光刻機(jī)是集成電路制造的關(guān)鍵核心設(shè)備，為了在更小的物理空間集成更多的電子元件，單個(gè)電路的物理尺寸越來(lái)越小，主流光刻機(jī)在硅片上投射的光刻電路分辨率達(dá)到50-90nm。
2016-12-13 02:04:11
12251 本文主要對(duì)接觸式三維測(cè)量和非接觸式三維測(cè)量進(jìn)行了介紹。著重介紹了光學(xué)三維測(cè)量技術(shù)的各種實(shí)現(xiàn)方法及原理。最后對(duì)目前光學(xué)三維測(cè)量的應(yīng)用進(jìn)行了簡(jiǎn)單介紹。
2022-07-13 10:09:283507 壓印光刻是許多新興應(yīng)用的關(guān)鍵技術(shù)，例如微光學(xué)、增強(qiáng)現(xiàn)實(shí)、MEMS和光電傳感器;但它是什么以及它是如何工作的?
2022-07-25 16:15:071257 
關(guān)于紅外雨量計(jì)（光學(xué)雨量傳感器）的紅外光學(xué)測(cè)量技術(shù) 紅外雨量計(jì)是一種常用的雨量測(cè)量設(shè)備，它通過(guò)紅外光學(xué)測(cè)量技術(shù)來(lái)測(cè)量雨量。紅外光學(xué)測(cè)量技術(shù)是指利用光學(xué)原理和儀器對(duì)物體的紅外輻射進(jìn)行測(cè)量、分析和處理
2023-08-11 14:50:30804 
雙光子光刻技術(shù)能夠精確制備三維結(jié)構(gòu)，并將其精準(zhǔn)集成在光電芯片上，能夠在光纖-芯片以及芯片-芯片之間，構(gòu)建大帶寬、低損耗的光信號(hào)鏈路，實(shí)現(xiàn)光信號(hào)的高效互連，降低封裝過(guò)程的對(duì)準(zhǔn)精度，給光學(xué)芯片的封裝過(guò)程帶來(lái)了全新的機(jī)遇。
2023-11-06 14:36:30487 
隨著半導(dǎo)體技術(shù)的發(fā)展，光刻技術(shù)傳遞圖形的尺寸限度縮小了2～3個(gè)數(shù)量級(jí)（從毫米級(jí)到亞微米級(jí)），已從常規(guī)光學(xué)技術(shù)發(fā)展到應(yīng)用電子束、 X射線、微離子束、激光等新技術(shù)；使用波長(zhǎng)已從4000埃擴(kuò)展到 0.1埃
2012-01-12 10:51:59
300~500nmKrF：波長(zhǎng)248.8nmArF：波長(zhǎng)193nm衍射效應(yīng)對(duì)光刻圖案的影響左圖是理想的光強(qiáng)分布，由于光的衍射效應(yīng)，實(shí)際的光強(qiáng)分布如右圖所示。當(dāng)光的波長(zhǎng)與mask的特征尺寸可比時(shí)，會(huì)產(chǎn)生明顯的衍射效應(yīng)。如上圖所示，透過(guò)mask的光相互疊加，使得不該受到光照的區(qū)域被曝光。
2014-09-26 10:35:02
。 為什么需要EUV光刻？ EUV的優(yōu)勢(shì)之一是減少了芯片處理步驟，而使用EUV代替?zhèn)鹘y(tǒng)的多重曝光技術(shù)將大大減少沉積、蝕刻和測(cè)量的步驟。目前EUV技術(shù)主要運(yùn)用在邏輯工藝制程中，這導(dǎo)致了2019年訂單
2020-07-07 14:22:55
文章編號(hào)：1003-353X(2005)06-0032-051 引言作為微電子技術(shù)核心的集成電路制造技術(shù)是電子工業(yè)的基礎(chǔ)，其發(fā)展更新的速度是其他產(chǎn)業(yè)無(wú)法企及的。在集成電路制作過(guò)程中，光刻是其關(guān)鍵工藝[1
2018-08-23 11:56:31
光學(xué)3D表面輪廓儀是基于白光干涉技術(shù)，結(jié)合精密Z向掃描模塊、3D 建模算法等快速、準(zhǔn)確測(cè)量物體表面的形狀和輪廓的檢測(cè)儀器。它利用光學(xué)投射原理，通過(guò)光學(xué)傳感器對(duì)物體表面進(jìn)行掃描，并根據(jù)反射光的信息來(lái)
2023-08-21 13:41:46
` 隨著傳感器技術(shù)、計(jì)算機(jī)應(yīng)用技術(shù)、超大規(guī)模集成電路技術(shù)和網(wǎng)絡(luò)通信技術(shù)的發(fā)展，光學(xué)測(cè)徑儀被廣泛的應(yīng)用于外徑檢測(cè)當(dāng)中，測(cè)徑儀隨著傳感器技術(shù)的愈加成熟，測(cè)量精度更高，測(cè)量更準(zhǔn)確，更適合現(xiàn)代化的生產(chǎn)工藝
