了光刻劑。但重大挑戰(zhàn)仍然存在，部分原因是去除率不足以首先在半導(dǎo)體制造業(yè)中使用微氣泡。因此，我們需要通過明確了解微氣泡去除光刻抗蝕劑層的功能機制，來提高微氣泡的去除能力。本研究的目的是闡明微氣泡對光刻膠層表面的影響。
2022-01-10 11:37:13
1396 
光刻膠為何要謀求國產(chǎn)替代？中國國產(chǎn)光刻膠企業(yè)的市場發(fā)展機會和挑戰(zhàn)如何？光刻膠企業(yè)發(fā)展要具備哪些核心競爭力？在南京半導(dǎo)體大會期間，徐州博康公司董事長傅志偉和研發(fā)總監(jiān)潘新剛給我們帶來前沿觀點和獨家分析。
2022-08-29 15:02:235918 
傳統(tǒng)硅半導(dǎo)體因自身發(fā)展侷限和摩爾定律限制，需尋找下一世代半導(dǎo)體材料，化合物半導(dǎo)體材料是新一代半導(dǎo)體發(fā)展的重要關(guān)鍵嗎？
2019-04-09 17:23:3510156 電子發(fā)燒友原創(chuàng) 章鷹 ? 近日，全球半導(dǎo)體市場規(guī)模增長帶動了上游半導(dǎo)體材料旺盛需求，“光刻膠”的突破也成為國內(nèi)關(guān)注焦點。正當日本光刻膠企業(yè)JSR、東京應(yīng)化和美國Lam Research在EUV光刻膠
2022-08-31 07:45:002718 電子發(fā)燒友網(wǎng)報道（文/周凱揚）在上游的半導(dǎo)體制造產(chǎn)業(yè)中，除了光刻機等設(shè)備外，光刻膠、掩膜版等材料也是決定晶圓質(zhì)量與良率的關(guān)鍵因素。就拿掩膜版來說，這個承載設(shè)計圖形的材料，經(jīng)過曝光后將圖形信息轉(zhuǎn)移到
2023-06-22 01:27:001985 我國車聯(lián)網(wǎng)的發(fā)展現(xiàn)狀是怎樣的？未來的發(fā)展機遇有哪些？車聯(lián)網(wǎng)是近年來很熱的一個話題，雖然我國車聯(lián)網(wǎng)還處在探索發(fā)展期，但是很多人對車聯(lián)網(wǎng)的發(fā)展充滿信心，認為我國車聯(lián)網(wǎng)市場潛力大，將在未來幾年迎來黃金期
2018-01-23 16:17:31
一、光刻膠的選擇光刻膠包括兩種基本的類型：正性光刻和負性光刻，區(qū)別如下
2021-01-12 10:17:47
，之后經(jīng)過物鏡投射到曝光臺，這里放的就是8寸或者12英寸晶圓，上面涂抹了光刻膠，具有光敏感性，紫外光就會在晶圓上蝕刻出電路?！ 《す馄髫撠煿庠串a(chǎn)生，而光源對制程工藝是決定性影響的，隨著半導(dǎo)體工業(yè)節(jié)點
2020-07-07 14:22:55
改進；廣泛應(yīng)用于全球半導(dǎo)體行業(yè)。光刻膠產(chǎn)品型號及參數(shù)[tr=transparent]光刻膠名稱型號勻膠厚度規(guī)格[/tr][tr=transparent]Merck AZ 正/負可轉(zhuǎn)換型光刻膠AZ
2018-07-12 11:57:08
]。光刻膠涂覆在半導(dǎo)體、導(dǎo)體和絕緣體上，經(jīng)曝光顯影后留下的部分對底層起保護作用，然后采用超凈高純試劑進行蝕刻，從而完成了將掩膜版圖形轉(zhuǎn)移到底層上的圖形轉(zhuǎn)移過程。一個IC的制造一般需要經(jīng)過10多次圖形轉(zhuǎn)移
2018-08-23 11:56:31
光刻膠也稱為光致抗蝕劑，是一種光敏材料，它受到光照后特性會發(fā)生改變。光刻膠主要用來將光刻掩膜版上的圖形轉(zhuǎn)移到晶圓片上。光刻膠有正膠和負膠之分。正膠經(jīng)過曝光后，受到光照的部分變得容易溶解，經(jīng)過顯影后被
2019-11-07 09:00:18
