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電子發(fā)燒友網(wǎng)>電子技術(shù)應(yīng)用>電子常識(shí)>22nm 3D三柵極晶體管技術(shù)詳解

22nm 3D三柵極晶體管技術(shù)詳解

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FinFET立體晶體管技術(shù)是Intel 22nm率先引用的,這些年一直是半導(dǎo)體制造工藝的根基,接下來(lái)在Intel 20A、臺(tái)積電2nm、3nm上,都將轉(zhuǎn)向全環(huán)繞立體柵極晶體管。
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;    晶體管,本名是半導(dǎo)體三極管,是內(nèi)部含有兩個(gè)PN結(jié),外部通常為個(gè)引出電極的半導(dǎo)體器件。它對(duì)電信號(hào)有放大和開關(guān)等作用,應(yīng)用十分廣泛。輸入級(jí)和輸出
2010-08-12 13:57:39

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3D晶體管的轉(zhuǎn)變

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2023-07-16 15:47:43253

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2023-05-31 15:45:29975

麻省理工華裔:2D 晶體管,輕松突破 1nm

然而,前不久麻省理工學(xué)院(MIT)華裔研究生朱家迪突破了常溫條件下由二維(2D)材料制造成功的原子晶體管,每個(gè)晶體管只有 3 個(gè)原子的厚度,堆疊起來(lái)制成的芯片工藝將輕松突破 1nm。
2023-05-30 14:24:481116

PMOS晶體管工作原理 pmos晶體管的各個(gè)工作區(qū)域

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2023-02-11 16:48:038728

22nm晶體管芯片制造

DIY晶體管手冊(cè)
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場(chǎng)效應(yīng)晶體管放大電路詳解

場(chǎng)效應(yīng)晶體管的源極、漏極和柵極分別相當(dāng)于晶體管的發(fā)射極、集電極和基極。對(duì)應(yīng)于晶體管放大電路,場(chǎng)效應(yīng)晶體管放大電路也有種組態(tài):共源極放大電路、共漏極放大電路和共柵極放大電路,其特點(diǎn)分別和晶體管放大電路中的共射極、共集電極、共基極放大電路類似。
2022-11-30 09:30:001635

星計(jì)劃背面供電網(wǎng)絡(luò)技術(shù)開發(fā)2nm芯片

BSPDN可以理解為Chiplet技術(shù)的演變(圖自:IMEC) 目前主流的 FinFET(過(guò)去被稱為 3D 晶體管)是 10nm 工藝發(fā)展過(guò)程中的關(guān)鍵芯片設(shè)計(jì)技術(shù),采用面包覆式的柵極設(shè)計(jì),可以在個(gè)側(cè)面圍起電流通道,以此減少漏電流(電子泄露)。
2022-11-11 14:42:53570

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2022-09-27 15:29:505811

全包圍柵極結(jié)構(gòu)將取代FinFET

FinFET在22nm節(jié)點(diǎn)的首次商業(yè)化為晶體管——芯片“大腦”內(nèi)的微型開關(guān)——制造帶來(lái)了顛覆性變革。與此前的平面晶體管相比,與柵極面接觸的“鰭”所形成的通道更容易控制。但是,隨著3nm和5nm技術(shù)節(jié)點(diǎn)面臨的難題不斷累積,F(xiàn)inFET的效用已經(jīng)趨于極限。
2022-08-01 15:33:11799

3D封裝技術(shù)如火如荼 3D DRAM正在路上

FinFET確切的說(shuō),是一個(gè)技術(shù)的代稱。世界上第一個(gè)3D晶體管是由英特爾在2011年5月宣布研制成功,當(dāng)時(shí)英特爾稱其為 “Tri-Gate”(柵極晶體管)。
2022-07-08 15:04:261549

北斗22nm芯片用途

  北斗星通的22nm工藝的全系統(tǒng)全頻厘米級(jí)高精度GNSS芯片,在單顆芯片上實(shí)現(xiàn)了基帶+射頻+高精度算法一體化。
2022-07-04 15:53:481290

2nm芯片的晶體管有多大

現(xiàn)在的芯片技術(shù)越來(lái)越先進(jìn),人們常常能夠聽到某某公司又研發(fā)出5nm、4nm芯片的消息,而目前全球所研發(fā)出的最先進(jìn)的芯片是IBM公司的2nm芯片,我們都知道芯片內(nèi)部有很多晶體管,那么2nm芯片的晶體管
2022-07-04 09:15:363450

3nm芯片開始量產(chǎn),采用GAA晶體管,提升巨大

日前,星放出了將在6月30日正式量產(chǎn)3nm芯片的消息,今天上午,星官方宣布已經(jīng)開始了3nm工藝芯片的量產(chǎn)。 星官方稱,其采用了GAA晶體管3nm工藝芯片已經(jīng)在韓國(guó)華城工廠開始量產(chǎn)。 現(xiàn)在全球
2022-06-30 16:36:271768

22nm芯片是什么年代的技術(shù)?