2018-11-02 09:24:10
性化，可于不同倍率/不同光源下精密量測(cè)，知名度享譽(yù)世界及同業(yè)，且為美國(guó)第一大視覺(jué)量測(cè)制造廠?！ ?、光學(xué)影像檢測(cè)系統(tǒng)的作用 光學(xué)影像測(cè)量系統(tǒng)為現(xiàn)代制造機(jī)械的關(guān)鍵性設(shè)備，并廣泛應(yīng)用于機(jī)器視覺(jué)應(yīng)用領(lǐng)域，如
2012-08-07 22:14:19
成都力得納光科技有限公司本公司本著“誠(chéng)信，創(chuàng)新”的原則，長(zhǎng)期從事光學(xué)微結(jié)構(gòu)產(chǎn)品的研發(fā)、設(shè)計(jì)及生產(chǎn)制作 ，擁有專業(yè)的研發(fā)設(shè)計(jì)團(tuán)隊(duì)及良好的社會(huì)資源。公司承接業(yè)務(wù)范圍：光刻復(fù)制、激光直寫(xiě)、微納結(jié)構(gòu)刻蝕傳遞
2016-06-23 16:14:13
光學(xué)測(cè)試技術(shù)光學(xué)測(cè)試技術(shù)
2012-11-20 16:47:57
現(xiàn)象在 1946 年由 Frank 和 Ginzburg 從理論上給予了預(yù)言[ 1] , 隨著測(cè)試技術(shù)的進(jìn)步、測(cè)量設(shè)備的更新和加速器研制的需要, 1975 年光學(xué)渡越輻射開(kāi)始被用來(lái)測(cè)量和診斷電子束的束
2018-03-14 09:25:53
CCD光學(xué)測(cè)量系統(tǒng)原理
2012-07-20 22:57:56
在DDRx里面經(jīng)常會(huì)被一些縮寫(xiě)誤擾，如OCD、OCT和ODT，我想有同樣困擾的大有人在，今天還是繼續(xù)上一篇的關(guān)鍵技術(shù)來(lái)介紹一下大家的這些困擾吧。片外驅(qū)動(dòng)調(diào)校OCD（Off-Chip Driver
2016-08-31 11:36:41
希望使用matlab對(duì)攝像機(jī)實(shí)時(shí)獲得的圖像進(jìn)行尺寸測(cè)量，用什么模塊或者算法，跪求啊
2012-09-05 16:45:05
在PCB測(cè)量完尺寸后，留有黃色尺寸標(biāo)注，怎么讓其不顯示？
2019-05-22 02:13:51
利用CCD進(jìn)行光學(xué)測(cè)量，想知道ccd拍攝圖像的灰度值與相面上的照度和曝光時(shí)間有什么關(guān)系？知道了想灰度值、曝光時(shí)間等參數(shù)怎樣求得相面上的照度
2013-07-08 19:54:50
的關(guān)鍵。這包括使用新的材料讓沉積過(guò)程變得更為精準(zhǔn)的創(chuàng)新技術(shù)。光刻膠涂覆晶圓隨后會(huì)被涂覆光敏材料“光刻膠”（也叫“光阻”）。光刻膠也分為兩種——“正性光刻膠”和“負(fù)性光刻膠”。正性和負(fù)性光刻膠的主要
2022-04-08 15:12:41
三種常見(jiàn)的光刻技術(shù)方法根據(jù)暴光方法的不同,可以劃分為接觸式光刻,接近式光刻和投影式光刻三種光刻技術(shù)?！ 敉队笆奖┕馐抢猛哥R或反射鏡將掩膜版上的圖形投影到襯底上的暴光方法.在這種暴光方法中,由于掩膜
2012-01-12 10:56:23
測(cè)物體通過(guò)物鏡成像在CCD目標(biāo)表面上，而信號(hào)則由物鏡輸出，適當(dāng)?shù)靥幚鞢CD，提取測(cè)量對(duì)象的幾何信息，結(jié)合光學(xué)系統(tǒng)的變換特性，最后計(jì)算出測(cè)量尺寸。與普通的測(cè)量方法相比，使用CCD視覺(jué)檢測(cè)技術(shù)進(jìn)行測(cè)量
2021-04-10 11:38:28
什么是光學(xué)模數(shù)轉(zhuǎn)換器？光學(xué)模數(shù)轉(zhuǎn)換器的主要技術(shù)指標(biāo)光學(xué)模數(shù)轉(zhuǎn)換器的研究進(jìn)展光學(xué)模數(shù)轉(zhuǎn)換器的應(yīng)用
2021-04-20 06:52:52
什么是RF MEMS？有哪些關(guān)鍵技術(shù)與器件？微電子機(jī)械系統(tǒng)(MicroElectroMechanicalSystem)，簡(jiǎn)稱MEMS，是以微電子技術(shù)為基礎(chǔ)而興起發(fā)展的，以硅、砷化鎵、藍(lán)寶石等為襯底