這是我的版圖一部分，然后生成了圖案是這樣的： 感覺間距小的地方全都有殘留，間距大的地方?jīng)]有殘留；工藝參數(shù)：s9920光刻膠， evg 620‘未進行蒸汽底漆層涂覆，前烘：100攝氏度，90s
2016-11-29 14:59:18
半導(dǎo)體光刻蝕工藝
2021-02-05 09:41:23
天線：MassiveMIMO和新材料將應(yīng)用5G封測：各大封測廠積極備戰(zhàn)5G芯片化合物半導(dǎo)體迎來新機遇電磁屏蔽、導(dǎo)熱材料獲得新市場空間
2020-12-30 06:01:41
半導(dǎo)體材料市場構(gòu)成：在半導(dǎo)體材料市場構(gòu)成方面，大硅片占比最大，占比為32.9%。其次為氣體，占比為14.1%，光掩膜排名第三，占比 為12.6%，其后：分別為拋光液和拋光墊、光刻膠配套試劑、光刻膠、濕化學品、建設(shè)靶材，比分別為7.2%、6.9%、 6.1%、4%和3%。
2021-01-22 10:48:36
半導(dǎo)體材料從發(fā)現(xiàn)到發(fā)展，從使用到創(chuàng)新，擁有這一段長久的歷史。宰二十世紀初，就曾出現(xiàn)過點接觸礦石檢波器。1930年，氧化亞銅整流器制造成功并得到廣泛應(yīng)用，是半導(dǎo)體材料開始受到重視。1947年鍺點接觸三極管制成，成為半導(dǎo)體的研究成果的重大突破。
2020-04-08 09:00:15
好像***最近去英國還專程看了華為英國公司的石墨烯研究，搞得國內(nèi)好多石墨烯材料的股票大漲，連石墨烯內(nèi)褲都跟著炒作起來了~~小編也順應(yīng)潮流聊聊半導(dǎo)體材料那些事吧。
2019-07-29 06:40:11
(個別的第三位)能存活下來。對于全球設(shè)備制造商最關(guān)鍵的問題是兼并市場的回報率太低。產(chǎn)業(yè)的發(fā)展實際上不存在帶強制性理由,以及不會無故的把錢送至您手中。預(yù)計在未來半導(dǎo)體設(shè)備業(yè)中可能有兩個領(lǐng)域會產(chǎn)生強勁
2010-02-26 14:52:33
之一摩爾曾在1965年作出預(yù)言：半導(dǎo)體將會得到高速發(fā)展，電子學會隨之獲得廣泛的普及，滲透到寬廣的應(yīng)用領(lǐng)域中。從半個世紀之后再往回看，這一預(yù)言早已得到了完美印證。雖然光纖激光器優(yōu)勢市場潛力很大，不過
2019-05-13 05:50:35
FPGA的發(fā)展現(xiàn)狀如何?賽靈思推出的領(lǐng)域目標設(shè)計平臺如何簡化設(shè)計、縮短開發(fā)時間？
2021-04-08 06:18:44
半導(dǎo)體制造領(lǐng)域的標志：NR9-PY 系列負性光刻膠，適用于lift-off工藝；具有高效粘附性，高反應(yīng)速度并耐高溫性能好。 NR71-PY 系列 負性光刻膠，適用于lift-off工藝，耐高溫性能好
2010-04-21 10:57:46
寬禁帶半導(dǎo)體材料氮化鎵（GaN）以其良好的物理化學和電學性能成為繼第一代元素半導(dǎo)體硅（Si）和第二代化合物半導(dǎo)體砷化鎵（GaAs）、磷化鎵（GaP）、磷化銦（InP）等之后迅速發(fā)展起來的第三代半導(dǎo)體
2019-06-25 07:41:00
SU 8光刻膠系列產(chǎn)品簡介：新型的化學增幅型負像 SU- 8 膠是一種負性、環(huán)氧樹脂型、近紫外線光刻膠，克服了普通光刻膠采用 UV光刻導(dǎo)致的深寬比不足的問題，十分適合于制備高深寬比微結(jié)構(gòu)。SU- 8
2018-07-04 14:42:34
還改變了濕蝕刻輪廓GaAs 與沒有表面處理的晶片相比，反應(yīng)限制蝕刻更具各向同性；簡介 光刻膠的附著力對濕蝕刻的結(jié)果以及隨后的電氣和光學器件的產(chǎn)量起著關(guān)鍵作用。有許多因素會影響光刻膠對半導(dǎo)體襯底的粘附
