半導(dǎo)體技術(shù)新進展，南大光電高端ArF光刻膠獲得突破

在半導(dǎo)體制造方面，國內(nèi)廠商需要突破的不只是光刻機等核心設(shè)備，光刻膠也是重要的一環(huán)。而南大光電研發(fā)的高端ArF光刻機，已經(jīng)獲得了國內(nèi)某企業(yè)的認證，可用于55nm工藝制造。

南大光電發(fā)布公告稱，控股子公司寧波南大光電自主研發(fā)的ArF光刻膠繼2020年12月在一家存儲芯片制造企業(yè)的50nm閃存平臺上通過認證后，近日又在邏輯芯片制造企業(yè)55nm技術(shù)節(jié)點的產(chǎn)品上取得了認證突破，表明公司光刻膠產(chǎn)品已具備55nm平臺后段金屬布線層的工藝要求。不過，南大光電并未透露具體的客戶名字。

在光刻機市場上，國內(nèi)自給率極低，歐美日等地區(qū)的廠商占據(jù)主要份額，JSR、信越化學(xué)等TOP5廠商占據(jù)全球87%的份額。

要知道，光刻膠有不同的技術(shù)類別，低端的中g(shù)線/i線光刻膠自給率約為20%，KrF光刻膠自給率不足5%，而高端的ArF光刻膠完全依賴進口，是國內(nèi)半導(dǎo)體的卡脖子技術(shù)之一。

雖然南大光電的ArF光刻膠現(xiàn)在通過的是55nm工藝認證，但ArF光刻膠涵蓋的工藝技術(shù)很廣，可用于90nm-14nm甚至7nm 技術(shù)節(jié)點制造工藝，廣泛應(yīng)用于高端芯片制造（如邏輯芯片、存儲芯片、AI 芯片、5G 芯片和云計算芯片等）。

希望國產(chǎn)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)有更多的突破，早日擺脫各種卡脖子技術(shù)。

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半導(dǎo)體(200952) 半導(dǎo)體(200952)
光刻膠(29685) 光刻膠(29685)

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日月光半導(dǎo)體宣布VIPack? 平臺先進互連技術(shù)最新進展，透過微凸塊(microbump)技術(shù)將芯片與晶圓互連間距制程能力從 40um提升到 20um，可以滿足人工智能 (AI)應(yīng)用于多樣化小芯片(chiplet)整合日益增長的需求。

2024-03-22 14:15:08

關(guān)于光刻膠的關(guān)鍵參數(shù)介紹

與正光刻膠相比，電子束負光刻膠會形成相反的圖案?；诰酆衔锏呢撔?b class="flag-6" style="color: red">光刻膠會在聚合物鏈之間產(chǎn)生鍵或交聯(lián)。未曝光的光刻膠在顯影過程中溶解，而曝光的光刻膠則保留下來，從而形成負像。

2024-03-20 11:36:50

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關(guān)于半導(dǎo)體設(shè)備

想問一下，半導(dǎo)體設(shè)備需要用到溫度傳感器的有那些設(shè)備，比如探針臺有沒有用到，具體要求是那些，

2024-03-08 17:04:59

一文解析半導(dǎo)體設(shè)計電路的“光刻工藝”

利用光刻機發(fā)出的光通過具有圖形的光罩對涂有光刻膠的薄片曝光，光刻膠見光后會發(fā)生性質(zhì)變化，從而使光罩上得圖形復(fù)印到薄片上，從而使薄片具有電子線路圖的作用。

2024-03-06 14:28:50

國內(nèi)腦機接口研究再迎新進展！微美全息（WIMI.US）斬獲V-BCI技術(shù)專利助力科技騰飛！

腦機接口(BCI)技術(shù)研發(fā)及應(yīng)用落地再迎新進展。近期，首都宣武醫(yī)院團隊與清華大學(xué)醫(yī)學(xué)院團隊共同對外宣布，通過植入式硬膜外電極腦機接口，四肢截癱患者實現(xiàn)自主喝水等腦控功能，抓握準(zhǔn)確率超過90%。經(jīng)過

2024-03-05 10:25:19

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光刻膠和光刻機的區(qū)別

光刻膠是一種涂覆在半導(dǎo)體器件表面的特殊液體材料，可以通過光刻機上的模板或掩模來進行曝光。

2024-03-04 17:19:18

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如何在芯片中減少光刻膠的使用量

光刻膠不能太厚或太薄，需要按制程需求來定。比如對于需要長時間蝕刻以形成深孔的應(yīng)用場景，較厚的光刻膠層能提供更長的耐蝕刻時間。

2024-03-04 10:49:16

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四個50億+，多個半導(dǎo)體項目最新進展！

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2024-02-27 09:35:02

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清華大學(xué)在電子鼻傳感器仿生嗅聞方向取得新進展

近日，清華大學(xué)機械系在電子鼻仿生嗅聞研究中取得新進展，相關(guān)研究成果以“Sniffing Like a Wine Taster: Multiple Overlapping Sniffs (MOSS