技術(shù)呢? 據(jù)了解,全球芯片巨頭Intel在2011年發(fā)布了22nm工藝,而在2012年第季度,臺(tái)積電也開始了22nmHP制程的芯片研發(fā)工作,因此可得出22nm芯片最早在2011年被發(fā)布出來(lái),是2011年的技術(shù)。 不過(guò)這并不代表著我國(guó)這些22nm芯片就很落后,相反,在導(dǎo)航定位領(lǐng)
2022-06-29 11:06:174290

22nm芯片應(yīng)用在哪些地方?

我國(guó)在半導(dǎo)體行業(yè)一直都處于落后狀態(tài),不過(guò)近幾年已經(jīng)慢慢地開始追趕上來(lái)了,在半導(dǎo)體設(shè)備這方面,我國(guó)的上海微電子已經(jīng)成功研發(fā)出了深紫外光光刻機(jī),這種光刻機(jī)能夠進(jìn)行22nm制程工藝的加工,也就是說(shuō)在
2022-06-29 10:37:361595

北斗星通22nm芯片先進(jìn)嗎?

之前北斗星通所宣布的22nm定位芯片在業(yè)界引起了巨大的轟動(dòng),北斗星通的創(chuàng)始人周儒欣表示:這顆芯片應(yīng)該是全球衛(wèi)星導(dǎo)航領(lǐng)域最先進(jìn)的一顆芯片了。 有人就對(duì)這句話感到懷疑了,北斗星通22nm芯片先進(jìn)嗎?臺(tái)積
2022-06-29 10:11:402297

22nm和28nm芯片性能差異

據(jù)芯片行業(yè)來(lái)看,目前22nm和28nm的芯片工藝技術(shù)已經(jīng)相當(dāng)成熟了,很多廠商也使用22nm、28nm的芯片居多,主要原因就是價(jià)格便宜,那么這兩個(gè)芯片之間有什么性能差異呢?
2022-06-29 09:47:467231

北斗22nm芯片用途是什么?

在全球范圍內(nèi),目前共有美國(guó)、俄羅斯、中國(guó)個(gè)國(guó)家擁有完整的衛(wèi)星導(dǎo)航系統(tǒng),我們中國(guó)的衛(wèi)星導(dǎo)航系統(tǒng)就是大名鼎鼎的北斗導(dǎo)航系統(tǒng),這款導(dǎo)航系統(tǒng)采用了一款北斗22nm芯片,那么這款北斗22nm芯片用途是什么呢
2022-06-27 11:56:362559

星宣布其基于柵極環(huán)繞型晶體管架構(gòu)的3nm工藝技術(shù)已經(jīng)正式流片

目前從全球范圍來(lái)說(shuō),也就只有臺(tái)積電和星這兩家能做到5納米工藝以下了。6月29日晚間,據(jù)外媒報(bào)道,星宣布其基于柵極環(huán)繞型 (Gate-all-around,GAA) 晶體管架構(gòu)的3nm工藝技術(shù)已經(jīng)
2021-07-02 11:21:542136

星將在3nm時(shí)代進(jìn)一步拉近自己與臺(tái)積電的芯片代工技術(shù)差距

晶體管是器件中提供開關(guān)功能的關(guān)鍵組件。幾十年來(lái),基于平面晶體管的芯片一直暢銷不衰。走到20nm時(shí),平面晶體管開始出現(xiàn)疲態(tài)。為此,英特爾在2011年推出了22nm的FinFET,之后晶圓廠在16nm/14nm予以跟進(jìn)。
2021-03-22 11:35:241945

FinFET的效用已趨于極限 淺談晶體管縮放的難題

作者:泛林Nerissa Draeger博士 FinFET在22nm節(jié)點(diǎn)的首次商業(yè)化為晶體管——芯片“大腦”內(nèi)的微型開關(guān)——制造帶來(lái)了顛覆性變革。與此前的平面晶體管相比,與柵極面接觸的“鰭”所形成
2021-01-25 15:25:402669