2019-08-01 06:17:43
，小米9pro，oppo Reno3以及vivo X30）分別采用了什么芯片？ 3協(xié)同通信的方式有哪些？ 4大數(shù)據(jù)及認(rèn)知無(wú)線電（名詞解釋） 4半導(dǎo)體工藝的4個(gè)主要步驟： 4簡(jiǎn)敘半導(dǎo)體光刻技術(shù)基本原理 4給出4個(gè)全球著名的半導(dǎo)體設(shè)備制造商并指出其生產(chǎn)的設(shè)備核心技術(shù)： 5衛(wèi)
2021-07-26 08:31:09
中國(guó)科學(xué)院大學(xué)（以下簡(jiǎn)稱國(guó)科大）微電子學(xué)院是國(guó)家首批支持建設(shè)的示范性微電子學(xué)院，國(guó)科大微電子學(xué)院開(kāi)設(shè)的《集成電路先進(jìn)光刻技術(shù)與版圖設(shè)計(jì)優(yōu)化》課程是國(guó)內(nèi)少有的研究討論光刻技術(shù)的研究生課程，而開(kāi)設(shè)課程
2021-10-14 09:58:07
尺寸測(cè)量儀適用于哪些零部件？
1、圖像尺寸測(cè)量儀適用于各類機(jī)械零部件。
采用機(jī)器視覺(jué)技術(shù)，結(jié)合高精度圖像分析算法，并融入一鍵閃測(cè)原理。
不管是金屬制品還是塑料制品，無(wú)論是復(fù)雜的結(jié)構(gòu)零部件還是簡(jiǎn)單
2023-09-11 16:44:36
光電容積脈搏波描記術(shù)（Photoplethysmography，PPG）是一種用于心率監(jiān)測(cè)儀（HRM）和外周毛細(xì)血管氧飽和度（SpO2）測(cè)量的流行光學(xué)技術(shù)。它簡(jiǎn)易方便，因?yàn)橹恍鑼ED和光電探測(cè)器（PD）連接到身體上即可。
2019-08-02 06:48:17
微型光學(xué)***模組，集感應(yīng)測(cè)量光路、微型機(jī)械構(gòu)造和數(shù)字/模擬微電子集成電路于一體，是高度微型化的機(jī)電一體化人機(jī)輸入模塊，其核心技術(shù)是光學(xué)***OFN（Optical Finger
2020-03-10 07:49:47
求一款大尺寸LCD光學(xué)量測(cè)系統(tǒng)的應(yīng)用方案
2021-06-01 07:14:32
系統(tǒng)，被測(cè)物體通過(guò)物鏡成像在CCD目標(biāo)表面上，而信號(hào)則由物鏡輸出，適當(dāng)?shù)靥幚鞢CD，提取測(cè)量對(duì)象的幾何信息，結(jié)合光學(xué)系統(tǒng)的變換特性，最后計(jì)算出測(cè)量尺寸。那么深圳CCD視覺(jué)檢測(cè)技術(shù)在測(cè)量時(shí)有哪些優(yōu)點(diǎn)？相信
2021-08-31 15:03:04
【作者】：王艷茹;李斌成;劉明強(qiáng);【來(lái)源】：《強(qiáng)激光與粒子束》2010年02期【摘要】：采用格林函數(shù)法,考慮徑向邊界條件和對(duì)流熱損失,理論上求解了有限尺寸高反射光學(xué)元件在激光作用下的熱傳導(dǎo)方程
2010-04-22 11:40:34
耳塞式光學(xué)心率測(cè)量
2021-01-21 06:56:41
我想使用 L6474 STATUS 寄存器的 OCD 標(biāo)志來(lái)檢測(cè)步進(jìn)電機(jī)受阻時(shí)機(jī)構(gòu)運(yùn)動(dòng)的結(jié)束。但是我們?cè)谶@樣做時(shí)遇到了一些麻煩。如果 OCD_TH 中的電流小于 TVAL 中的電流，則在運(yùn)動(dòng)開(kāi)始時(shí)
2022-12-07 07:54:35
期間內(nèi)外良好的光學(xué)對(duì)準(zhǔn)性。 光譜-物理獨(dú)特的腔外倍頻技術(shù)是全固體Q激光里面的最高品質(zhì)。另外激光器關(guān)鍵器件諸如泵浦二極管、光纖、shutter、輸出窗口等是可以簡(jiǎn)單的現(xiàn)場(chǎng)維修更換的，這就使得光譜-物理
2011-12-01 11:48:46
EUV主要用于7nm及以下制程的芯片制造，光刻機(jī)作為集成電路制造中最關(guān)鍵的設(shè)備，對(duì)芯片制作工藝有著決定性的影響，被譽(yù)為“超精密制造技術(shù)皇冠上的明珠”，根據(jù)之前中芯國(guó)際的公報(bào)，目...