2024-02-20 10:57:02

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半導(dǎo)體激光芯片雙結(jié)突破110W、單結(jié)突破74W! 度亙于Photonics West 2024發(fā)布最新成果

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瑞紅集成電路高端光刻膠總部落戶吳中

據(jù)吳中發(fā)布的最新消息，簽約項目涵蓋了瑞紅集成電路高端光刻膠總部項目，該項投資高達15億元，旨在新建半導(dǎo)體光刻膠及其配套試劑的生產(chǎn)基地。

2024-01-26 09:18:43

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基于超構(gòu)表面光場調(diào)控的二維位移精密測量技術(shù)設(shè)計

中國科學(xué)技術(shù)大學(xué)光電子科學(xué)與技術(shù)安徽省重點實驗室微納光學(xué)與技術(shù)課題組王沛教授和魯擁華副教授在精密位移的光學(xué)感測研究方面取得新進展

2024-01-22 16:17:49

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2023年中國光刻膠行業(yè)市場前景及投資研究報告

光刻膠又稱光致抗蝕劑，是指通過紫外光、電子束、離子束、X射線等的照射或輻射，其溶解度發(fā)生變化的耐蝕劑刻薄膜材料，是半導(dǎo)體制造中使用的核心電子材料之一。伴隨著晶圓制造規(guī)模持續(xù)提升，中國有望承接半導(dǎo)體

2024-01-19 08:31:24

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兩家企業(yè)有關(guān)LED項目的最新進展

近日，乾富半導(dǎo)體與英創(chuàng)力兩家企業(yè)有關(guān)LED項目傳來最新進展。

2024-01-15 13:37:19

278

光刻膠分類與市場結(jié)構(gòu)

光刻膠主要下游應(yīng)用包括：顯示屏制造、印刷電路板生產(chǎn)、半導(dǎo)體制造等，其中顯示屏是光刻膠最大的下游應(yīng)用，占比30%。光刻膠在半導(dǎo)體制造應(yīng)用占比24%，是第三達應(yīng)用場景。

2024-01-03 18:12:21

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山東粵海金成功研制出8英寸導(dǎo)電型碳化硅單晶與襯底片

軟包裝復(fù)合膠粘劑龍頭——高盟新材(300200.SZ)在半導(dǎo)體材料領(lǐng)域的投資取得新進展、新成效。

2024-01-03 10:00:53

354

來elexcon半導(dǎo)體展，看「先進封裝」重塑產(chǎn)業(yè)鏈

中國半導(dǎo)體行業(yè)協(xié)會副秘書長兼封測分會秘書長徐冬梅受邀出席大會并致辭，她表示，本次大會立足本土、協(xié)同全球，重點關(guān)注異構(gòu)集成Chiplet技術(shù)、先進封裝與SiP的最新進展，聚焦于HPC、AI、汽車等關(guān)鍵應(yīng)用領(lǐng)域，是Chiplet生態(tài)圈的一次重要聚會。

2023-12-29 16:36:34

311

全球光刻膠市場預(yù)計收入下滑，2024年有望反彈

所謂的“光刻膠”，即是在紫外線、電子束等輻射下，其溶解度會產(chǎn)生變化的耐腐蝕薄膜材料。作為光刻工藝中的關(guān)鍵要素，廣泛應(yīng)用于晶圓和分立器件的精細圖案制作中。其品種繁多，此次漲價涉及的KrF 光刻膠則屬高級別光刻膠，將成為各廠商關(guān)注的焦點。

2023-12-28 11:14:34

379

語音識別技術(shù)最新進展：視聽融合的多模態(tài)交互成為主要演進方向

多種模態(tài)（聲學(xué)、語言模型、視覺特征等）進行聯(lián)合建模，基于深度學(xué)習(xí)的多模態(tài)語音識別取得了新進展。 ? 多模態(tài)交互的原理及優(yōu)勢 ? 多模態(tài)交互技術(shù)融合了多種輸入方式，包括語音、手勢、觸摸和眼動等，使用戶可以根據(jù)自己的喜好和習(xí)慣

2023-12-28 09:06:45

1297

通過第102屆中國電子展看國產(chǎn)半導(dǎo)體設(shè)備新進展：挑戰(zhàn)國際大廠，給制造廠商更多選擇

Electronics Fair，CEF）上，記者看到了國產(chǎn)半導(dǎo)體設(shè)備一些新進展。作為一家具備世界先進技術(shù)的半導(dǎo)體設(shè)備制造商，盛美半導(dǎo)體設(shè)備（上海）股份有限公司(以下簡稱：盛美上海)也參加了此次CEF，并展示了該公司近一年來發(fā)布的新產(chǎn)品。 ? 2024年前道涂膠