2021-07-06 09:39:22
工藝步驟：光刻：通過在晶片表面涂上均勻的薄薄一層粘性液體（光刻膠）來定義圖案的過程。光刻膠通過烘烤硬化，然后通過光穿過包含掩模信息的掩模版進行投射而選擇性地去除。蝕刻：從晶片表面選擇性地去除不需要的材料
2021-07-08 13:13:06
的關(guān)鍵。這包括使用新的材料讓沉積過程變得更為精準的創(chuàng)新技術(shù)。光刻膠涂覆晶圓隨后會被涂覆光敏材料“光刻膠”（也叫“光阻”）。光刻膠也分為兩種——“正性光刻膠”和“負性光刻膠”。正性和負性光刻膠的主要
2022-04-08 15:12:41
中國功率器件市場發(fā)展現(xiàn)狀:功率器件包括功率 IC 和功率分立器件，功率分立器件則主要包括功率MOSFET、大功率晶體管和IGBT 等半導(dǎo)體器件，功率器件幾乎用于所有的電子制造業(yè)，所應(yīng)用的產(chǎn)品包括
2009-09-23 19:36:41
當今的半導(dǎo)體行業(yè)正在經(jīng)歷翻天覆地的變化，這主要是由于終端市場需求變化和重大整合引起。幾十年前，業(yè)內(nèi)有許多家射頻公司，它們多半活躍于相同的市場，如今這種局面已被全新的市場格局所取代 - 有多個新興市場出現(xiàn)，多家硅谷公司與傳統(tǒng)芯片制造商進行重大兼并和收購。究竟有哪些因素推動著市場格局不斷變化？
2019-09-02 07:55:41
應(yīng)用產(chǎn)品,并配合國外廠商的技術(shù)支持,共同開發(fā)適合半導(dǎo)體及光電產(chǎn)業(yè)使用的各式探針及檢測耗材,主要產(chǎn)品有：LED耗材、LED鍍鍋、蒸鍍機耗材料、電子槍耗材、聚昌(AST)配件、愛發(fā)科(ULVAC)配件秀
2008-08-27 10:18:39
全球FPGA市場現(xiàn)狀和發(fā)展前景展望
當今，半導(dǎo)體市場格局已成三足鼎立之勢，F(xiàn)PGA，ASIC和ASSP三分天下。市場統(tǒng)計數(shù)據(jù)表明，F(xiàn)PGA已經(jīng)逐步侵蝕ASIC和ASSP的傳統(tǒng)市場，并處于快速增長階段
2023-11-08 17:19:01
全是海外企業(yè)，市場份額高達 60%以上，我國功率半導(dǎo)體國產(chǎn)替代進程目前仍然處于初步階段。圖：全球功率器件需求按區(qū)域分布占比來源：IDC，東興證券研究所圖：全球功率半導(dǎo)體市場格局來源：IHS Markit
2022-11-11 11:50:23
當今的半導(dǎo)體行業(yè)正在經(jīng)歷翻天覆地的變化，這主要是由于終端市場需求變化和重大整合引起。幾十年前，業(yè)內(nèi)有許多家射頻公司，它們多半活躍于相同的市場，如今這種局面已被全新的市場格局所取代 - 有多個新興市場出現(xiàn)，多家硅谷公司與傳統(tǒng)芯片制造商進行重大兼并和收購。究竟有哪些因素推動著市場格局不斷變化？
2021-01-15 07:46:30
噴膠機是現(xiàn)代光電子產(chǎn)業(yè)中光刻膠涂布的重要設(shè)備。可對不同尺寸和形狀的基片進行涂膠，最大涂膠尺寸達8寸，得到厚度均勻的光刻膠層，同時可對大深寬比結(jié)構(gòu)的側(cè)壁進行均勻涂膠；通過計算機系統(tǒng)控制器進行工藝參數(shù)的編輯和操作。
2020-03-23 09:00:57
材料(單晶硅、多晶硅)產(chǎn)能嚴重不足，這已嚴重制約了我國半導(dǎo)體行業(yè)、太陽能電池行業(yè)的發(fā)展，未來幾年，國家將加大這方面的投入，這將為我們的國產(chǎn)材料制備設(shè)備，如單晶爐、多線切割機、磨拋設(shè)備等提供廣闊的市場空間
2008-08-16 23:05:04