Arasan宣布用于臺(tái)積公司22nm工藝技術(shù)的eMMC PHY IP立即可用

領(lǐng)先的移動(dòng)和汽車SoC半導(dǎo)體IP提供商Arasan Chip Systems今天宣布,用于臺(tái)積公司22nm工藝技術(shù)的eMMC PHY IP立即可用 加利福尼亞州圣何塞2021年1月21日 /美通社
2021-01-21 10:18:232193

晶體管:后FinFET時(shí)代的技術(shù)演進(jìn)

? ? FinFET晶體管架構(gòu)是當(dāng)今半導(dǎo)體行業(yè)的主力軍。但是,隨著器件的持續(xù)微縮,短溝道效應(yīng)迫使業(yè)界引入新的晶體管架構(gòu)。在本文中,IMEC的3D混合微縮項(xiàng)目總監(jiān)Julien Ryckaert勾勒出了
2020-12-30 17:45:162468

2nm異質(zhì)互補(bǔ)場(chǎng)效應(yīng)晶體管(hCFET)已開發(fā),實(shí)現(xiàn)高性能和低功耗

互補(bǔ)場(chǎng)效應(yīng)晶體管(hCFET)。 由于微加工技術(shù)的進(jìn)步,電場(chǎng)效應(yīng)晶體管(FET)已實(shí)現(xiàn)了高性能和低功耗。 在22nm世代中,它推進(jìn)到被稱為“ FinFET”的柵極結(jié)構(gòu)的FET。此外,GAA(全方位門)結(jié)構(gòu)已作為替代版本出現(xiàn)。 除此之外,還有一種稱為CFET結(jié)構(gòu)的技術(shù),該結(jié)構(gòu)是將
2020-12-21 10:36:582844

如何生產(chǎn)3納米以下全環(huán)繞柵極晶體管?

全環(huán)繞柵極晶體管的出現(xiàn)滿足了以上所有需求,從而允許摩爾定律在5納米之后進(jìn)一步前進(jìn)。首先其生產(chǎn)工藝與鰭式晶體管相似,關(guān)鍵工藝步驟幾乎一樣(這點(diǎn)我們會(huì)在之后的文章中進(jìn)一步講解)。其次,全環(huán)繞柵極晶體管
2020-09-29 13:54:393601

聯(lián)電宣布22nm技術(shù)就緒

圖片來(lái)源:聯(lián)電 12月2日,中國(guó)臺(tái)灣半導(dǎo)體代工廠聯(lián)電(UMC)宣布,在首次成功使用硅技術(shù)之后,其22nm制程技術(shù)已準(zhǔn)備就緒。 該公司稱,全球面積最小、使用22nm制程技術(shù)的USB 2.0通過(guò)硅驗(yàn)證
2019-12-03 09:59:414346

借助3D晶體管技術(shù) 摩爾定律再次從死里復(fù)活

在9月的臺(tái)灣SEMICON國(guó)際半導(dǎo)體展上,臺(tái)積電(TSMC)首席執(zhí)行官M(fèi)ark Lui認(rèn)為摩爾定律仍然有效。他表示,由于先進(jìn)工藝技術(shù)(如納米片)或3D FinFETS中的全柵晶體管技術(shù)的發(fā)展
2019-10-15 15:11:025321

我國(guó)首次實(shí)現(xiàn)3nm晶體管技術(shù) 技術(shù)具體如何

今天有多家媒體報(bào)道了中國(guó)科研人員實(shí)現(xiàn)了3nm半導(dǎo)體工藝的突破性進(jìn)展,香港《南華早報(bào)》稱中科院微電子所團(tuán)隊(duì)的殷華湘等人研究出了3nm晶體管,相當(dāng)于人類DNA鏈條寬度,這種晶體管解決了玻爾茲曼熱力學(xué)的限制。
2019-05-29 16:48:094236

XX nm制造工藝是什么概念?實(shí)現(xiàn)7nm制程工藝為什么這么困難?

XX nm制造工藝是什么概念?芯片的制造工藝常常用90nm、65nm、40nm、28nm、22nm、14nm來(lái)表示?,F(xiàn)在的CPU內(nèi)集成了以億為單位的晶體管,這種晶體管由源極、漏極和位于他們之間的柵極所組成,電流從源極流入漏極,柵極則起到控制電流通斷的作用。
2019-02-20 11:08:0231585

麻省理工開發(fā)微加工技術(shù)可生產(chǎn)最小的3D晶體管

新的微加工技術(shù)可用于生產(chǎn)有史以來(lái)最小的3D晶體管,尺寸是目前主流商用產(chǎn)品的分之一。
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intel的22nm 3D工藝牛,到底牛到什么程度,到底對(duì)業(yè)界有神馬影響,俺也搞不太清楚。這不,一封email全搞定了。
2017-02-11 10:47:111166