2023-12-21 10:37:03

621

勻膠速度影響光刻膠的哪些性質(zhì)？

勻膠是光刻中比較重要的一步，而旋涂速度是勻膠中至關(guān)重要的參數(shù)，那么我們在勻膠時，是如何確定勻膠速度呢？它影響光刻膠的哪些性質(zhì)？

2023-12-15 09:35:56

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光刻膠價格上漲，韓國半導(dǎo)體公司壓力增大

光刻膠類別的多樣化，此次漲價案所涉KrF光刻膠屬于高階防護用品，也是未來各地廠家的競爭焦點。當(dāng)前市場中，光刻膠主要由東京大賀工業(yè)、杜邦、JSR、信越化學(xué)、住友化學(xué)及東進半導(dǎo)體等大型制造商掌控。

2023-12-14 15:20:36

408

半導(dǎo)體石墨烯光電探測器取得新進展

：當(dāng)石墨烯用作光吸收介質(zhì)時，傳感器通常只能表現(xiàn)出mA/W級別的弱光學(xué)響應(yīng)度。團隊通過開解單壁碳納米管制備了具有直接帶隙為 1.8 eV 的半導(dǎo)體性石墨烯納米帶，并首次將其用作光吸收層與單晶硅聯(lián)合構(gòu)建垂直異質(zhì)結(jié)型光電探測器。

2023-12-13 12:33:22

588

萬潤股份在半導(dǎo)體制造材料領(lǐng)域穩(wěn)步推進，涉足光刻膠單體、PI等業(yè)務(wù)

近期，萬潤股份在接受機構(gòu)調(diào)研時透露，其“年產(chǎn)65噸半導(dǎo)體用光刻膠樹脂系列”項目已經(jīng)順利投入運營。該項目旨在為客戶提供專業(yè)的半導(dǎo)體用光刻膠樹脂類材料。

2023-12-12 14:02:58

328

顯示用Micro-LED芯片與集成技術(shù)新進展

近日，在廈門召開的第九屆國際第三代半導(dǎo)體論壇（IFWS）&第二十屆中國國際半導(dǎo)體照明論壇（SSLCHINA）的“Mini/Micro-LED技術(shù)產(chǎn)業(yè)應(yīng)用論壇”上

2023-12-09 16:38:59

778

半導(dǎo)體制造之光刻工藝講解

光刻工藝就是把芯片制作所需要的線路與功能做出來。利用光刻機發(fā)出的光通過具有圖形的光罩對涂有光刻膠的薄片曝光，光刻膠見光后會發(fā)生性質(zhì)變化，從而使光罩上得圖形復(fù)印到薄片上，從而使薄片具有電子線路圖的作用

2023-12-04 09:17:24

1334

通過CEF看國產(chǎn)半導(dǎo)體設(shè)備新進展：挑戰(zhàn)國際大廠，給制造廠商更多選擇

。在第102屆中國電子展（China Electronics Fair，CEF）上，記者看到了國產(chǎn)半導(dǎo)體設(shè)備一些新進展。作為一家具備世界先進技術(shù)的半導(dǎo)體設(shè)備制造商，盛美半導(dǎo)體設(shè)備（上海）股份有限公司(以下簡稱：盛美上海)也參加了此次CEF，并展示了該公司近一年來

2023-11-30 00:14:00

998

[半導(dǎo)體前端工藝：第三篇] 光刻——半導(dǎo)體電路的繪制

[半導(dǎo)體前端工藝：第三篇] 光刻——半導(dǎo)體電路的繪制

2023-11-29 11:25:52

242

光刻膠國內(nèi)市場及國產(chǎn)化率詳解

KrF光刻膠是指利用248nm KrF光源進行光刻的光刻膠。248nmKrF光刻技術(shù)已廣泛應(yīng)用于0.13μm工藝的生產(chǎn)中,主要應(yīng)用于150 , 200和300mm的硅晶圓生產(chǎn)中。

2023-11-29 10:28:50

283

韓國SKMP開發(fā)出高厚度KrF光刻膠，可助力3D NAND閃存制造

　據(jù)悉，skmp開發(fā)的新型KrF光刻膠的厚度為14至15米，與東進半導(dǎo)體（DONGJIN SEMICHEM）向三星提供的產(chǎn)品相似。日本jsr公司的類似產(chǎn)品厚度只有10微米。

2023-11-29 10:02:52

258

博捷芯打破半導(dǎo)體切割劃片設(shè)備技術(shù)壟斷，國產(chǎn)產(chǎn)業(yè)鏈實現(xiàn)高端突破

近日，國內(nèi)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)傳來喜訊，博捷芯成功實現(xiàn)批量供貨半導(dǎo)體切割劃片設(shè)備，打破國外企業(yè)在該領(lǐng)域的長期技術(shù)壟斷，為國產(chǎn)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈在高端切割劃片設(shè)備領(lǐng)域?qū)崿F(xiàn)重大突破。自上世紀90年代以來，由于國外