2021-07-29 09:36:46
投影儀、影像測(cè)量儀等在效率上難以滿足用戶的測(cè)量需求。 全自動(dòng)尺寸測(cè)量儀器將高精度遠(yuǎn)心光學(xué)鏡頭與智能化圖像處理技術(shù)相結(jié)合，并融入一鍵閃測(cè)原理，精度達(dá)到微米級(jí)
2022-06-14 15:26:37
中圖儀器基于3D光學(xué)成像測(cè)量非接觸、操作簡(jiǎn)單、速度快等優(yōu)點(diǎn)，以光學(xué)測(cè)量技術(shù)創(chuàng)新為發(fā)展基礎(chǔ)，研發(fā)出了常規(guī)尺寸光學(xué)3D測(cè)量儀、微觀尺寸光學(xué)3D測(cè)量儀、大尺寸光學(xué)3D測(cè)量儀等，能提供從納米到百米的精密測(cè)量
2023-04-21 11:32:11
GK-1000光刻掩膜版測(cè)溫儀，光刻機(jī)曝光光學(xué)系統(tǒng)測(cè)溫儀光刻機(jī)是一種用于微納米加工的設(shè)備，主要用于制造集成電路、光電子器件、MEMS（微機(jī)電系統(tǒng)）等微細(xì)結(jié)構(gòu)。光刻機(jī)是一種光學(xué)投影技術(shù)，通過(guò)將光線通過(guò)
2023-07-07 11:46:07
主要介紹了集成門極換流晶閘管(IGCT)的光刻技術(shù)。IGCT器件的光刻次數(shù)多，精度要求高，如何保證光刻質(zhì)量是關(guān)鍵。根據(jù)IGCT光刻的特點(diǎn)，從光刻機(jī)的性能、光刻膠的選用以及刻
2010-06-24 16:48:43
14 用光學(xué)技術(shù)測(cè)量三維非對(duì)稱溫度場(chǎng)
2010-07-26 15:54:4611 提要：本文討論了光學(xué)光刻中的離軸照明技術(shù)。主要從改善光刻分辨率、增大焦深、提高空間像對(duì)比度等方面對(duì)離軸照明與傳統(tǒng)照明作了比較，并用 仿真軟件進(jìn)行了模擬分析。研
2010-11-11 15:45:020 LED光學(xué)參數(shù)的測(cè)量技術(shù)和國(guó)家光度標(biāo)準(zhǔn)
2010-12-27 17:14:47115 簡(jiǎn)單的說(shuō)用一定波長(zhǎng)的波刻蝕材料就是光刻技術(shù),集成電路制造中利用光學(xué)- 化學(xué)反應(yīng)原理和化學(xué)、物理刻蝕方法，將電路圖形傳遞到單晶表面或介質(zhì)層上，形成有效圖形窗口或功能圖形
2011-09-05 11:25:085368 在當(dāng)今國(guó)內(nèi)工業(yè)中對(duì)尺寸的測(cè)量大多還是采用千分尺等落后的接觸式的方法，不但效率不高而且精確度不高。文中討論了線陣CCD用于尺寸測(cè)量的非常有效的非接觸檢測(cè)技術(shù)。本測(cè)量系統(tǒng)
2012-03-20 11:27:50153 對(duì)先進(jìn)光刻掩膜光衍射的精密EMF模擬已成為預(yù)知光刻模擬的必做工作。
2012-05-04 16:28:416685 
從第一個(gè)晶體管問(wèn)世算起，半導(dǎo)體技術(shù)的發(fā)展已有多半個(gè)世紀(jì)了，現(xiàn)在它仍保持著強(qiáng)勁的發(fā)展態(tài)勢(shì)，繼續(xù)遵循 Moore 定律即芯片集成度18個(gè)月翻一番，每三年器件尺寸縮小0.7倍的速度發(fā)展。大尺寸、細(xì)線
2017-09-29 16:57:405 OCD TMS570 CortexR4
2017-10-26 09:14:0317 光學(xué)光刻是通過(guò)廣德照射用投影方法將掩模上的大規(guī)模集成電路器件的結(jié)構(gòu)圖形畫(huà)在涂有光刻膠的硅片上，通過(guò)光的照射，光刻膠的成分發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，從而生成電路圖。限制成品所能獲得的最小尺寸與光刻系統(tǒng)能獲得
2018-04-17 16:07:4133630 光刻技術(shù)是集成電路最重要的加工工藝。在整個(gè)芯片制造工藝中，幾乎每個(gè)工藝的實(shí)施，都離不開(kāi)光刻技術(shù)。光刻也是制造芯片的最關(guān)鍵技術(shù)，占芯片制造成本的35%以上。
