光刻技術(shù)是什么,有哪些作用

光刻是在掩模中轉(zhuǎn)移幾何形狀圖案的過(guò)程，是覆蓋在表面的一層薄薄的輻射敏感材料(稱為抗輻射劑) ，也是一種半導(dǎo)體晶片。圖5.1簡(jiǎn)要說(shuō)明了光刻用于集成電路制造的工藝。如圖5.1(b)所示，輻射為通過(guò)口罩的透明部分傳播，使其暴露光刻膠不溶于顯影劑溶液，從而使之直接將掩模圖案轉(zhuǎn)移到晶圓上。在定義模式之后，需要采用蝕刻工藝選擇性地去除屏蔽部分基本層。光刻曝光的性能由三個(gè)參數(shù)決定: 分辨率、注冊(cè)和吞吐量。分辨率定義：半導(dǎo)體晶圓上的薄膜。注冊(cè)是衡量其準(zhǔn)確性的一個(gè)指標(biāo)連續(xù)掩模上的模式可以對(duì)齊或疊加在同一晶圓片上先前定義的圖案。吞吐量是數(shù)量每小時(shí)可以暴露在給定掩模水平下的晶圓。

光刻技術(shù)是什么,有哪些作用

潔凈室

集成電路制造設(shè)備需要一個(gè)潔凈室，特別是在光刻領(lǐng)域，沉積在半導(dǎo)體晶圓和光刻掩模上的灰塵顆?？赡茉斐稍O(shè)備缺陷。如圖5.2所示，空氣中的顆粒附著在掩模表面的圖案可以是不透明的隨后轉(zhuǎn)移到電路模式，從而導(dǎo)致不好的后果。例如，圖5.2中的粒子1可能導(dǎo)致底層有一個(gè)針孔粒子2可能引起的收縮電流在金屬流道中流動(dòng)，而粒子3可能導(dǎo)致短路從而使電路失效。

光刻技術(shù)是什么,有哪些作用

審核編輯：湯梓紅

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晶圓(126258) 晶圓(126258)
工藝(28544) 工藝(28544)
光刻(29860) 光刻(29860)

評(píng)論

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2023-09-11 11:58:42

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濕法去膠液的種類有哪些？去膠液都有哪些種類？去膠原理是什么？

光刻技術(shù)通過(guò)光刻膠將圖案成功轉(zhuǎn)移到硅片上，但是在相關(guān)制程結(jié)束后就需要完全除去光刻膠，那么這個(gè)時(shí)候去膠液就發(fā)揮了作用，那么去膠液都有哪些種類？去膠原理是什么？

2023-09-06 10:25:01

1152

光伏刻蝕工藝流程光刻蝕刻加工原理是什么

光刻蝕（Photolithography）是一種在微電子和光電子制造中常用的加工技術(shù)，用于制造微細(xì)結(jié)構(gòu)和芯片元件。它的基本原理是利用光的化學(xué)和物理作用，通過(guò)光罩的設(shè)計(jì)和控制，將光影投射到光敏材料上，形成所需的圖案。

2023-08-24 15:57:42

2270

半導(dǎo)體制造工藝之光刻工藝詳解

2023-08-24 10:38:54

1221

什么是光刻工藝？光刻的基本原理

光刻是半導(dǎo)體芯片生產(chǎn)流程中最復(fù)雜、最關(guān)鍵的工藝步驟，耗時(shí)長(zhǎng)、成本高。半導(dǎo)體芯片生產(chǎn)的難點(diǎn)和關(guān)鍵點(diǎn)在于將電路圖從掩模上轉(zhuǎn)移至硅片上，這一過(guò)程通過(guò)光刻來(lái)實(shí)現(xiàn)，光刻的工藝水平直接決定芯片的制程水平和性能水平。

2023-08-23 10:47:53

1586

浸沒(méi)式光刻，拯救摩爾定律

2000年代初，芯片行業(yè)一直致力于從193納米氟化氬（ArF）光源光刻技術(shù)過(guò)渡到157納米氟（F 2 ）光源光刻技術(shù)。

2023-08-23 10:33:46

798

光刻技術(shù)概述及其分類

光刻是一種圖像復(fù)制技術(shù)，是集成電路工藝中至關(guān)重要的一項(xiàng)工藝。簡(jiǎn)單地說(shuō)，光刻類似照相復(fù)制方法，即將掩膜版上的圖形精確地復(fù)制到涂在硅片表面的光刻膠或其他掩蔽膜上面，然后在光刻膠或其他掩蔽膜的保護(hù)下對(duì)硅片進(jìn)行離子注入、刻蝕、金屬蒸鍍等。