2023-11-27 20:25:20

156

不僅需要*，更需要光刻膠**

為了生產(chǎn)高純度、高質(zhì)量的光刻膠，需要高純度的配方原料，例如光刻樹脂，溶劑PGMEA…此外，生產(chǎn)過程中的反應(yīng)釜鍍膜和金屬析出污染監(jiān)測也是至關(guān)重要的控制環(huán)節(jié)。例如，2019年，某家半導(dǎo)體制造公司由于光刻膠受到光阻原料的污染，導(dǎo)致上萬片12吋晶圓報廢

2023-11-27 17:15:48

550

一種突破帶寬和尺寸限制的高性能準(zhǔn)消色差超透鏡

近日，浙江大學(xué)光電科學(xué)與工程學(xué)院馬耀光研究員團隊，在高性能消色差超透鏡領(lǐng)域取得了新進展。

2023-11-21 15:55:31

627

西隴科學(xué)9天8板，回應(yīng)稱“未生產(chǎn)、銷售光刻膠”

　20日，西隴科學(xué)（株）發(fā)布公告稱，該公司沒有生產(chǎn)銷售礦產(chǎn)品。公司生產(chǎn)及銷售用于清洗劑、顯影液、剝離液等的光刻膠，占公司營業(yè)收入的比例，是目前用于上述用途的光刻膠配套。

2023-11-21 14:54:57

315

鼎龍（仙桃）半導(dǎo)體材料產(chǎn)業(yè)園投產(chǎn)

據(jù)鼎龍控股集團消息，鼎龍（仙桃）半導(dǎo)體材料產(chǎn)業(yè)園區(qū)占地218畝，建筑面積11.5萬平方米，項目總投資約10億元人民幣。經(jīng)過15個月的建設(shè)，同時進入千噸級半導(dǎo)體oled面板光刻膠（pspi）、萬噸級cmp拋光液（slurry）和萬噸級cmp拋光液用納米粒子研磨法等

2023-11-17 10:56:40

693

光刻膠黏度如何測量？光刻膠需要稀釋嗎？

光刻膠在未曝光之前是一種黏性流體，不同種類的光刻膠具有不同的黏度。黏度是光刻膠的一項重要指標(biāo)。那么光刻膠的黏度為什么重要？黏度用什么表征？哪些光刻膠算高黏度，哪些算低黏度呢？

2023-11-13 18:14:11

570

“六赴”進博會！高通和AMD展示最新處理器，見證AI賦能終端新進程

11月6日到11月10日，在第六屆中國國際進口博覽會期間，來自美國的半導(dǎo)體企業(yè)高通、AMD都集中展示了其AI技術(shù)和處理器芯片在手機、PC、智能汽車領(lǐng)域賦能終端最新進展。

2023-11-10 11:24:41

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匯芯半導(dǎo)體突破功率半導(dǎo)體芯片“卡脖子”技術(shù)

站在半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的時代風(fēng)口，來自佛山的科創(chuàng)力量正在崛起，力合科創(chuàng)（佛山）科技園投資企業(yè)——廣東匯芯半導(dǎo)體有限公司（下稱“匯芯半導(dǎo)體”）就是其中一個代表。

2023-11-10 09:58:50

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顛覆性技術(shù)!半導(dǎo)體行業(yè)再放大招!

顛覆性技術(shù)!半導(dǎo)體行業(yè)再放大招! 近日，日本佳能官方發(fā)布納米壓印(NIL)半導(dǎo)體制造設(shè)備未來，或?qū)⑻娲鶤SML光刻機成為更低成本的芯片制造設(shè)備! 要知道，半導(dǎo)體是目前全球經(jīng)濟的核心，在中國

2023-11-08 15:57:14

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國星光電LED器件封裝及其應(yīng)用產(chǎn)品項目最新進展

近日，國星光電LED器件封裝及其應(yīng)用產(chǎn)品項目傳來新進展。

2023-11-03 14:19:35

418

半導(dǎo)體關(guān)鍵材料光刻膠市場格局發(fā)展現(xiàn)狀

生產(chǎn)光刻膠的原料包括光引發(fā)劑（光增感劑、光致產(chǎn)酸劑幫助其更好發(fā)揮作用）、樹脂、溶劑和其他添加劑等，我國由于資金和技術(shù)的差距，如感光劑、樹脂等被外企壟斷，所以光刻膠自給能力不足。

2023-11-01 15:51:48

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2023中國（蘇州）半導(dǎo)體光電及激光智能制造技術(shù)會議在蘇州開幕！

10月27日半導(dǎo)體光電及激光智能制造技術(shù)會議在蘇州西交利物浦國際會議中心開幕！本屆大會以“以光為引?創(chuàng)芯未來”為主題，由中國科學(xué)院半導(dǎo)體研究所、蘇州納米科技發(fā)展有限公司、長三角G60科創(chuàng)走廊激光產(chǎn)業(yè)