嵌入式系統(tǒng)開源軟件發(fā)展現(xiàn)狀如何？
2021-04-26 06:23:33
兩個國家都處在半導(dǎo)體的關(guān)鍵地位。其中，韓國位于半導(dǎo)體技術(shù)俯沖帶，在存儲器、面板等領(lǐng)域投資力度巨大，日本是產(chǎn)業(yè)鏈上的核心技術(shù)節(jié)點，半導(dǎo)體材料、機械設(shè)備都首屈一指。 在以上領(lǐng)域中，大家更關(guān)注存儲器以及上游
2020-02-27 10:45:14
音頻信號是什么？音頻編碼技術(shù)分為哪幾類？音頻編碼技術(shù)有哪些應(yīng)用？音頻編碼標準發(fā)展現(xiàn)狀如何？數(shù)字音頻編碼技術(shù)有怎樣的發(fā)展趨勢？
2021-04-14 07:00:14
汽車用基礎(chǔ)電子元器件發(fā)展現(xiàn)狀如何？國內(nèi)汽車用基礎(chǔ)電子元器件發(fā)展現(xiàn)狀如何？汽車用基礎(chǔ)電子元器件發(fā)展趨勢是什么？
2021-05-17 06:27:16
淺析變頻器發(fā)展現(xiàn)狀和趨勢（原文鏈接）變頻器：利用電力半導(dǎo)體器件的通斷作用將工頻電源變換為另一頻率的電能控制裝置。其作用對象主要是電動機。分類：交—交（頻率電壓可變）、交—直—交（整流、逆變）性能優(yōu)劣
2021-09-03 06:40:59
(etching) 經(jīng)過上述工序后，以復(fù)制到光刻膠上的集成電路的圖形作為掩模，對下層的材料進行腐蝕。腐蝕技術(shù)是利用化學腐蝕法把材料的某一部分去除的技術(shù)。腐蝕技術(shù)分為兩大類：濕法腐蝕—進行腐蝕的化學物質(zhì)是溶液；干法
2019-08-16 11:11:34
掩膜圖案的關(guān)鍵步驟?！ 《渲校€涉及到的材料就是光刻膠，我們要知道電路設(shè)計圖首先通過激光寫在光掩模板上，然后光源通過掩模板照射到附有光刻膠的硅片表面，引起曝光區(qū)域的光刻膠發(fā)生化學效應(yīng)，再通過顯影
2020-07-07 11:36:10
的安全可靠性，提升國際競爭力，防止電磁脈沖武器的打擊，確保信息通信系統(tǒng)、網(wǎng)絡(luò)系統(tǒng)、傳輸系統(tǒng)、武器平臺等的安全暢通均具有重要的意義1_ 。鑒于電磁屏蔽材料在社會生活、經(jīng)濟建設(shè)和國防建設(shè)中的重要作用，其研發(fā)愈發(fā)成為人們關(guān)注的重要課題。那么電磁屏蔽材料發(fā)展現(xiàn)狀如何了？該怎么應(yīng)用？
2019-07-30 06:26:57
151n光刻膠曝光顯影后開口底部都會有一撮殘留，找不到原因。各位幫分析下
2023-04-20 13:13:52
，元素半導(dǎo)體指硅、鍺單一元素形成的半導(dǎo)體，化合物指砷化鎵、磷化銦等化合物形成的半導(dǎo)體。隨著無線通信的發(fā)展，高頻電路應(yīng)用越來越廣，今天我們來介紹適合用于射頻、微波等高頻電路的半導(dǎo)體材料及工藝情況。
2019-06-27 06:18:41
、半導(dǎo)體、超純水、電子產(chǎn)品、平板玻璃、硅晶片、等產(chǎn)品進行在線顆粒監(jiān)測和分析。產(chǎn)品優(yōu)勢：離線優(yōu)勢：PMT-2離線光刻膠微粒子計數(shù)器外接離線取樣裝置，可實現(xiàn)實驗室、工廠
2022-12-14 10:44:24
PMT-2在線光刻膠液體粒子計數(shù)器，采用英國普洛帝核心技術(shù)創(chuàng)新型的第八代雙激光窄光顆粒檢測傳感器，雙精準流量控制-精密計量柱塞泵和超精密流量電磁控制系統(tǒng)，可以對清洗劑、半導(dǎo)體、超純水
2023-01-03 15:54:49
