如今全球芯片短缺,不僅僅已經(jīng)嚴重營銷到了科技數(shù)碼產(chǎn)業(yè),就連汽車產(chǎn)業(yè)也深受其害。
為了滿足2021年的需求激增,目前有國外媒體稱臺積電一口氣向荷蘭ASML下達了18臺最先進的極紫外光刻機需求,如此之大的需求令可以說是史上的天量,三星英特爾急了。
因為目前全球能夠提供最先進極紫外光刻機的只有荷蘭ASML一家,在剛剛過去的2020年當中,ASML面向全球客戶一共才交付了31臺極紫外光刻機,也就是說臺積電如果一口氣吞掉了18臺的話,就占盡了全球半導體新工藝產(chǎn)能的半數(shù)以上還要多。
而對于正在步入主流的全新5nm工藝而言,需求巨大的不僅僅是臺積電一家,三星最近基于5nm工藝也可以說是風生水起。
另外今年英特爾也有提升工藝水平的計劃,用一句通俗的話來講,5nm的EUV光刻機真的是“狼多肉少”的局面。
不得不說,盡管最近出現(xiàn)一些5nm芯片“翻車”事件,但是當歷史的洪流沖破5nm這道堤壩的時刻,絕對是一發(fā)不可收拾的迅猛發(fā)展。
新一輪的芯片工藝競爭已經(jīng)展開,多家芯片巨頭紛紛參戰(zhàn)目前仍難言輸贏。但光刻機仍就是重中之重,得光刻機者得天下!
責任編輯:PSY
聲明:本文內(nèi)容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網(wǎng)站授權(quán)轉(zhuǎn)載。文章觀點僅代表作者本人,不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場。文章及其配圖僅供工程師學習之用,如有內(nèi)容侵權(quán)或者其他違規(guī)問題,請聯(lián)系本站處理。
舉報投訴
相關(guān)推薦
本文主要介紹光刻機的分類與原理。 ? 光刻機分類 光刻機的分類方式很多。按半導體制造工序分類,光刻設備有前道和后道之分。前道光刻機包括芯片
發(fā)表于 01-16 09:29
?129次閱讀
? 本文介紹了組成光刻機的各個分系統(tǒng)。 光刻技術(shù)作為制造集成電路芯片的重要步驟,其重要性不言而喻。光刻機是實現(xiàn)這一工藝的核心設備,它的工作原理類似于傳統(tǒng)攝影中的曝光過程,但精度要求極高,能夠達到
發(fā)表于 01-07 10:02
?269次閱讀
? 本文介紹了用來提高光刻機分辨率的浸潤式光刻技術(shù)。 芯片制造:光刻技術(shù)的演進 過去半個多世紀,摩爾定律一直推動著半導體技術(shù)的發(fā)展,但當光刻機的光源波長卡在193
發(fā)表于 11-24 11:04
?805次閱讀
? 本文介紹了光刻機在芯片制造中的角色和地位,并介紹了光刻機的工作原理和分類。? ? ? ?? 光刻機:芯片制造的關(guān)鍵角色 ? ? 光刻機在芯片制造中占據(jù)著至關(guān)重要的地位,被譽為芯片制
發(fā)表于 11-24 09:16
?1954次閱讀
,光刻機作為IC制造裝備中最核心、技術(shù)難度最大的設備,其重要性日益凸顯。本文將從光刻機的發(fā)展歷程、結(jié)構(gòu)組成、關(guān)鍵性能參數(shù)以及雙工件臺技術(shù)展開介紹。 一、光刻機發(fā)展歷程
發(fā)表于 11-22 09:09
?1635次閱讀
據(jù)外媒報道,目前,俄羅斯首臺光刻機已經(jīng)制造完成并正在進行測試。 俄羅斯聯(lián)邦工業(yè)和貿(mào)易部副部長瓦西里-什帕克(Vasily Shpak)表示,已組裝并制造了第一臺國產(chǎn)光刻機,作為澤廖諾格勒技術(shù)生產(chǎn)線
發(fā)表于 05-28 15:47
?806次閱讀
的芯片。Shpak表示,“我們組裝并制造了第一臺國產(chǎn)光刻機。作為澤廖諾格勒技術(shù)生產(chǎn)線的一部分,目前正在對其進行測試?!倍砹_斯接下來的目標是在2026年制造可以支持130nm工藝的光刻機
發(fā)表于 05-28 09:13
?696次閱讀
電子發(fā)燒友網(wǎng)報道(文/吳子鵬)此前,臺積電高級副總裁張曉強在技術(shù)研討會上表示,“ASML最新的高數(shù)值孔徑極紫外光刻機(high-NA EUV)價格實在太高了,
發(fā)表于 05-27 07:54
?2574次閱讀
來源:國芯網(wǎng),謝謝 編輯:感知芯視界 Link 5月22日消息,據(jù)外媒報道,臺積電從ASML購買的EUV極紫外光刻機,暗藏后門,可以在必要的
發(fā)表于 05-24 09:35
?599次閱讀
disable)臺積電相應機器,而且還可以包括最先進的極紫外光刻機(EUV)。 這就意味著阿斯麥(ASML)留了后門,隨時有能力去遠程癱瘓制造芯片的
發(fā)表于 05-22 11:29
?5801次閱讀
據(jù)臺灣業(yè)內(nèi)人士透露,臺積電并未為A16制程配備高數(shù)值孔徑(High-NA)EUV光刻機,而選擇利用現(xiàn)有的EUV光刻機進行生產(chǎn)。相較之下,英特
發(fā)表于 05-17 17:21
?1039次閱讀
光刻機有很多種類型,但有時也很難用類型進行分類來區(qū)別設備,因為有些分類僅是在某一分類下的分類。
發(fā)表于 04-10 15:02
?2012次閱讀
光刻機經(jīng)歷了5代產(chǎn)品發(fā)展,每次改進和創(chuàng)新都顯著提升了光刻機所能實現(xiàn)的最小工藝節(jié)點。按照使用光源依次從g-line、i-line發(fā)展到KrF、ArF和EUV;按照工作原理依次從接觸接近式光刻機
發(fā)表于 03-21 11:31
?6558次閱讀
光刻膠是一種涂覆在半導體器件表面的特殊液體材料,可以通過光刻機上的模板或掩模來進行曝光。
發(fā)表于 03-04 17:19
?4838次閱讀
光刻機是微電子制造的關(guān)鍵設備,廣泛應用于集成電路、平面顯示器、LED、MEMS等領(lǐng)域。在集成電路制造中,光刻機被用于制造芯片上的電路圖案。
發(fā)表于 01-29 09:37
?3722次閱讀
評論