2023-10-28 08:29:25

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高端電子半導(dǎo)體封裝膠水介紹

前不久華為mate60手機的技術(shù)突破，極大振奮了中國半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)發(fā)展的信心，中國半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)必將迎來更加高速的發(fā)展，而當(dāng)前，我國半導(dǎo)體材料國產(chǎn)化進程正處于加速發(fā)展的歷史

2023-10-27 08:10:46

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半導(dǎo)體制造領(lǐng)域光刻膠的作用和意義

光刻是半導(dǎo)體加工中最重要的工藝之一，決定著芯片的性能。光刻占芯片制造時間的40%-50%，占其總成本的30%。光刻膠是光刻環(huán)節(jié)關(guān)鍵耗材，其質(zhì)量和性能與電子器件良品率、器件性能可靠性直接相關(guān)。

2023-10-26 15:10:24

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具有獨特底部輪廓的剝離光刻膠的開發(fā)

金屬圖案的剝離方法已廣泛應(yīng)用于各種電子器件的制造過程中，如半導(dǎo)體封裝、MEMS和LED的制造。與傳統(tǒng)的金屬刻蝕方法不同的是，采用剝離法的優(yōu)點是節(jié)省成本和工藝簡化。在剝離過程中，經(jīng)過涂層、曝光和開發(fā)過程后，光刻膠會在晶片上形成圖案。

2023-10-25 10:40:05

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光學(xué)光刻技術(shù)有哪些分類光刻技術(shù)的原理

光學(xué)光刻是通過廣德照射用投影方法將掩模上的大規(guī)模集成電路器件的結(jié)構(gòu)圖形畫在涂有光刻膠的硅片上，通過光的照射，光刻膠的成分發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，從而生成電路圖。限制成品所能獲得的最小尺寸與光刻系統(tǒng)能獲得的分辨率直接相關(guān)，而減小照射光源的波長是提高分辨率的最有效途徑。

2023-10-24 11:43:15

271

安光所在實現(xiàn)散粒噪聲極限激光外差光譜探測研究方面獲得新進展

近日，中國科學(xué)院合肥物質(zhì)院安光所高曉明研究員團隊在實現(xiàn)免基線標(biāo)定的散粒噪聲極限激光外差光譜探測方面取得新進展，相關(guān)研究成果以《基于摻鉺光纖放大器(EDFA)實現(xiàn)散粒噪聲極限激光外差輻射計(LHR

2023-10-19 09:04:22

339

半導(dǎo)體制造之光刻原理、工藝流程

光刻膠作為影響光刻效果核心要素之一，是電子產(chǎn)業(yè)的關(guān)鍵材料。光刻膠由溶劑、光引發(fā)劑和成膜樹脂三種主要成分組成，是一種具有光化學(xué)敏感性的混合液體。其利用光化學(xué)反應(yīng)，經(jīng)曝光、顯影等光刻工藝，將所需要的微細圖形從掩模版轉(zhuǎn)移到待加工基片上，是用于微細加工技術(shù)的關(guān)鍵性電子化學(xué)品。

2023-10-09 14:34:49

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VisionFive 2 AOSP最新進展即將發(fā)布！

非常開心地在這里和大家提前預(yù)告，我們即將發(fā)布VisionFive 2 集成 AOSP的最新進展！請大家多多期待吧~ 此次通過眾多社區(qū)成員的支持和貢獻(https://github.com

2023-10-08 09:15:13

科通技術(shù)創(chuàng)業(yè)板IPO迎來新進展！募資20億擴充芯片分銷產(chǎn)品線

電子發(fā)燒友網(wǎng)報道（文/ 劉靜）創(chuàng)業(yè)板IPO已受理一年有余的深圳市科通技術(shù)股份有限公司（以下簡稱：科通技術(shù)），近日迎來新進展，回復(fù)深交所第二輪問詢，并披露新一版招股說明書。科通技術(shù)本次公開

2023-09-27 17:20:08

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科通技術(shù)創(chuàng)業(yè)板IPO迎來新進展！募資20億擴充芯片分銷產(chǎn)品線

電子發(fā)燒友網(wǎng)報道（文/劉靜）創(chuàng)業(yè)板IPO已受理一年有余的深圳市科通技術(shù)股份有限公司（以下簡稱：科通技術(shù)），近日迎來新進展，回復(fù)深交所第二輪問詢，并披露新一版招股說明書。 ? 科通技術(shù)本次公開

2023-09-27 00:08:00

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2023汽車半導(dǎo)體生態(tài)峰會即將開幕！思爾芯如何探索汽車電子的未來

日至27日，在深圳會展中心盛大舉行。本次峰會匯集了業(yè)界先鋒企業(yè)和技術(shù)高手，共同探討汽車電子和半導(dǎo)體技術(shù)的最新進展。作為業(yè)內(nèi)知名的數(shù)字EDA專家，思爾芯受邀參加本次

