碳化硅材料特點(diǎn)及優(yōu)勢(shì)
碳化硅作為寬禁帶半導(dǎo)體的代表性材料之一,其材料本征特性與硅材料相比具有諸多優(yōu)勢(shì)。以現(xiàn)階段最適合用于做功率半導(dǎo)體的4H型碳化硅材料為例,其禁帶寬度是硅材料的3倍,熱導(dǎo)率是硅材料的3倍,電子飽和漂移速率是硅的2倍,臨界擊穿場(chǎng)強(qiáng)更是硅的10倍。
在硅基半導(dǎo)體器件性能已經(jīng)進(jìn)入瓶頸期時(shí),碳化硅材料的優(yōu)異特性讓它成為了下一代功率半導(dǎo)體器件的理想原材料。
02
相比于其它各類(lèi)二極管,肖特基二極管“沒(méi)有反向恢復(fù)現(xiàn)象”特點(diǎn),讓它在“有源PFC”、“高頻硬開(kāi)關(guān)整流”等電路有廣泛的應(yīng)用前景。
受限于硅材料的特性,商用硅基肖特基二極管最高耐壓在200V左右,在現(xiàn)有技術(shù)平臺(tái)下,高電壓(300V以上)硅基肖特基二極管無(wú)法在正向特性、可靠性和成本等因素上達(dá)到平衡,致使其無(wú)法商用。
碳化硅肖特基二極管從2001年開(kāi)始商用,至今已有20年商用積累,并在部分高中端電源市場(chǎng)批量應(yīng)用,逐步向通用市場(chǎng)滲透,具備廣闊的市場(chǎng)前景。
碳化硅材料在禁帶寬度和臨界擊穿場(chǎng)強(qiáng)等關(guān)鍵特性上具有明顯優(yōu)勢(shì),可以用來(lái)做成高耐壓的肖特基二極管,目前650V-1700V碳化硅肖特基二極管在消費(fèi)、工業(yè)、汽車(chē)、軍工等領(lǐng)域有廣泛應(yīng)用。
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碳化硅肖特基二極管結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)析
肖特基二極管:以金屬為陽(yáng)極,以N型半導(dǎo)體為陰極,利用二者接觸面上形成的肖特基勢(shì)壘(Schottky barrier)的整流特性而制成的金屬-半導(dǎo)體二極管器件。
圖(2)為標(biāo)準(zhǔn)肖特基架構(gòu)示意圖,其主要由4部分構(gòu)成:
陽(yáng)極金屬:Anode Metal
外延層:N- drift(輕摻雜),主要作用是承擔(dān)反向耐壓
襯底層:N+(重?fù)诫s),呈電阻特性,不具備電壓耐受能力
陰極金屬:Cathode Metal
圖(2)碳化硅肖特基二極管結(jié)構(gòu)示意圖
優(yōu)點(diǎn):?jiǎn)螛O型器件,只有一種載流子,從正向?qū)ǖ椒聪蚪刂?,沒(méi)有反向恢復(fù)行為,適用于高頻開(kāi)關(guān)電路。
缺點(diǎn):漏電大(硅基肖特基二極管的這個(gè)缺點(diǎn)更明顯,所以耐壓做不高)。
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第二代碳化硅肖特基二極管-JBS簡(jiǎn)介
產(chǎn)業(yè)界以第一代標(biāo)準(zhǔn)肖特基結(jié)構(gòu)做成的肖特基二極管(SBD)漏電流大,反向耐壓低,產(chǎn)品競(jìng)爭(zhēng)力差,商業(yè)應(yīng)用價(jià)值低。為了提升產(chǎn)品競(jìng)爭(zhēng)力,碳化硅肖特基二極管的結(jié)構(gòu)也從標(biāo)準(zhǔn)的SBD結(jié)構(gòu)向JBS進(jìn)化,所謂JBS,是在外延層表面注入P阱,在器件承受反壓時(shí),通過(guò)P阱與N-在P周?chē)纬珊谋M層,減小漏電流,提升器件的反向耐壓。
在較低電流密度情況下,SBD的VF占優(yōu),在電流密度較高的情況下,PiN的VF占優(yōu)。
在器件正向?qū)〞r(shí),主要以SBD二極管形態(tài)工作,PiN二極管一般不工作,在器件通過(guò)非正常的大電流時(shí)(例如浪涌電流),P阱與N-形成的PiN會(huì)投入工作,減小浪涌時(shí)刻VF的增長(zhǎng),降低器件功耗,提升器件的抗浪涌能力。
圖(4)二極管正向與電流密度關(guān)系圖
基本半導(dǎo)體B1D系列碳化硅肖特基二極管均采用JBS結(jié)構(gòu)。
05
碳化硅肖特基二極管關(guān)鍵參數(shù)解讀
從應(yīng)用角度來(lái)說(shuō),在選擇器件時(shí),需要優(yōu)先考慮器件能否滿(mǎn)足應(yīng)用要求,然后考慮器件對(duì)設(shè)備整體性能的提升幅度,綜合這兩個(gè)因素,列舉如下二極管的關(guān)鍵參數(shù):