西安半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)發(fā)展現(xiàn)狀與建議:西安作為我國重要的半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)基地之一，在半導(dǎo)體人才培養(yǎng)、基礎(chǔ)研究、技術(shù)應(yīng)用等領(lǐng)域具有顯著優(yōu)勢?！笆濉逼陂g，國家在西安先后批準設(shè)立
2009-12-14 09:24:06
25 這是一種老式的旋轉(zhuǎn)涂膠機，將芯片上涂上光刻膠然后將芯片放到上邊，可以通過機器的旋轉(zhuǎn)的力度將光刻膠均勻分布到芯片表面，光刻膠只有均勻涂抹在芯片表面，才能保證光刻的成功。
2018-05-17 14:39:3718498 本文首先介紹了SiC功率半導(dǎo)體器件技術(shù)發(fā)展現(xiàn)狀及市場前景，其次闡述了SiC功率器件發(fā)展中存在的問題，最后介紹了SiC功率半導(dǎo)體器件的突破。
2018-05-28 15:33:5410899 
那么，半導(dǎo)體制造的關(guān)鍵原材料有哪些？半導(dǎo)體設(shè)備由哪些廠商占領(lǐng)？我國半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)發(fā)展現(xiàn)狀如何？下面小編就這些問題做了相關(guān)梳理，一窺半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的現(xiàn)狀。
2018-06-07 14:12:3716561 
半導(dǎo)體材料主要用于前端（晶圓制造）和后端（封裝），其占比約為6：4。前端材料包括硅晶圓、光掩膜、光刻膠、光刻膠輔助材料、濕化學品、氣體、濺射靶材料、化學機械拋光（CMP）漿、研磨墊和一些新材料
2019-01-18 17:43:224871 
在國家政策與市場的雙重驅(qū)動下，近年來，國內(nèi)企業(yè)逐步向面板、半導(dǎo)體光刻膠發(fā)力……
2019-04-23 16:15:3612831 
近日，日本對韓國進行出口限制，光刻膠材料赫然在列。
2019-07-15 09:28:493498 恒坤新材料是國內(nèi)率先實現(xiàn)量供集成電路超高純前驅(qū)體和高端光刻膠的企業(yè)，已成為國內(nèi)多家高端芯片企業(yè)的材料供應(yīng)商。前驅(qū)體和高端光刻膠是企業(yè)目前的兩大拳頭產(chǎn)品，填補了國內(nèi)半導(dǎo)體先進電子材料的空白。
2019-10-12 14:50:442681 在國際半導(dǎo)體領(lǐng)域，我國雖已成為半導(dǎo)體生產(chǎn)大國，但整個半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈仍比較落后。特別是由于國內(nèi)光刻膠廠布局較晚，半導(dǎo)體光刻膠技術(shù)相較于海外先進技術(shù)差距較大，國產(chǎn)化不足5%。在這種條件下，國內(nèi)半導(dǎo)體廠商積極開展研究，如晶瑞股份的KrF光刻膠，南大光電的ArF光刻膠均取得較好的研究效果。
2020-03-06 15:40:564165 我國半導(dǎo)體工業(yè)中，下游設(shè)計已經(jīng)能夠進入全球第一梯隊，中游晶圓制造也在迎頭趕上，而上游設(shè)備及材 料領(lǐng)域與海外龍頭仍存在較大差距。以半導(dǎo)體材料中技術(shù)難度最大的光刻膠為例， i 線/g 線光刻膠的產(chǎn)業(yè)化
2020-06-08 15:38:212936 光刻膠按應(yīng)用領(lǐng)域分類，大致分為LCD光刻膠、PCB光刻膠（感光油墨）與半導(dǎo)體光刻膠等。按照下游應(yīng)用來看，目前LCD光刻膠占比26．6%，刻膠占比24．5%，半導(dǎo)體光刻膠占比24．1%，PCB光其他類光刻膠占比24．8%。