2023-09-20 08:25:17

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主營消費電子類連接器銘基高科IPO獲新進展

近日，消費電子連接器企業(yè)銘基高科再次更新招股書內(nèi)容，就深交所第一輪問詢進行了答復(fù)，沖刺創(chuàng)業(yè)板IPO獲得新進展。近日，連接器企業(yè)廣東銘基高科電子有限公司(以下簡稱銘基高科)回復(fù)了深交所第一輪問詢

2023-09-14 10:57:59

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意法半導(dǎo)體工業(yè)峰會2023

▌峰會簡介第五屆意法半導(dǎo)體工業(yè)峰會即將啟程，現(xiàn)我們敬邀您蒞臨現(xiàn)場，直擊智能熱點，共享前沿資訊，通過意法半導(dǎo)體核心技術(shù)，推動加快可持續(xù)發(fā)展計劃，實現(xiàn)突破性創(chuàng)新~報名鏈接：https

2023-09-11 15:43:36

EUV光刻膠開發(fā)面臨哪些挑戰(zhàn)？

EUV光刻膠材料是光敏物質(zhì)，當(dāng)受到EUV光子照射時會發(fā)生化學(xué)變化。這些材料在解決半導(dǎo)體制造中的各種挑戰(zhàn)方面發(fā)揮著關(guān)鍵作用，包括提高靈敏度、控制分辨率、減少線邊緣粗糙度（LER）、降低釋氣和提高熱穩(wěn)定性。

2023-09-11 11:58:42

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半導(dǎo)體制造工藝之光刻工藝詳解

半導(dǎo)體制造工藝之光刻工藝詳解

2023-08-24 10:38:54

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浸沒式光刻，拯救摩爾定律

2000年代初，芯片行業(yè)一直致力于從193納米氟化氬（ArF）光源光刻技術(shù)過渡到157納米氟（F 2 ）光源光刻技術(shù)。

2023-08-23 10:33:46

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年產(chǎn)千噸電子級光刻膠原材料，微芯新材生產(chǎn)基地簽約湖州

湖州國資消息，寧波微芯新材料科技有限公司的半導(dǎo)體材料生產(chǎn)基地項目總投資3.5億元人民幣，用地35畝，年產(chǎn)1000噸的電子級光刻膠原材料（光刻膠樹脂、高等級單體等核心材料）基地建設(shè)?！比窟_到，預(yù)計年產(chǎn)值可達到約5億元。

2023-08-21 11:18:26

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三大MLED項目“動起來” Mini LED項目傳來最新進展

日前，博敏電子與穿越光電等企業(yè)有關(guān)Mini LED的項目傳來最新進展。

2023-08-14 14:15:31

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先楫半導(dǎo)體使用上怎么樣？

先楫半導(dǎo)體使用上怎么樣？

2023-08-08 14:56:29

光刻技術(shù)概述及其分類

光刻是一種圖像復(fù)制技術(shù)，是集成電路工藝中至關(guān)重要的一項工藝。簡單地說，光刻類似照相復(fù)制方法，即將掩膜版上的圖形精確地復(fù)制到涂在硅片表面的光刻膠或其他掩蔽膜上面，然后在光刻膠或其他掩蔽膜的保護下對硅片進行離子注入、刻蝕、金屬蒸鍍等。

2023-08-07 17:52:53

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常溫超導(dǎo)最新進展韓國室溫超導(dǎo)體“LK-99”撤回論文

常溫超導(dǎo)最新進展 韓國室溫超導(dǎo)體“LK-99”撤回論文有業(yè)界人士認為超導(dǎo)跟人工智能一樣都能被視為第四次工業(yè)革命的奇點，近期室溫超導(dǎo)概念非?；鸨覀円黄鹂纯闯爻瑢?dǎo)最新進展。上一次室溫超導(dǎo)

2023-08-02 17:22:53

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安光所在時間分辨頻率調(diào)制磁旋光譜脈沖激光術(shù)方面取得新進展

近日，中國科學(xué)院合肥物質(zhì)院安光所張為俊研究員團隊在時間分辨頻率調(diào)制磁旋轉(zhuǎn)光譜探測技術(shù)方面取得新進展，相關(guān)研究成果以《用于OH自由基時間分辨測量的高帶寬中紅外頻率調(diào)制磁旋轉(zhuǎn)光譜儀》為題發(fā)表于美國光學(xué)學(xué)會（OSA）出版的Optics Express上。

2023-08-02 11:38:19

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又一批半導(dǎo)體項目上馬！

來源：全球半導(dǎo)體觀察編輯：感知芯視界近日，半導(dǎo)體行業(yè)又一批項目迎來最新進展，范圍涉及車規(guī)級模塊、功率器件、半導(dǎo)體設(shè)備零部件、半導(dǎo)體材料等。瑞能車規(guī)級模塊生產(chǎn)線項目一期投產(chǎn) 據(jù)灣區(qū)高新