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為什么說(shuō)7nm是物理極限?縮短晶體管柵極的長(zhǎng)度可以使CPU集成更多的晶體管或者有效減少晶體管的面積和功耗,并削減CPU的硅片成本。不過(guò)這種做法也會(huì)使電子移動(dòng)的距離縮短,容易導(dǎo)致晶體管內(nèi)部電子自發(fā)通過(guò)
2016-10-10 16:49:395765

深度好文:看懂3D晶體管的奧秘

目前3D晶體管成為代工產(chǎn)業(yè)重點(diǎn)關(guān)注的技術(shù),但很多人關(guān)于這個(gè)技術(shù)的細(xì)節(jié)不是很了解,我們?cè)谶@里介紹一下。
2015-12-28 14:34:1211367

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2012-12-11 09:05:451014

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ARM并不看好Intel的3D晶體管制程技術(shù)

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2012-08-15 11:23:244748

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本文核心議題: 本文是對(duì)Intel 22nm技術(shù)的后續(xù)追蹤報(bào)道,為此,這里搜集了多位業(yè)界觀察家、分析家對(duì)此的理解和意見(jiàn),以便大家I更深入的了解ntel 22nm技術(shù)。 鰭數(shù)可按需要進(jìn)行
2012-08-15 09:46:031199

3D晶體管的優(yōu)點(diǎn)

Intel2011年5月6日研制成功的世界上第一個(gè)3D晶體管“Tri-Gate”現(xiàn)在已經(jīng)逐步進(jìn)入大家的視線了,本文將介紹3D晶體管的一些優(yōu)點(diǎn)。
2012-08-08 11:49:461736

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什么是3D晶體管?3D晶體管,從技術(shù)上講,應(yīng)該是個(gè)門晶體管。傳統(tǒng)的二維門由較薄的維硅鰭(fin)所取代,硅鰭由硅基垂直伸出。
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高清圖詳解英特爾最新22nm 3D晶體管

本文通過(guò)高清圖詳解Intel最新22nm 3D 晶體管 。業(yè)界一直傳說(shuō)3D柵級(jí)晶體管技術(shù)將會(huì)用于下下代14nm的半導(dǎo)體制造,沒(méi)想到英特爾竟提前將之用于22nm工藝,并且于上周四向全世界表示將在
2012-08-03 17:09:1870

知名半導(dǎo)體廠商3D工藝眾生相:掀半導(dǎo)體業(yè)模式風(fēng)暴

2012年4月23日,英特爾宣布采用3D柵極晶體管設(shè)計(jì),最小線寬為22納米的Ivy Bridge微處理器量產(chǎn)成功,并于4月29日開始全球銷售。
2012-05-13 09:35:434558

英特爾22nm 3D晶體管工藝,Achronix公布全新Speedster22i系列FPGA細(xì)節(jié)

  Achronix 半導(dǎo)體公司今日宣布了其 Speedster22i HD和HP產(chǎn)品系列的細(xì)節(jié),它們是將采用英特爾22nm 3D晶體管技術(shù)工藝制造的首批現(xiàn)場(chǎng)可編程門陣列(FPGA)產(chǎn)品。Speedster22i FPGA產(chǎn)品是業(yè)內(nèi)唯一
2012-04-25 09:12:051138

透視IVB核芯 22nm工藝3D技術(shù)終極揭秘

Intel Ivy Bridge處理器只是一次制程升級(jí),對(duì)CPU性能來(lái)說(shuō)沒(méi)什么特別的,但是就制造工藝而言,Ivy Bridge不啻于一場(chǎng)革命,因?yàn)樗粌H是首款22nm工藝產(chǎn)品,更重要的是Intel將從22nm工藝節(jié)點(diǎn)開
2012-04-18 14:02:29890

下一代晶體管王牌:何種技術(shù)領(lǐng)跑22nm時(shí)代?

22nm,或許是16nm節(jié)點(diǎn),我們將需要全新的晶體管。而在這其中,爭(zhēng)論的焦點(diǎn)在于究竟該采用哪一種技術(shù)。這場(chǎng)比賽將關(guān)乎到晶體管的重新定義。在22/20nm邏輯制程的開發(fā)中,業(yè)界都爭(zhēng)先
2012-03-25 10:52:161363

下一代晶體管王牌:何種技術(shù)領(lǐng)跑22nm時(shí)代?