2018-04-22 17:54:003147 光學(xué)光刻是通過(guò)廣德照射用投影方法將掩模上的大規(guī)模集成電路器件的結(jié)構(gòu)圖形畫(huà)在涂有光刻膠的硅片上，通過(guò)光的照射，光刻膠的成分發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，從而生成電路圖。限制成品所能獲得的最小尺寸與光刻系統(tǒng)能獲得
2018-06-27 15:43:5011776 關(guān)鍵詞：光學(xué)防抖 , 模糊邏輯控制器 , 音圈馬達(dá) , 智能手機(jī) 研究機(jī)構(gòu)開(kāi)發(fā)出具有最佳補(bǔ)償效果的手抖動(dòng)信號(hào)估測(cè)算法，以及運(yùn)算負(fù)載低且易實(shí)作的模糊邏輯(Fuzzy Logic)控制器，可大幅提高
2018-12-14 22:23:01592 的新型光學(xué)及掩模襯底材料是該波段技術(shù)的主要困難。光科技束是很多學(xué)科的綜合，任何一門學(xué)科的突破就能對(duì)光刻技術(shù)的發(fā)展做出巨大貢獻(xiàn)。
2019-01-02 16:32:2323711 子站，同時(shí)利用激光跟蹤儀及相關(guān)坐標(biāo)變換算法，完成對(duì)各個(gè)CCD相機(jī)測(cè)量子站的全局標(biāo)定；各個(gè)測(cè)量子站利用立體空間球檢測(cè)技術(shù)，對(duì)局部關(guān)鍵尺寸進(jìn)行測(cè)量；同時(shí)構(gòu)建了基于小波分析的神經(jīng)網(wǎng)絡(luò)溫度誤差補(bǔ)償模型，使空間距離補(bǔ)償后的精度能達(dá)到
2019-01-03 11:10:064 光刻是集成電路最重要的加工工藝，他的作用，如同金工車間中車床的作用。在整個(gè)芯片制造工藝中，幾乎每個(gè)工藝的實(shí)施，都離不開(kāi)光刻的技術(shù)。光刻也是制造芯片的最關(guān)鍵技術(shù)，他占芯片制造成本的35%以上。在如今的科技與社會(huì)發(fā)展中，光刻技術(shù)的增長(zhǎng)，直接關(guān)系到大型計(jì)算機(jī)的運(yùn)作等高科技領(lǐng)域。
2019-02-25 10:07:535812 光刻是集成電路最重要的加工工藝，他的作用，如同金工車間中車床的作用。在整個(gè)芯片制造工藝中，幾乎每個(gè)工藝的實(shí)施，都離不開(kāi)光刻的技術(shù)。光刻也是制造芯片的最關(guān)鍵技術(shù)，他占芯片制造成本的35%以上。在如今的科技與社會(huì)發(fā)展中，光刻技術(shù)的增長(zhǎng)，直接關(guān)系到大型計(jì)算機(jī)的運(yùn)作等高科技領(lǐng)域。
2019-03-03 10:00:314088 光刻是指利用光學(xué)復(fù)制的方法把圖形印制在光敏記錄材料上，然后通過(guò)刻蝕的方法將圖形轉(zhuǎn)移到晶圓片上來(lái)制作電子電路的技術(shù)。
2020-08-13 15:09:2217949 
作為光刻工藝中最重要設(shè)備之一，光刻機(jī)一次次革命性的突破，使大模集成電路制造技術(shù)飛速向前發(fā)展。了解提高光刻機(jī)性能的關(guān)鍵技術(shù)以及了解下一代光刻技術(shù)的發(fā)展情況是十分重要的。 光刻機(jī) 光刻機(jī)（Mask
2020-08-28 14:39:0411746 
（CCL）中。而這其中包括了極紫外線（EUV）掩模的計(jì)算光刻技術(shù)軟件和5nm 生產(chǎn)精加工芯片的技術(shù)，兩條直指了對(duì)芯片的制造的封鎖。 據(jù)了解，目前受到出口管制的新興技術(shù)總數(shù)已經(jīng)達(dá)到了37項(xiàng)。美國(guó)商務(wù)部在官網(wǎng)發(fā)布公告中寫(xiě)道：此舉是為了支持關(guān)鍵及新
