082956 近日，荷蘭的光刻機(jī)制造商阿斯麥（ASML）發(fā)布2020年度財(cái)報(bào)，全年凈銷售額達(dá)到140億歐元，毛利率達(dá)到48.6%。ASML同時(shí)宣布實(shí)現(xiàn)第100套極紫外光刻（EUV）系統(tǒng)的出貨，至2020年年底已有
2021-02-01 09:30:232588 ，也購(gòu)進(jìn)了極紫外光刻機(jī)，用于生產(chǎn)相關(guān)的芯片。 SK海力士已購(gòu)入極紫外光刻機(jī)的消息，源自外媒中提到的M16工廠。外媒在報(bào)道中表示，SK海力士M16工廠的建設(shè)已經(jīng)完成，極紫外光刻機(jī)也已經(jīng)安裝到位，將用于生產(chǎn)DRAM（動(dòng)態(tài)隨機(jī)存取存儲(chǔ)器）。
2021-02-02 18:08:482632 2月25日消息，據(jù)國(guó)外媒體報(bào)道，芯片制程工藝提升至5nm的臺(tái)積電和三星，已從阿斯麥購(gòu)買了大量的極紫外光刻機(jī)，并且還在大量購(gòu)買。
2021-02-26 09:22:011530 UV4000紫外光耐氣候試驗(yàn)箱主要用于模擬對(duì)陽(yáng)光、潮濕和溫度對(duì)材料的破壞作用;材料老化包括褪色、失光、強(qiáng)度降低、開(kāi)裂、剝落、粉化和氧化等。紫外光耐氣候試驗(yàn)箱通過(guò)模擬陽(yáng)光、冷凝、模仿自然潮濕，試樣
2021-06-02 15:22:05624 UV4000紫外光耐氣候試驗(yàn)箱主要用于模擬對(duì)陽(yáng)光、潮濕和溫度對(duì)材料的破壞作用;材料老化包括褪色、失光、強(qiáng)度降低、開(kāi)裂、剝落、粉化和氧化等。 紫外光耐氣候試驗(yàn)箱通過(guò)模擬陽(yáng)光、冷凝、模仿自然潮濕，試樣
2021-06-17 15:34:56452 一臺(tái)高端的光刻機(jī)由上萬(wàn)個(gè)零部件構(gòu)成，光刻機(jī)的主要核心部件主要分為兩個(gè)部分：分別是對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)和紫外光源。
2022-01-03 17:09:0016944 紫外光通信是以大氣分子和子溶膠粒子的散射和吸收為基礎(chǔ)的。紫外光通信基于兩個(gè)相互關(guān)聯(lián)的物理現(xiàn)象：一是大氣層中的臭氧對(duì)波長(zhǎng)在200nm到280nm之間的紫外光有強(qiáng)烈的吸收作用，這個(gè)區(qū)域被叫做日盲區(qū)
2022-03-18 10:11:034253 光刻機(jī)是制作芯片的關(guān)鍵設(shè)備，利用光刻機(jī)發(fā)出的紫外光源通過(guò)具有圖形的光罩對(duì)涂有光刻膠的硅片曝光，使光刻膠性質(zhì)變化、達(dá)到圖形刻印在硅片上形成電子線路圖。我國(guó)目前還是采用什深紫外光的193nm制程工藝，如上海微電子裝備公司（CMEE）制程90nm工藝的光刻機(jī)，那么90nm光刻機(jī)能生產(chǎn)什么芯片呢？
2022-06-30 09:46:2131257 三星電子和ASML就引進(jìn)今年生產(chǎn)的EUV光刻機(jī)和明年推出高數(shù)值孔徑極紫外光High-NA EUV光刻機(jī)達(dá)成采購(gòu)協(xié)議。
2022-07-05 15:26:155634 目前，光刻機(jī)主要分為EUV光刻機(jī)和DUV光刻機(jī)。DUV是深紫外線，EUV是非常深的紫外線。DUV使用的是極紫外光刻技術(shù)，EUV使用的是深紫外光刻技術(shù)。EUV為先進(jìn)工藝芯片光刻的發(fā)展方向。那么duv
2022-07-10 14:53:1078127 低壓紫外汞燈發(fā)射的雙波段短波紫外光照射到試件表面后，與有機(jī)污染物發(fā)生光敏氧化作用,不僅能去除污染物而且能改善表面的性能，從而提高物體表面的浸潤(rùn)性和粘合強(qiáng)度，或者使材料表面得到穩(wěn)定的表面性能。根據(jù)
2022-08-18 16:16:301080 
EUV 光刻是以波長(zhǎng)為 10-14nm 的極紫外光作為光源的芯片光刻技術(shù)，簡(jiǎn)單來(lái)說(shuō)，就是以極紫外光作“刀”，對(duì)芯片上的晶圓進(jìn)行雕刻，讓芯片上的電路變成人們想要的圖案。
2022-10-10 11:15:024367 UV紫外光導(dǎo)電銀漿固化不徹底的主要原因有哪些 SHAREX在導(dǎo)電銀漿領(lǐng)域已經(jīng)有十多年的開(kāi)發(fā)經(jīng)驗(yàn)，特別是最近開(kāi)發(fā)的AS5100系列UV紫外光固化導(dǎo)電銀漿獲得客戶的廣泛認(rèn)可，由于光固化銀漿是個(gè)新生的品類
2022-10-15 15:05:501206 