2023-07-31 14:09:17

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ASML*的最新進展**

、與 Mike在SEMICON 上的一些討論以及 ASML 最近的財報電話會議中的一些內(nèi)容。以分享了ASML光刻機的最新進展。

2023-07-30 10:39:21

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半導(dǎo)體制造會被日本斷血嗎？

日本在半導(dǎo)體界一直以設(shè)備和材料笑傲群雄，2019年一則禁令一度扼住韓國半導(dǎo)體喉嚨，涉及材料包括高純氟化氫、氟聚酰亞胺、感光劑光刻膠，直到幾個月前，受傷的雙方才握手言和。

2023-07-27 09:54:55

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【AI簡報20230714期】人工智能在日常生活中的應(yīng)用，國產(chǎn)AI芯片最新進展公布！

1. 大模型時代，國產(chǎn)AI芯片最新進展！算力集群化是必然趨勢原文： https://mp.weixin.qq.com/s/k-InpBMMJTUltuMcB2hKSg 在剛過去的2023世界人

2023-07-14 20:40:02

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光刻掩膜版測溫儀，光刻機曝光光學(xué)系統(tǒng)測溫儀

GK-1000光刻掩膜版測溫儀，光刻機曝光光學(xué)系統(tǒng)測溫儀光刻機是一種用于微納米加工的設(shè)備，主要用于制造集成電路、光電子器件、MEMS（微機電系統(tǒng)）等微細結(jié)構(gòu)。光刻機是一種光學(xué)投影技術(shù)，通過將光線通過

2023-07-07 11:46:07

虹科案例 | 用于低成本改造光刻設(shè)備的UV紫外光源

? ? 紫外光刻和曝光是半導(dǎo)體行業(yè)生產(chǎn)各種高端芯片、微觀電路結(jié)構(gòu)的核心技術(shù)。在紫外光刻過程中，光源發(fā)射的紫外線通過掩模上的微小透鏡或光柵，然后投射到光刻膠層上，形成所需的微細圖案。長期以來

2023-07-05 10:11:24

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PMD在獲得鏡面三維形狀方面的最新進展

0摘要相位測量偏轉(zhuǎn)法（PMD）具有動態(tài)范圍大、非接觸式操作、全場測量、采集速度快、精度高、自動數(shù)據(jù)處理。我們回顧了 PMD 的最新進展。下面介紹幾種基于條紋反射的 PMD 方法，介紹 PMD

2023-06-29 10:01:24

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日本光刻膠巨頭JSR同意國家收購

JSR 是全球僅有的四家 EUV 光刻膠供應(yīng)商之一，其產(chǎn)品是制造先進芯片必不可少的原料。

2023-06-27 15:51:21

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?龍芯案有了新進展

根據(jù)龍芯中科招股書披露，公司與MIPS公司于2011年、2017年簽署了MIPS技術(shù)許可合同，獲得了研發(fā)、生產(chǎn)、銷售基于MIPS指令系統(tǒng)的芯片許可等權(quán)利，且公司有權(quán)定期支付許可費直接延續(xù)MIPS指令系統(tǒng)的許可。

2023-06-27 15:44:54

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科友半導(dǎo)體突破8英寸SiC量產(chǎn)關(guān)鍵技術(shù)

科友半導(dǎo)體突破了8英寸SiC量產(chǎn)關(guān)鍵技術(shù)，在晶體尺寸、厚度、缺陷控制、生長速率、制備成本、及裝備穩(wěn)定性等方面取得可喜成績。2023年4月，科友半導(dǎo)體8英寸SiC中試線正式貫通并進入中試線生產(chǎn)，打破了國際在寬禁帶半導(dǎo)體關(guān)鍵材料的限制和封鎖。

2023-06-25 14:47:29

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突破氮化鎵功率半導(dǎo)體的速度限制

突破GaN功率半導(dǎo)體的速度限制

2023-06-25 07:17:49

光刻中承上啟下的半導(dǎo)體掩膜版

電子發(fā)燒友網(wǎng)報道（文/周凱揚）在上游的半導(dǎo)體制造產(chǎn)業(yè)中，除了光刻機等設(shè)備外，光刻膠、掩膜版等材料也是決定晶圓質(zhì)量與良率的關(guān)鍵因素。就拿掩膜版來說，這個承載設(shè)計圖形的材料，經(jīng)過曝光后將圖形信息轉(zhuǎn)移到

2023-06-22 01:27:00

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2023汽車電子創(chuàng)新技術(shù)研討會圓滿落幕：探討汽車電子的最新進展、應(yīng)用趨勢與挑戰(zhàn)