2023-08-07 17:52:53

1480

EUV光刻市場(chǎng)高速增長(zhǎng)，復(fù)合年增長(zhǎng)率21.8%

EUV掩膜，也稱為EUV掩?；駿UV光刻掩膜，對(duì)于極紫外光刻（EUVL）這種先進(jìn)光刻技術(shù)至關(guān)重要。EUV光刻是一種先進(jìn)技術(shù)，用于制造具有更小特征尺寸和增強(qiáng)性能的下一代半導(dǎo)體器件。

2023-08-07 15:55:02

396

次時(shí)代EUV光刻已箭在弦上！

半導(dǎo)體技術(shù)的未來(lái)通常是通過(guò)光刻設(shè)備的鏡頭來(lái)看待的，盡管高度挑戰(zhàn)性的技術(shù)問(wèn)題幾乎永無(wú)休止，但光刻設(shè)備仍繼續(xù)為未來(lái)的工藝節(jié)點(diǎn)提供更好的分辨率。

2023-07-28 17:41:16

1130

深紫外光刻復(fù)雜照明光學(xué)系統(tǒng)設(shè)計(jì)

摘要：隨著微電子產(chǎn)業(yè)的迅猛發(fā)展，我國(guó)迫切需要研制極大規(guī)模集成電路的加工設(shè)備-光刻機(jī)。曝光波長(zhǎng)為193nm的投影式光刻機(jī)因其技術(shù)成熟、曝光線寬可延伸至32nm節(jié)點(diǎn)的優(yōu)勢(shì)已成為目前光刻領(lǐng)域的主流設(shè)備

2023-07-17 11:02:38

592

光刻掩膜版測(cè)溫儀，光刻機(jī)曝光光學(xué)系統(tǒng)測(cè)溫儀

GK-1000光刻掩膜版測(cè)溫儀，光刻機(jī)曝光光學(xué)系統(tǒng)測(cè)溫儀光刻機(jī)是一種用于微納米加工的設(shè)備，主要用于制造集成電路、光電子器件、MEMS（微機(jī)電系統(tǒng)）等微細(xì)結(jié)構(gòu)。光刻機(jī)是一種光學(xué)投影技術(shù)，通過(guò)將光線通過(guò)

2023-07-07 11:46:07

虹科案例 | 用于低成本改造光刻設(shè)備的UV紫外光源

? ? 紫外光刻和曝光是半導(dǎo)體行業(yè)生產(chǎn)各種高端芯片、微觀電路結(jié)構(gòu)的核心技術(shù)。在紫外光刻過(guò)程中，光源發(fā)射的紫外線通過(guò)掩模上的微小透鏡或光柵，然后投射到光刻膠層上，形成所需的微細(xì)圖案。長(zhǎng)期以來(lái)

2023-07-05 10:11:24

1026

3D IC對(duì)光刻技術(shù)的新技術(shù)要求

中國(guó)科學(xué)院大學(xué)集成電路學(xué)院是國(guó)家首批支持建設(shè)的示范性微電子學(xué)院。為了提高學(xué)生對(duì)先進(jìn)光刻技術(shù)的理解，本學(xué)期集成電路學(xué)院開(kāi)設(shè)了《集成電路先進(jìn)光刻技術(shù)與版圖設(shè)計(jì)優(yōu)化》研討課。在授課過(guò)程中，除教師系統(tǒng)地講授

2023-06-30 10:06:02

261

基于機(jī)器學(xué)習(xí)的逆向光刻技術(shù)

2023-06-29 10:02:17

327

晶圓代工廠如何突破物理極限提升光刻技術(shù)？

EUV微影技術(shù)的落實(shí)延續(xù)了摩爾定律的壽命，這里的EUV指的其實(shí)是一種紫外光源，跟過(guò)去光刻技術(shù)所采用的光源比起來(lái)，EUV的波長(zhǎng)更短，因此有助于大幅提高分辨率。