熱點(diǎn)新聞 1、 ASML 阿斯麥 CEO 透露高數(shù)值孔徑極紫外光刻機(jī) 2024?年開(kāi)始出貨 據(jù)國(guó)外媒體報(bào)道，光刻機(jī)制造商阿斯麥的 CEO 兼總裁彼得?維尼克 (Peter Wennink)，在本周
2022-11-18 19:00:033971 科學(xué)家利用選擇性紫外光刻實(shí)現(xiàn)復(fù)合纖維材料的光纖微圖案化
2022-12-22 14:58:13194 
MODEL：XT-01-UVlitho-手動(dòng)版一、產(chǎn)品簡(jiǎn)介光刻技術(shù)是現(xiàn)代半導(dǎo)體、微電子、信息產(chǎn)業(yè)的基礎(chǔ)，是集成電路最重要的加工工藝。光刻膠在紫外光的照射下發(fā)生化學(xué)變化，通過(guò)曝光、顯影、刻蝕等工藝過(guò)程
2022-12-20 09:24:261211 
霍爾效應(yīng)實(shí)驗(yàn)是一個(gè)受系統(tǒng)誤差影響較大的實(shí)驗(yàn)，特別是在霍爾效應(yīng)產(chǎn)生的同時(shí)，伴隨產(chǎn)生的其他效應(yīng)引起的附加電場(chǎng)對(duì)實(shí)驗(yàn)影響較大。霍爾效應(yīng)產(chǎn)生誤差的原因主要有以下幾點(diǎn)：
2023-07-03 17:17:042566 ，半導(dǎo)體制造領(lǐng)域使用 傳統(tǒng)大功率汞燈技術(shù) 用于光刻設(shè)備的紫外光源。這種光源雖然輸出功率高，但輸出光譜范圍寬，制造和生產(chǎn)過(guò)程中會(huì)產(chǎn)生對(duì)環(huán)境有害的物質(zhì)，并且工作壽命短，更換周期頻繁。 UVLED 具有獨(dú)特的技術(shù)優(yōu)勢(shì)和成本優(yōu)勢(shì)，能夠輸
2023-07-05 10:11:241026 
。照明系統(tǒng)是光刻機(jī)的重要組成部分，其主要作用是提供高均勻性照明、控制曝光劑量和實(shí)現(xiàn)離軸照明，以提高光刻分辨率和增大焦深。論文以深紫外光刻照明系統(tǒng)光學(xué)設(shè)計(jì)為研究方向，對(duì)照明系統(tǒng)關(guān)鍵單元進(jìn)行了光學(xué)設(shè)計(jì)與仿真研究。
2023-07-17 11:02:38592 
在uvitron，我們直接了解紫外光固化設(shè)備如何成為許多行業(yè)的關(guān)鍵技術(shù)，紫外光固化系統(tǒng)的好處很多，該技術(shù)對(duì)許多工業(yè)過(guò)程的效率、質(zhì)量和可持續(xù)性產(chǎn)生了重大影響。
2023-07-21 11:42:17286 
短波長(zhǎng)透明光學(xué)元件的缺乏限制了深紫外光刻中的可用波長(zhǎng)，而晶片上所需的最小特征繼續(xù)向更深的亞波長(zhǎng)尺度收縮。這對(duì)用入射場(chǎng)代替掩模開(kāi)口上的場(chǎng)的基爾霍夫邊界條件造成了嚴(yán)重的限制，因?yàn)檫@種近似無(wú)法考慮光刻圖像
2023-08-25 17:21:43279 
實(shí)現(xiàn)深紫外光通信的一個(gè)關(guān)鍵器件是深紫外光源。早期深紫外光源利用高壓汞燈實(shí)現(xiàn)，但汞燈的調(diào)制帶寬非常小，這嚴(yán)重影響了深紫光通信的傳輸速率。
2023-09-05 11:13:00484 
歐洲極紫外光刻（EUVL）技術(shù)利用波長(zhǎng)為13.5納米的光子來(lái)制造集成電路。產(chǎn)生這種光的主要來(lái)源是使用強(qiáng)大激光器產(chǎn)生的熱錫等離子體。激光參數(shù)被調(diào)整以產(chǎn)生大多數(shù)在13.5納米附近發(fā)射的錫離子（例如Sn10+-Sn15+）。
2023-09-25 11:10:50264 
廈門(mén)大學(xué)康俊勇教授、尹君副教授課題組根據(jù)致病菌中遺傳物質(zhì)、蛋白質(zhì)的紫外光吸收特性，開(kāi)發(fā)了一種由275-nm氮化物L(fēng)ED組成的大功率（3.2 W）且輻照均勻的平面光源，能夠在1秒內(nèi)完成對(duì)新冠病毒
2023-10-17 15:22:23878 
電子發(fā)燒友網(wǎng)站提供《基于單LED的無(wú)線紫外光通信系統(tǒng)設(shè)計(jì)與實(shí)現(xiàn).pdf》資料免費(fèi)下載
2023-10-26 14:32:211 紫外光通信系統(tǒng)是一種新型的通信手段，與常規(guī)的通信系統(tǒng)相比，有很多優(yōu)勢(shì)。
2023-11-28 09:38:20538 
在面對(duì)紫外光子成像技術(shù)時(shí)，面臨著諸多挑戰(zhàn)。光子密度大、需要高頻觸發(fā)采集，以及實(shí)時(shí)計(jì)算光子位置進(jìn)行譜圖繪制，這些都對(duì)采集設(shè)備的性能提出了極高的要求。
2024-03-20 09:56:0777 
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