22nm,或許是16nm節(jié)點(diǎn),我們將需要全新的晶體管。而在這其中,爭(zhēng)論的焦點(diǎn)在于究竟該采用哪一種技術(shù)。這場(chǎng)比賽將關(guān)乎到晶體管的重新定義。在22/20nm邏輯制程的開發(fā)中,業(yè)界都爭(zhēng)先
2012-03-06 10:08:161756

英特爾:將為Tabula代工第二代FPGA芯片

可編程邏輯廠商Tabula 2月21日確認(rèn),英特爾將使用最新技術(shù)3-D柵極晶體管技術(shù)為其代工22-nm3PLD產(chǎn)品。
2012-02-21 15:07:15875

英特爾 3D晶體管

晶體管是現(xiàn)代電子學(xué)的基石,而Intel 此舉堪稱晶體管歷史上最偉大的里程碑式發(fā)明,甚至可以說(shuō)是重新發(fā)明了晶體管。半個(gè)多世紀(jì)以來(lái),晶體管一直都在使用2-D 平面結(jié)構(gòu),現(xiàn)在終于邁入
2012-01-18 15:28:52146

22納米3D晶體管技術(shù)

Intel在微處理器晶體管設(shè)計(jì)上取得重大突破,沿用50多年的傳統(tǒng)硅晶體管將實(shí)現(xiàn)3D架構(gòu),一款名為Tri-Gate的晶體管技術(shù)得到實(shí)現(xiàn)。 3D Tri-Gate晶體管使用了一個(gè)微薄的維硅鰭片取代了傳統(tǒng)
2011-10-25 09:35:401274

英特爾3d柵極晶體管設(shè)計(jì)獲年度科技創(chuàng)新獎(jiǎng)

近日公布2011年“科技創(chuàng)新獎(jiǎng)”,英特爾的3-D柵極晶體管設(shè)計(jì)獲得半導(dǎo)體類別創(chuàng)新大獎(jiǎng)。英特爾的3-D柵極晶體管結(jié)構(gòu)代表著從2-D平面晶體管結(jié)構(gòu)的根本性轉(zhuǎn)變
2011-10-23 01:01:04867

3D晶體管、Ultrabook技術(shù)探討

在本周于舊金山召開的英特爾開發(fā)者大會(huì)(IDF)中,英特爾將再揭示其采用柵極(tri-gate)3D晶體管技術(shù)22nm元件細(xì)節(jié),并進(jìn)一步說(shuō)明超輕薄筆電(Ultrabook)的超薄、超低功耗設(shè)計(jì)概念。
2011-09-16 09:23:43811

22nm后的晶體管技術(shù)領(lǐng)域 平面型FD-SOI元件與基于立體

22nm以后的晶體管技術(shù)領(lǐng)域,靠現(xiàn)行Bulk MOSFET的微細(xì)化會(huì)越來(lái)越困難的,為此,人們關(guān)注的是平面型FD-SOI(完全空乏型SOI)元件與基于立體通道的FinFET。由于這些技術(shù)都不需要向通
2010-06-23 08:01:42496

臺(tái)積電又跳過(guò)22nm工藝 改而直上20nm

臺(tái)積電又跳過(guò)22nm工藝 改而直上20nm 為了在競(jìng)爭(zhēng)激烈的半導(dǎo)體代工行業(yè)中提供最先進(jìn)的制造技術(shù),臺(tái)積電已經(jīng)決定跳過(guò)22nm工藝的研
2010-04-15 09:52:16816

Intel 22nm光刻工藝背后的故事

Intel 22nm光刻工藝背后的故事 去年九月底的舊金山秋季IDF 2009論壇上,Intel第一次向世人展示了22nm工藝晶圓,并宣布將在2011年下半年發(fā)布相關(guān)產(chǎn)品。
2010-03-24 08:52:581019

什么是絕緣柵極雙極性晶體管

什么是絕緣柵極雙極性晶體管 絕緣柵雙極晶體管(IGBT)本質(zhì)上是一個(gè)場(chǎng)效應(yīng)晶體管,只是在漏極和漏區(qū)之間多了一個(gè)P型層.根據(jù)國(guó)際電工委員會(huì)IEC/TC(CO)1
2010-03-05 15:49:223985

臺(tái)積電計(jì)劃于2012年Q3開始試產(chǎn)22nm HP制程芯片

臺(tái)積電計(jì)劃于2012年Q3開始試產(chǎn)22nm HP制程芯片  據(jù)臺(tái)積電公司負(fù)責(zé)開發(fā)的高級(jí)副總裁蔣尚義透露,他們計(jì)劃于2012年第季度開始試產(chǎn)22nm HP(高性能)制程的芯片產(chǎn)品,并
2010-02-26 12:07:17783

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