2020-06-12 17:13:395380 半導(dǎo)體材料是半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈的重要支撐產(chǎn)業(yè)，按應(yīng)用環(huán)節(jié)劃分為晶圓制造材料和封裝材料。整個半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈主要包括IC的設(shè)計、晶圓制造以及封裝測試等環(huán)節(jié)，半導(dǎo)體材料主要應(yīng)用在集成電路的制造和封裝測試等領(lǐng)域
2020-08-31 11:39:426349 
等光刻工序?qū)⑺枰奈⒓殘D形從光罩（掩模版）轉(zhuǎn)移到待加工基片上。依據(jù)使用場景，這里的待加工基片可以是集成電路材料，顯示面板材料或者印刷電路板。 據(jù)第三方機構(gòu)智研咨詢統(tǒng)計，2019年全球光刻膠市場規(guī)模預(yù)計近90億美元，
2020-09-15 14:00:1416535 全球光刻膠市場規(guī)模從2016 年的15 億美元增長至2019年的18億美元，年復(fù)合增長率達6.3%；應(yīng)用方面，光刻膠主要應(yīng)用在PCB、半導(dǎo)體及LCD顯示等領(lǐng)域，各占約25%市場份額。
2020-09-21 11:28:043290 
小編說：隨著中國經(jīng)濟的發(fā)展和現(xiàn)代化、信息化的建設(shè)，我國已成為帶動全球半導(dǎo)體市場增長的主要動力，多年來市場需求保持快速增長。 今天小編給大家?guī)淼氖羌⒕W(wǎng)首席分析師韓曉敏《中國半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)發(fā)展現(xiàn)狀
2020-10-10 11:33:158601 
全球光刻膠市場規(guī)模從2016 年的15 億美元增長至2019年的18億美元，年復(fù)合增長率達6.3%；應(yīng)用方面，光刻膠主要應(yīng)用在PCB、半導(dǎo)體及LCD顯示等領(lǐng)域，各占約25%市場份額。 國內(nèi)光刻膠整體
2020-10-10 17:40:252957 光刻膠是由感光樹脂、增感劑和溶劑三種主要成份組成的、對光敏感的混合液體。利用光化學反應(yīng)，經(jīng)曝光、顯影、刻蝕等工藝將所需要的微細圖形從掩模版轉(zhuǎn)移到待加工基片上的圖形轉(zhuǎn)移介質(zhì)，其中曝光是通過紫外光
2022-12-06 14:53:541238 數(shù)百道工藝的層層打磨，一顆嶄新的芯片才正式誕生。 而芯片制造所需的關(guān)鍵設(shè)備就是光刻機，但是我們今天不談光刻機，我們要來聊一聊光刻機中最重要的材料光刻膠。 光刻膠又稱為光致抗蝕劑，它是一種對光敏感的有機化合物，受紫外光曝
2020-11-14 09:36:575407 
近兩年來，芯片制造成為了半導(dǎo)體行業(yè)發(fā)展的焦點。芯片制造離不開光刻機，而光刻技術(shù)則是光刻機發(fā)展的重要推動力。在過去數(shù)十載的發(fā)展中，光刻技術(shù)也衍生了多個分支，除了光刻機外，還包括光源、光學元件、光刻膠等材料設(shè)備，也形成了極高的技術(shù)壁壘和錯綜復(fù)雜的產(chǎn)業(yè)版圖。
2020-11-27 16:03:3618800 光刻膠是微納加工過程中非常關(guān)鍵的材料。有專家表示，中國要制造芯片，光有光刻機還不夠，還得打破國外對“光刻膠”的壟斷。