2023-06-27 10:11:42

248

光刻對(duì)準(zhǔn)原理與精度控制

2023-06-26 17:00:19

766

一文了解光刻的歷史

如今，光刻技術(shù)已成為一項(xiàng)容錯(cuò)率極低的大產(chǎn)業(yè)。全球領(lǐng)先的荷蘭公司 ASML 也是歐洲市值最大的科技公司。它的光刻工具依賴于世界上最平坦的鏡子、最強(qiáng)大的商用激光器之一以及比太陽(yáng)表面爆炸還高的熱度，在硅上刻出微小的形狀，尺寸僅為幾納米。

2023-06-26 16:59:16

569

與EUV相比，這一光刻技術(shù)更具發(fā)展?jié)摿?/a>

對(duì)于半導(dǎo)體行業(yè)而言，光刻技術(shù)和設(shè)備發(fā)揮著基礎(chǔ)性作用，是必不可少的。

2023-06-25 10:25:08

443

光刻中承上啟下的半導(dǎo)體掩膜版

電子發(fā)燒友網(wǎng)報(bào)道（文/周凱揚(yáng)）在上游的半導(dǎo)體制造產(chǎn)業(yè)中，除了光刻機(jī)等設(shè)備外，光刻膠、掩膜版等材料也是決定晶圓質(zhì)量與良率的關(guān)鍵因素。就拿掩膜版來(lái)說(shuō)，這個(gè)承載設(shè)計(jì)圖形的材料，經(jīng)過(guò)曝光后將圖形信息轉(zhuǎn)移到

2023-06-22 01:27:00

1984

硅基光刻技術(shù)在柔性電子器件制造中的應(yīng)用

近日，湖南大學(xué)段輝高教授團(tuán)隊(duì)通過(guò)開(kāi)發(fā)基于“光刻膠全干法轉(zhuǎn)印”技術(shù)的新型光刻工藝，用于柔性及不規(guī)則（曲面、懸空）襯底上柔性電子器件的原位和高保形制造，為高精度、高可靠性和高穩(wěn)定性柔性電子器件的制造提供

2023-06-17 10:19:38

507

面向光刻的設(shè)計(jì)規(guī)則建立及優(yōu)化

2023-06-14 10:16:38

226

芯片制造之光刻工藝詳細(xì)流程圖

光刻機(jī)可分為前道光刻機(jī)和后道光刻機(jī)。光刻機(jī)既可以用在前道工藝，也可以用在后道工藝，前道光刻機(jī)用于芯片的制造，曝光工藝極其復(fù)雜，后道光刻機(jī)主要用于封裝測(cè)試，實(shí)現(xiàn)高性能的先進(jìn)封裝，技術(shù)難度相對(duì)較小。

2023-06-09 10:49:20

5857

芯片制造光刻步驟詳解

芯片前道制造可以劃分為七個(gè)環(huán)節(jié)，即沉積、涂膠、光刻、去膠、烘烤、刻蝕、離子注入。

2023-06-08 10:57:09

3765

一文看懂EUV光刻

極紫外 (EUV) 光刻系統(tǒng)是當(dāng)今使用的最先進(jìn)的光刻系統(tǒng)。本文將介紹這項(xiàng)重要但復(fù)雜的技術(shù)。

2023-06-06 11:23:54

688

知識(shí)分享---光刻模塊標(biāo)準(zhǔn)步驟

通常，光刻是作為特性良好的模塊的一部分執(zhí)行的，其中包括晶圓表面制備、光刻膠沉積、掩模和晶圓的對(duì)準(zhǔn)、曝光、顯影和適當(dāng)?shù)目刮g劑調(diào)節(jié)。光刻工藝步驟需要按順序進(jìn)行表征，以確保模塊末端剩余的抗蝕劑是掩模的最佳圖像，并具有所需的側(cè)壁輪廓。

2023-06-02 16:30:25

418

逆向光刻的原理及其優(yōu)勢(shì)