2020-10-27 10:49:102285 導(dǎo)讀：光刻是集成電路最重要的加工工藝，他的作用，如同金工車間中車床的作用。光刻是制造芯片的最關(guān)鍵技術(shù)，在整個(gè)芯片制造工藝中，幾乎每個(gè)工藝的實(shí)施，都離不開(kāi)光刻的技術(shù)。 光刻機(jī)的工作原理： 利用光刻
2022-12-23 13:34:547273 膠、軟烘、對(duì)準(zhǔn)曝光、后烘、顯影、硬烘、刻蝕、檢測(cè)等數(shù)十道工序才得以最終完成。 正因如此，集數(shù)學(xué)、光學(xué)、物理、化學(xué)等眾多學(xué)科技術(shù)于一身的光刻機(jī)，被稱之為半導(dǎo)體工業(yè)皇冠上的明珠，占據(jù)晶圓廠設(shè)備投資總額的約25%。 在中美關(guān)系緊
2020-11-26 16:19:192472 光刻技術(shù)的進(jìn)步使得器件的特征尺寸不斷減小，芯片的集成度和性能不斷提高。在摩爾定律的引領(lǐng)下,光學(xué)光刻技術(shù)經(jīng)歷了接觸/接近、等倍投影、縮小步進(jìn)投影、步進(jìn)掃描投影等曝光方式的變革。
2020-12-14 15:06:446628 EUV光刻機(jī)，一直是中國(guó)芯片制造無(wú)法進(jìn)一步升級(jí)的掣肘。去年9月份，時(shí)任中國(guó)科學(xué)院院長(zhǎng)白春禮公開(kāi)表態(tài)稱，將集中精力攻克光刻機(jī)難題。不到半年時(shí)間，中國(guó)科學(xué)家就在這一“卡脖子”技術(shù)取得了關(guān)鍵性突破。
2021-02-26 09:06:185287 OCD ICE 修復(fù)說(shuō)明
2022-06-26 09:46:280 對(duì)更窄間隙
尺寸和獨(dú)立于平臺(tái)的
測(cè)量解決方案的需求，
光學(xué)測(cè)量系統(tǒng)可以
測(cè)量迄今為止未知的精度，以及在汽車車身生產(chǎn)的所有階段普遍使用一個(gè)相同的
測(cè)量設(shè)備?！?/div>
2022-06-27 14:01:44626 機(jī)可以生產(chǎn)出納米尺寸更小、功能更強(qiáng)大的芯片。 小于5 nm的芯片晶片只能由EUV光刻機(jī)生產(chǎn)。 EUV光刻機(jī)有光源系統(tǒng)、光學(xué)鏡頭、雙工作臺(tái)系統(tǒng)三大核心技術(shù)。 目前，最先進(jìn)的光刻機(jī)是荷蘭ASML公司的EUV光刻機(jī)。預(yù)計(jì)在光路系統(tǒng)的幫助下，能
2022-07-10 14:35:066173 根據(jù)所使用的輻射，有不同類型的光刻方法用于曝光的:光刻(光刻)、電子束光刻、x射線光刻、光刻和離子束光刻。在光學(xué)光刻技術(shù)中，有部分不透明和部分不透明的圖案掩模(光片)半透明區(qū)域被使用。紫外線輻射或氣體激光的照射以1:1的比例完成或者以4:1或10:1的比例減少。
2022-07-27 16:54:533169 
光刻是半導(dǎo)體工藝中最關(guān)鍵的步驟之一。EUV是當(dāng)今半導(dǎo)體行業(yè)最熱門的關(guān)鍵詞，也是光刻技術(shù)。為了更好地理解 EUV 是什么，讓我們仔細(xì)看看光刻技術(shù)。
2022-10-18 12:54:053180 Technology，RET)的延伸，其關(guān)鍵技術(shù)主要包括光學(xué)成像物理仿真、光學(xué)鄰近效應(yīng)校正 (Optical Proximity Correction,OPC)、光源-掩模協(xié)同優(yōu)化 (Source-Mask Optimization， SMO） 等。三種計(jì)算光刻技術(shù)的對(duì)比見(jiàn)表。
2022-10-26 15:46:222274 介紹了測(cè)量精度為±0 .04 mm 的線陣 CCD 尺寸自動(dòng)檢測(cè)系統(tǒng)的工作原理, 著重介紹了 尺寸測(cè)量信號(hào)的提取方法, 給出了實(shí)現(xiàn)電路, 并論述了電路實(shí)現(xiàn)中的關(guān)鍵技術(shù).經(jīng)實(shí)際應(yīng)用發(fā)現(xiàn), 該電路簡(jiǎn)單、可靠、精度高, 有實(shí)用價(jià)值.