浪涌電流能力IFSM :這是一個(gè)關(guān)乎器件能否安全使用的關(guān)鍵參數(shù),比如在PFC電路中,要應(yīng)對(duì)電網(wǎng)接入的電流沖擊。全球電網(wǎng)工頻主要采用50Hz和60Hz,以50Hz工頻電網(wǎng)為例,其一個(gè)周期內(nèi)半波脈寬為10ms,器件應(yīng)用在50Hz電網(wǎng)對(duì)應(yīng)的PFC電路中時(shí),需要標(biāo)定10ms正弦半波浪涌電流能力,而應(yīng)用在60Hz電網(wǎng)對(duì)應(yīng)的PFC電路中時(shí),需要標(biāo)定8.3ms正弦半波浪涌電流能力。
浪涌電流能力IFmax :同樣是一個(gè)關(guān)乎器件能否安全使用的參數(shù),此參數(shù)描述二極管對(duì)脈寬為10μs的方波浪涌電流的耐受能力,主要用于評(píng)估在實(shí)際應(yīng)用中器件應(yīng)對(duì)瞬態(tài)浪涌電流(雷擊等)的耐受能力,如果應(yīng)用中設(shè)備有被雷擊的風(fēng)險(xiǎn),需要重點(diǎn)關(guān)注此參數(shù)。
正向?qū)▔航礦F :衡量二極管正向?qū)ㄐ阅茏钪匾膮?shù),對(duì)工程師而言,需要更關(guān)注VF與Tj的依賴(lài)性關(guān)系。這里以基本半導(dǎo)體650V 10A TO-220封裝碳化硅肖特基二極管為例進(jìn)行說(shuō)明。
圖(5)B1D10065K I F =f(V F ); parameter: Tj
如圖(5)所示,5條黑色曲線(xiàn)為B1D10065K對(duì)應(yīng)不同溫度下的I F =f(V F )曲線(xiàn),黑色虛線(xiàn)為基本半導(dǎo)體下一代同規(guī)格產(chǎn)品在T j =100℃的預(yù)期I F =f(V F )曲線(xiàn)。通過(guò)對(duì)比T j =100℃條件下的兩條曲線(xiàn)可發(fā)現(xiàn),在相同電流值情況下,虛線(xiàn)所對(duì)應(yīng)的VF值比實(shí)線(xiàn)(100℃)更低,正向?qū)ㄌ匦愿?,?yīng)用中,虛線(xiàn)斜率對(duì)應(yīng)的器件具有更低的導(dǎo)通損耗。
正向?qū)娏鱅F :評(píng)估二極管出電流能力的關(guān)鍵參數(shù),表征IF能力的信息可參考圖(6)的I F =f(T C )曲線(xiàn)圖,從字面意思理解,在其它參數(shù)條件都相同的情況下,IF越大,輸出電流能力越強(qiáng),但不同品牌的器件器件參數(shù)不盡相同,實(shí)際應(yīng)用中需要綜合考慮各相關(guān)參數(shù)。
圖(6)B1D10065K的I F =f(T C )
結(jié)殼熱阻RthJC :非常重要的一個(gè)參數(shù),器件熱設(shè)計(jì)的主要依據(jù)(參考熱阻最大值),器件實(shí)際出力能力的高低與此值有緊密關(guān)聯(lián)。
存儲(chǔ)電荷QC :影響應(yīng)用電路開(kāi)關(guān)損耗的關(guān)鍵參數(shù),開(kāi)關(guān)頻率越高,QC對(duì)開(kāi)關(guān)損耗的影響越大。根據(jù)E=q*U,在二極管關(guān)斷過(guò)程中,二極管中的存儲(chǔ)電荷QC克服電場(chǎng)力做功,會(huì)產(chǎn)生功耗,此部分產(chǎn)生的功耗以熱量的形式消散掉,對(duì)系統(tǒng)來(lái)說(shuō)是沒(méi)有用的。應(yīng)用開(kāi)關(guān)頻率越高,越需要關(guān)注此參數(shù)。
06
碳化硅肖特基二極管VF構(gòu)成
圖(7)所示為基本半導(dǎo)體B1D碳化硅肖特基二極管(JBS)結(jié)構(gòu)示意圖,其結(jié)構(gòu)大致可分為四部分,上表面陽(yáng)極金屬、外延層(漂移區(qū)+緩沖區(qū))、襯底層和背面陰極金屬。
作為單極型器件,碳化硅肖特基二極管優(yōu)點(diǎn)尤為突出,其“反向恢復(fù)為零”的特點(diǎn)讓其反向特性相比硅基快恢復(fù)二極管具有明顯優(yōu)勢(shì);下面結(jié)合碳化硅肖特基二極管的結(jié)構(gòu)圖,談?wù)勌蓟栊ぬ鼗O管的導(dǎo)通壓降構(gòu)成。
碳化硅肖特基二極管在導(dǎo)通時(shí),其導(dǎo)通壓降可等效為4部分構(gòu)成:
圖(7)①號(hào)區(qū)域的勢(shì)壘電壓
圖(7)②號(hào)區(qū)域溝道垂直電流分量和水平電流分量等效溝道電流與電阻的乘積
圖(7)③號(hào)區(qū)域外延(漂移區(qū)和緩沖區(qū))的電流與電阻乘積
圖(7)④號(hào)區(qū)域(襯底區(qū))電流與電阻的乘積
評(píng)論
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