2020-12-08 10:53:564168 1月19日晚，國內(nèi)半導(dǎo)體材料公司晶瑞股份發(fā)表公告，宣稱購得ASML公司光刻機一臺，將用于高端光刻膠項目。
2021-01-21 09:35:512886 近期，專注于電子材料市場研究的TECHCET發(fā)布最新統(tǒng)計和預(yù)測數(shù)據(jù)：2021年，半導(dǎo)體制造所需的光刻膠市場規(guī)模將同比增長11％，達到19億美元。
2021-03-22 10:51:125081 材料是半導(dǎo)體大廈的地基，不過，目前中國的這一地基對國外依存度還很高。 2019年，日韓發(fā)生沖突，日本封鎖了三種關(guān)鍵的半導(dǎo)體材料，分別是氟化氫、聚酰亞胺和光刻膠。這三種材料韓國，中國都可以制造
2021-05-11 13:46:382922 
按照應(yīng)用領(lǐng)域分類，光刻膠主要包括印制電路板（PCB）光刻膠專用化學品（光引發(fā)劑和樹脂）、液晶顯示器（LCD）光刻膠光引發(fā)劑、半導(dǎo)體光刻膠光引發(fā)劑和其他用途光刻膠四大類。本文主要討論半導(dǎo)體光刻膠。
2021-05-17 14:15:524011 
。 信越化學之所以停止供貨部分晶圓廠KrF光刻膠，與2月份日本福島東部海域發(fā)生7.3級地震有莫大關(guān)聯(lián)。地震導(dǎo)致信越化學KrF光刻膠產(chǎn)線受到很大程度的破壞，至今尚未完全恢復(fù)生產(chǎn)。 光刻膠是半導(dǎo)體制造中的關(guān)鍵產(chǎn)品，重要性毋庸置疑，現(xiàn)在這么多半導(dǎo)
2021-06-25 16:12:28784 5月27日，半導(dǎo)體光刻膠概念股開盤即走強，截至收盤，A股光刻膠板塊漲幅達6.48%。其中晶瑞股份、廣信材料直線拉升大漲20%封漲停，容大感光大漲13.28%，揚帆新材大漲11.37%，南大光電
2021-05-28 10:34:152623 。 光刻膠去除是半導(dǎo)體芯片制造圖形化環(huán)節(jié)中的關(guān)鍵技術(shù)，而光刻膠去除劑則是決定圖形化最終良率及可靠性的關(guān)鍵材料之一。默克此次推出的“AZ??910?去除劑”基于不含有NMP(N-甲基吡咯烷酮)的新型特制化學配方，不僅可以快速溶解殘留光刻膠，同時具備超高的經(jīng)濟性、
2021-07-28 14:23:102646 
光刻膠是光刻機研發(fā)的重要材料，換句話說光刻機就是利用特殊光線將集成電路映射到硅片的表面，如果想要硅片的表面不留下痕跡，就需要網(wǎng)硅片上涂一層光刻膠。
2022-02-05 16:11:0011281 ，據(jù)說使用光的加工早晚會達到極限。為了打破這一問題，正在研究使用更短波長的紫外線、電子射線、軟X射線、離子射線等新射線源的方法。另一方面，適用于這些新輻射源的抗蝕劑材料的研究也在勢力范圍內(nèi)進行。在此，以光刻膠為中心，對各光刻膠的現(xiàn)狀、今后的課題進行概述。
2022-03-28 15:10:516565 
本發(fā)明涉及一種去除光刻膠的方法，更詳細地說，是一種半導(dǎo)體制造用光刻膠去除方法，該方法適合于在半導(dǎo)體裝置的制造過程中進行吹掃以去除光刻膠。在半導(dǎo)體裝置的制造工藝中，將殘留在晶片上的光刻膠，在H2O
2022-04-13 13:56:42872 
光刻膠的組成：樹脂（resin/polymer），光刻膠中不同材料的粘合劑，給與光刻膠的機械與化學性質(zhì)（如粘附性、膠膜厚度、熱穩(wěn)定性等）；感光劑，感光劑對光能發(fā)生光化學反應(yīng)；溶劑（Solvent
2022-10-21 16:40:0415831 半導(dǎo)體光刻膠用光敏材料仍屬于“卡脖子”產(chǎn)品，海外進口依賴較重，不同品質(zhì)之間價 格差異大。以國內(nèi) PAG 對應(yīng)的化學放大型光刻膠（主要是 KrF、ArF 光刻膠）來看，樹脂在 光刻膠中的固含量