2022-11-22 17:39:020 劉世元介紹，光刻是芯片制造中最為關(guān)鍵的一種工藝，通過(guò)光刻成像系統(tǒng)，將設(shè)計(jì)好的圖形轉(zhuǎn)移到硅片上。隨著芯片尺寸不斷縮小，硅片上的曝光圖形會(huì)產(chǎn)生畸變。
2022-11-28 09:49:56690 自動(dòng)化光學(xué)測(cè)量系統(tǒng)
2022-12-05 14:45:57701 中圖儀器影像測(cè)量儀、共聚焦顯微鏡、白光干涉儀基于3D光學(xué)成像測(cè)量非接觸、操作簡(jiǎn)單、速度快等優(yōu)點(diǎn)，能提供常規(guī)尺寸光學(xué)測(cè)量儀器、微觀尺寸光學(xué)測(cè)量儀器、大尺寸光學(xué)測(cè)量儀器等精密測(cè)量解決方案！
2023-04-20 17:11:44396 
光刻技術(shù)簡(jiǎn)單來(lái)講，就是將掩膜版圖形曝光至硅片的過(guò)程，是大規(guī)模集成電路的基礎(chǔ)。目前市場(chǎng)上主流技術(shù)是193nm沉浸式光刻技術(shù)，CPU所謂30nm工藝或者22nm工藝指的就是采用該技術(shù)獲得的電路尺寸。
2023-04-25 11:02:322261 
在整個(gè)芯片制造過(guò)程中，幾乎每一道工序的實(shí)施都離不開(kāi)光刻技術(shù)。光刻技術(shù)也是制造芯片最關(guān)鍵的技術(shù)，占芯片制造成本的35%以上。
2023-04-26 08:57:031033 光學(xué)計(jì)量學(xué)是當(dāng)今制造業(yè)的關(guān)鍵技術(shù)之一。它通常可以被定義為用光進(jìn)行測(cè)量的科學(xué)，被廣泛用于評(píng)估產(chǎn)品（或其某些部件或組件）的物理特性
2023-04-28 11:19:101022 
葉片是發(fā)動(dòng)機(jī)關(guān)鍵零件，屬于薄壁易變形零件。如何控制其變形并高效、高質(zhì)量地加工是目前葉片制造行業(yè)研究的重要課題之一。 為了確保發(fā)動(dòng)機(jī)葉片的質(zhì)量和可靠性，需要使用高精度的測(cè)量技術(shù)進(jìn)行檢測(cè)。下面將介紹
2023-05-23 10:45:02468 
中圖儀器VX系列閃測(cè)儀采用雙遠(yuǎn)心高分辨率光學(xué)鏡頭對(duì)圖像進(jìn)行捕捉，結(jié)合高精度圖像分析算法，精準(zhǔn)測(cè)量出電機(jī)沖片所有尺寸。VX系列閃測(cè)儀顛覆傳統(tǒng)測(cè)量模式，開(kāi)創(chuàng)快速影像尺寸測(cè)量時(shí)代，只需一鍵，瞬間測(cè)量電機(jī)沖片所有尺寸，繁瑣的測(cè)量任務(wù)變得無(wú)比輕松。
2021-11-02 10:15:30651 
除了常見(jiàn)的尺寸測(cè)量儀器，近些年又出現(xiàn)了一種新型的測(cè)量儀器——閃測(cè)儀，也叫一鍵式測(cè)量儀和圖像尺寸測(cè)量儀，VX3000系列閃測(cè)儀采用雙遠(yuǎn)心高分辨率光學(xué)鏡頭，結(jié)合高精度圖像分析算法，并融入一鍵閃測(cè)原理。只需按下啟動(dòng)鍵，儀器即可實(shí)現(xiàn)一鍵式快速精準(zhǔn)測(cè)量。
2021-11-08 16:55:121521 
VX3000系列圖像尺寸測(cè)量儀具有測(cè)量范圍更大、承重更高、并可擴(kuò)展高度測(cè)量等優(yōu)勢(shì)。可以滿足各類零部件輪廓尺寸快速測(cè)量需求，工件無(wú)需定位，任意擺放，一鍵完成二維平面尺寸測(cè)量，搭載光學(xué)非接觸式測(cè)頭實(shí)現(xiàn)高度尺寸、平面度等參數(shù)的精密快速測(cè)量。
2022-09-20 15:04:27770 
。照明系統(tǒng)是光刻機(jī)的重要組成部分，其主要作用是提供高均勻性照明、控制曝光劑量和實(shí)現(xiàn)離軸照明，以提高光刻分辨率和增大焦深。論文以深紫外光刻照明系統(tǒng)光學(xué)設(shè)計(jì)為研究方向，對(duì)照明系統(tǒng)關(guān)鍵單元進(jìn)行了光學(xué)設(shè)計(jì)與仿真研究。
2023-07-17 11:02:38592 
閃測(cè)儀是一種常用的測(cè)量工具，可用于測(cè)量工件的尺寸。它是一種利用圖像處理、數(shù)據(jù)分析等技術(shù)進(jìn)行尺寸測(cè)量的儀器。具有的高精度測(cè)量能力，能夠準(zhǔn)確地測(cè)量工件的長(zhǎng)度、寬度、高度等尺寸參數(shù)。儀器具有高精度、高效率