2023-05-26 14:59:17

528

化學(xué)放大型光刻膠的作用原理

感光速度:即光刻膠受光照射發(fā)生溶解速度改變所需的最小能量，感光速度越快，單位時(shí)間內(nèi)芯片制造的產(chǎn)出越高，經(jīng)濟(jì)效益越好，另-方面，過(guò)快的感光速度會(huì)對(duì)引起工藝寬容度的減小，影響工藝制程的穩(wěn)定性。

2023-05-25 09:46:09

561

光刻技術(shù)：光學(xué)關(guān)鍵尺寸測(cè)量（OCD）原理

　　集成電路芯片持續(xù)朝著密度不斷增加和器件尺寸不斷微縮的方向發(fā)展，其中最為關(guān)鍵的一個(gè)參數(shù)就是柵極線條寬度。任何經(jīng)過(guò)光刻后的光刻膠線條寬度或刻蝕后柵極線條寬度與設(shè)計(jì)尺寸的偏離都會(huì)直接影響最終器件的性能

2023-05-24 09:25:19

3491

EUV光刻技術(shù)優(yōu)勢(shì)及挑戰(zhàn)

EUV光刻技術(shù)仍被認(rèn)為是實(shí)現(xiàn)半導(dǎo)體行業(yè)持續(xù)創(chuàng)新的關(guān)鍵途徑。隨著技術(shù)的不斷發(fā)展和成熟，預(yù)計(jì)EUV光刻將在未來(lái)繼續(xù)推動(dòng)芯片制程的進(jìn)步。

2023-05-18 15:49:04

1790

一文講透光刻膠及芯片制造關(guān)鍵技術(shù)

在集成電路制造領(lǐng)域，如果說(shuō)光刻機(jī)是推動(dòng)制程技術(shù)進(jìn)步的“引擎”，光刻膠就是這部“引擎”的“燃料”。

2023-05-13 11:28:38

1122

二極管的鉗位作用和穩(wěn)壓作用有什么不同啊？

2023-05-05 10:00:38

EUV光刻的無(wú)名英雄

晶圓廠通常使用光刻膠來(lái)圖案化抗蝕刻硬掩模，然后依靠硬掩模來(lái)保護(hù)晶圓。但是，如果光刻膠太薄，它可能會(huì)在第一個(gè)轉(zhuǎn)移步驟完成之前被侵蝕掉。隨著光刻膠厚度的減小，底層厚度也應(yīng)該減小。

2023-04-27 16:25:00

689

NVIDIA H100 GPU為2nm芯片加速計(jì)算光刻！

現(xiàn)代工藝技術(shù)將晶圓廠設(shè)備要求推向極限，需要實(shí)現(xiàn)突破其物理極限的高分辨率，這正是計(jì)算光刻技術(shù)發(fā)揮作用的地方。計(jì)算光刻就是為芯片生產(chǎn)制作光掩模的技術(shù)，它結(jié)合來(lái)自ASML設(shè)備和測(cè)試晶圓的關(guān)鍵數(shù)據(jù)，是一個(gè)模擬生產(chǎn)過(guò)程的算法。

2023-04-26 10:05:29

918

淺談光刻技術(shù)

在整個(gè)芯片制造過(guò)程中，幾乎每一道工序的實(shí)施都離不開(kāi)光刻技術(shù)。光刻技術(shù)也是制造芯片最關(guān)鍵的技術(shù)，占芯片制造成本的35%以上。

2023-04-26 08:57:03

1033

光刻技術(shù)的種類介紹

根據(jù)維基百科的定義，光刻是半導(dǎo)體器件制造工藝中的一個(gè)重要步驟，該步驟利用曝光和顯影在光刻膠層上刻畫(huà)幾何圖形結(jié)構(gòu)，然后通過(guò)刻蝕工藝將光掩模上的圖形轉(zhuǎn)移到所在襯底上。這里所說(shuō)的襯底不僅包含硅晶圓，還可以是其他金屬層、介質(zhì)層，例如玻璃、SOS中的藍(lán)寶石。