2022-11-18 10:07:432574 近年來，隨著國內(nèi)半導(dǎo)體材料廠商不斷提升半導(dǎo)體產(chǎn)品技術(shù)水平和研發(fā)能力，半導(dǎo)體材料國產(chǎn)化進程加速，中國市場成為全球增速最快的市場。數(shù)據(jù)顯示，2021年國內(nèi)半導(dǎo)體材料市場規(guī)模約820.16億元，同比增長21.9%。預(yù)計2023年市場規(guī)模將增至1024.34億元。
2023-03-12 09:57:084577 光刻膠是IC制造的核心耗材，技術(shù)壁壘極高。根據(jù)TECHCET數(shù)據(jù)，預(yù)計2022年全球半導(dǎo)體光刻膠市場規(guī)模達到23億美元，同比增長7.5%，2025年超過25億美元。
2023-03-21 14:00:492095 湖州國資消息，寧波微芯新材料科技有限公司的半導(dǎo)體材料生產(chǎn)基地項目總投資3.5億元人民幣，用地35畝，年產(chǎn)1000噸的電子級光刻膠原材料（光刻膠樹脂、高等級單體等核心材料）基地建設(shè)。”全部達到，預(yù)計年產(chǎn)值可達到約5億元。
2023-08-21 11:18:26942 光刻是半導(dǎo)體加工中最重要的工藝之一，決定著芯片的性能。光刻占芯片制造時間的40%-50%，占其總成本的30%。光刻膠是光刻環(huán)節(jié)關(guān)鍵耗材，其質(zhì)量和性能與電子器件良品率、器件性能可靠性直接相關(guān)。
2023-10-26 15:10:24360 
光刻膠在未曝光之前是一種黏性流體，不同種類的光刻膠具有不同的黏度。黏度是光刻膠的一項重要指標。那么光刻膠的黏度為什么重要？黏度用什么表征？哪些光刻膠算高黏度，哪些算低黏度呢？
2023-11-13 18:14:11571 
近期，萬潤股份在接受機構(gòu)調(diào)研時透露，其“年產(chǎn)65噸半導(dǎo)體用光刻膠樹脂系列”項目已經(jīng)順利投入運營。該項目旨在為客戶提供專業(yè)的半導(dǎo)體用光刻膠樹脂類材料。
2023-12-12 14:02:58329 光刻膠類別的多樣化，此次漲價案所涉KrF光刻膠屬于高階防護用品，也是未來各地廠家的競爭焦點。當前市場中，光刻膠主要由東京大賀工業(yè)、杜邦、JSR、信越化學、住友化學及東進半導(dǎo)體等大型制造商掌控。
2023-12-14 15:20:36409 光刻膠主要下游應(yīng)用包括：顯示屏制造、印刷電路板生產(chǎn)、半導(dǎo)體制造等，其中顯示屏是光刻膠最大的下游應(yīng)用，占比30%。光刻膠在半導(dǎo)體制造應(yīng)用占比24%，是第三達應(yīng)用場景。
2024-01-03 18:12:21346 
光刻膠又稱光致抗蝕劑，是指通過紫外光、電子束、離子束、X射線等的照射或輻射，其溶解度發(fā)生變化的耐蝕劑刻薄膜材料，是半導(dǎo)體制造中使用的核心電子材料之一。伴隨著晶圓制造規(guī)模持續(xù)提升，中國有望承接半導(dǎo)體
2024-01-19 08:31:24340 
光刻膠是一種涂覆在半導(dǎo)體器件表面的特殊液體材料，可以通過光刻機上的模板或掩模來進行曝光。
2024-03-04 17:19:18402 與正光刻膠相比，電子束負光刻膠會形成相反的圖案?；诰酆衔锏呢撔?b class="flag-6" style="color: red">光刻膠會在聚合物鏈之間產(chǎn)生鍵或交聯(lián)。未曝光的光刻膠在顯影過程中溶解，而曝光的光刻膠則保留下來，從而形成負像。
2024-03-20 11:36:50200 
電子發(fā)燒友App
工商網(wǎng)監(jiān)
評論