2023-08-15 10:31:45628 
光學(xué)光刻是通過(guò)廣德照射用投影方法將掩模上的大規(guī)模集成電路器件的結(jié)構(gòu)圖形畫(huà)在涂有光刻膠的硅片上，通過(guò)光的照射，光刻膠的成分發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，從而生成電路圖。限制成品所能獲得的最小尺寸與光刻系統(tǒng)能獲得的分辨率直接相關(guān)，而減小照射光源的波長(zhǎng)是提高分辨率的最有效途徑。
2023-10-24 11:43:15271 
基礎(chǔ)和重要的項(xiàng)目。目前常用的微結(jié)構(gòu)表面形貌測(cè)量方法分為接觸式和非接觸式。運(yùn)用非接觸式測(cè)量技術(shù)的3D光學(xué)檢測(cè)儀器，大多是基于光學(xué)方法（干涉顯微法、自動(dòng)聚焦法、激光干涉法、光學(xué)顯微干涉法等），可對(duì)精密零部件
2023-07-06 13:24:240 電蜂優(yōu)選工程師說(shuō)道測(cè)量M12線束的尺寸是確保插頭與相應(yīng)的測(cè)量設(shè)備或接口兼容的關(guān)鍵任務(wù)。尺寸測(cè)量包括測(cè)量插頭的長(zhǎng)度、直徑、螺紋規(guī)格、引腳間距等參數(shù)。
2023-11-02 14:09:22499 
光學(xué)測(cè)量儀器結(jié)合鏡頭防撞保護(hù)技術(shù)、精密雙重隔振技術(shù)以及環(huán)境噪聲評(píng)價(jià)技術(shù)，具有高精度、自動(dòng)化程度高、實(shí)時(shí)反饋和范圍廣等優(yōu)勢(shì)，可以實(shí)現(xiàn)自動(dòng)化測(cè)量和高效調(diào)整，可對(duì)精密零部件的表面粗糙度、微小形貌輪廓及尺寸實(shí)現(xiàn)微納級(jí)測(cè)量
2023-11-30 09:13:110 PCB外形尺寸全檢的神器-VX9000系列光學(xué)掃描成像測(cè)量機(jī)，獲得了客戶的廣泛認(rèn)可和一致好評(píng)。VX9000系列光學(xué)掃描成像測(cè)量機(jī)以光學(xué)成像測(cè)量系統(tǒng)為基礎(chǔ)，配合高精度運(yùn)
2023-12-01 08:08:15156 
傳統(tǒng)的幾何尺寸測(cè)量儀器設(shè)備包括千分尺、角度尺、游標(biāo)卡尺等，這些儀器能夠滿足一般的幾何量測(cè)量需求。但是隨著科技的發(fā)展，越來(lái)越多高精度測(cè)量儀器被應(yīng)用于幾何量測(cè)量領(lǐng)域。從納米級(jí)光學(xué)3D表面輪廓儀通過(guò)光學(xué)
2023-12-26 17:16:39361 
光學(xué)三維測(cè)量技術(shù)是一種重要的非接觸式測(cè)量方法，廣泛應(yīng)用于工程、制造、設(shè)計(jì)等領(lǐng)域。
2024-02-22 10:40:42277 閃測(cè)儀可以快速完成尺寸測(cè)量，一鍵即可測(cè)量二維平面尺寸測(cè)量，或是搭載光學(xué)非接觸式測(cè)頭實(shí)現(xiàn)高度尺寸、平面度等參數(shù)的精密快速測(cè)量。不僅能夠大大提高測(cè)量效率，還能減少人為因素對(duì)測(cè)量結(jié)果的影響，保證測(cè)量的準(zhǔn)確性和穩(wěn)定性。
2024-02-26 13:40:0197 
采集卡、圖像處理軟件等組件構(gòu)成。閃測(cè)儀就是利用先進(jìn)的光學(xué)原理和圖像處理技術(shù)，高速獲取并分析產(chǎn)品的尺寸信息。中圖閃測(cè)儀基于機(jī)器視覺(jué)的自動(dòng)測(cè)量技術(shù)，采用雙遠(yuǎn)心高分辨率光
2024-03-04 13:40:010 PCB外形尺寸全檢的神器-VX9000系列光學(xué)掃描成像測(cè)量機(jī)，獲得了客戶的廣泛認(rèn)可。 VX9000系列光學(xué)掃描成像測(cè)量機(jī)以光學(xué)成像測(cè)量系統(tǒng)為基礎(chǔ)，配合高精度
2023-12-01 09:29:55
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