2023-04-25 11:11:33

1243

光刻技術(shù)的詳細(xì)工序

清洗硅片（Wafer Clean）清洗硅片的目的是去除污染物去除顆粒、減少針孔和其它缺陷，提高光刻膠黏附性基本步驟：化學(xué)清洗——漂洗——烘干。

2023-04-25 11:09:40

3859

光刻技術(shù)的原理及發(fā)展前景分析

光刻就是把芯片制作所需要的線路與功能區(qū)做出來(lái)。利用光刻機(jī)發(fā)出的光通過(guò)具有圖形的光罩對(duì)涂有光刻膠的薄片曝光，光刻膠見(jiàn)光后會(huì)發(fā)生性質(zhì)變化，從而使光罩上得圖形復(fù)印到薄片上，從而使薄片具有電子線路圖的作用

2023-04-25 11:05:32

2260

什么是光刻技術(shù)

光刻技術(shù)簡(jiǎn)單來(lái)講，就是將掩膜版圖形曝光至硅片的過(guò)程，是大規(guī)模集成電路的基礎(chǔ)。目前市場(chǎng)上主流技術(shù)是193nm沉浸式光刻技術(shù)，CPU所謂30nm工藝或者22nm工藝指的就是采用該技術(shù)獲得的電路尺寸。

2023-04-25 11:02:32

2261

光刻技術(shù)簡(jiǎn)述

光刻技術(shù)是將掩模中的幾何形狀的圖案轉(zhuǎn)移到覆蓋在半導(dǎo)體晶片表面的薄層輻射敏感材料（稱為抗蝕劑）上的過(guò)程

2023-04-25 09:55:13

1057

計(jì)算光刻技術(shù)有多重要？計(jì)算光刻如何改變2nm芯片制造？

光刻是在晶圓上創(chuàng)建圖案的過(guò)程，是芯片制造過(guò)程的起始階段，包括兩個(gè)階段——光掩膜制造和圖案投影。

2023-04-25 09:22:16

696

負(fù)光刻膠顯影殘留原因

151n光刻膠曝光顯影后開(kāi)口底部都會(huì)有一撮殘留，找不到原因。各位幫分析下

2023-04-20 13:13:52

田字型電容橋有什么作用？

電路的作用問(wèn)題：這種“田”字電容電路有什么作用？檢測(cè)嗎？

2023-04-19 17:35:04

淺談EUV光刻中的光刻膠和掩模等材料挑戰(zhàn)

新的High NA EUV 光刻膠不能在封閉的研究環(huán)境中開(kāi)發(fā)，必須通過(guò)精心設(shè)計(jì)的底層、新型硬掩模和高選擇性蝕刻工藝進(jìn)行優(yōu)化以獲得最佳性能。為了迎接這一挑戰(zhàn)，imec 最近開(kāi)發(fā)了一個(gè)新的工具箱來(lái)匹配光刻膠和底層的屬性。

2023-04-13 11:52:12

1164

音圈電機(jī)模組在主流光刻掩模臺(tái)系統(tǒng)中的應(yīng)用

光刻機(jī)是芯片智造的核心設(shè)備之一，也是當(dāng)下尤為復(fù)雜的精密儀器之一。正因?yàn)榇?，荷蘭光刻機(jī)智造商阿斯麥通研制的EUV光刻機(jī)才會(huì)“千金難求”。很多人都對(duì)光刻機(jī)有所耳聞，但其實(shí)不同光刻機(jī)的用途并不

2023-04-06 08:56:49

679

Dev Error Detect有什么作用？

我想知道 OSIF 的含義以及有關(guān)其配置的一些信息。 1. “Dev Error Detect”有什么作用？它是否啟用斷言來(lái)檢查/檢測(cè)有關(guān) Osif 驅(qū)動(dòng)程序的錯(cuò)誤？2.“使用系統(tǒng)定時(shí)器”選項(xiàng)

2023-03-27 08:56:50

GTC 2023 NVIDIA將加速計(jì)算引入半導(dǎo)體光刻計(jì)算光刻技術(shù)提速40倍

GTC 2023 NVIDIA將加速計(jì)算引入半導(dǎo)體光刻計(jì)算光刻技術(shù)提速40倍 NVIDIA cuLitho的計(jì)算光刻庫(kù)可以將計(jì)算光刻技術(shù)提速40倍。這對(duì)于半導(dǎo)體制造而言極大的提升了效率。甚至可以說(shuō)

2023-03-23 18:55:37

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光刻技術(shù)是什么,有哪些作用

評(píng)論