、凌鷗創(chuàng)芯（晶豐明源）、順絡(luò)電子、芯科集成、華邦電子、茂睿芯、芯派科技、芯?？萍?、東方中科等多家國內(nèi)外知名企業(yè)的專家和領(lǐng)導(dǎo)共同參與，探討汽車電子創(chuàng)新技術(shù)的最新進展、應(yīng)用趨勢和挑戰(zhàn)。會議干貨滿滿，現(xiàn)場精彩紛呈?。?！ ? ? 會議的開始，電子發(fā)燒友網(wǎng)

2023-06-14 17:41:58

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光刻膠國內(nèi)頭部企業(yè)阜陽欣奕華完成超5億元D輪融資

領(lǐng)投，中電中金、建投投資、合肥創(chuàng)新投、阜合基金、阜芯光電、物產(chǎn)中大、海智投資、龍鼎資本、齊芯資本、嘉和盛、上海昱熒等跟投。光源資本擔(dān)任獨家財務(wù)顧問。本輪資金用于進一步加大光刻膠、OLED 材料的研發(fā)與擴大再生產(chǎn)，提升企業(yè)核心競爭力，以搶

2023-06-13 16:40:00

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碳納米管薄膜光探測器最新進展

、碳納米管薄膜紅外探測器以及碳納米管光電集成研究方面的最新進展。圖1 碳納米管探測器和光電集成碳納米管材料由于具有高紅外吸收系數(shù)（3×10? cm?1）、高遷移率（10? cm2 V s?1）、基底

2023-06-12 17:02:40

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總投資超300億！一批半導(dǎo)體項目最新盤點

來源：全球半導(dǎo)體觀察，謝謝近期半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)多個項目迎來最新進展，涉及范圍包括半導(dǎo)體材料、封裝、設(shè)計、制造、設(shè)備，功率半導(dǎo)體、第三代半導(dǎo)體等。編輯：感知芯視界總投資30億，同興達半導(dǎo)體封裝項目簽約

2023-06-12 09:37:08

831

半導(dǎo)體制備的主要方法

光刻法是微電子工藝中的核心技術(shù)之一，常用于形成半導(dǎo)體設(shè)備上的微小圖案。過程開始于在硅片上涂布光刻膠，隨后對其進行預(yù)熱。接著，選擇一種光源（如深紫外光或X光）透過預(yù)先設(shè)計好的掩模圖案照射在硅片

2023-06-09 11:36:52

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***突破之路漫長

光刻機是半導(dǎo)體制造領(lǐng)域的核心設(shè)備之一，其發(fā)展過程當(dāng)然是半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)發(fā)展的重要組成部分。雖然我們在網(wǎng)上經(jīng)常可以看到光刻機的突破性地圖，但事實上，從光刻機的概念萌芽到目前的技術(shù)發(fā)展和大量生產(chǎn)，其發(fā)展過程是漫長而艱辛的。

2023-06-08 09:30:07

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半導(dǎo)體企業(yè)如何決勝2023秋招？

;amp;做高ROI秋招策略 2、半導(dǎo)體行業(yè)人才資源趨勢 3、高端人才校招：雇主品牌與效能提升！未來一年贏在高端人才校招！主講人介紹黃博同復(fù)醒科技CEO·復(fù)旦大學(xué)微電子博士主講人黃博同先生

2023-06-01 14:52:23

清華大學(xué)在超快激光微納制造領(lǐng)域獲得新進展

近日，清華大學(xué)機械系在超快激光微納制造領(lǐng)域獲得新進展，提出了基于超快激光等離激元分子調(diào)節(jié)實現(xiàn)自下而上的微納功能器件加工制造策略，并揭示了激光誘導(dǎo)等離激元與材料的非線性作用機理，利用超快激光激發(fā)納米腔等離激元效應(yīng)

2023-05-31 14:38:11

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采用光刻膠犧牲層技術(shù)改善薄膜電路制備工藝

改善之后的工藝與之前最大的區(qū)別在于使用光刻膠充當(dāng)濺射的掩膜，在電鍍之前將電路圖形高精度的制備出來，不再進行濕法刻蝕，避免了側(cè)腐蝕對線條精度和膜基結(jié)合力的影響，同時，基板只浸入丙酮中一次以去除光刻膠，避免了大量溶液的使用

2023-05-16 09:40:35

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一文講透光刻膠及芯片制造關(guān)鍵技術(shù)

在集成電路制造領(lǐng)域，如果說光刻機是推動制程技術(shù)進步的“引擎”，光刻膠就是這部“引擎”的“燃料”。

2023-05-13 11:28:38

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半導(dǎo)體所在非共線反鐵磁自旋調(diào)控研究中取得新進展

最近，半導(dǎo)體所半導(dǎo)體超晶格國家重點實驗室的王開友課題組與南方科技大學(xué)盧海舟教授合作，在無重金屬電流注入的條件下，利用Mn3Sn自身非平衡局域自旋積累實現(xiàn)了非共線反鐵磁外爾半金屬的無外場磁化翻轉(zhuǎn)

2023-05-11 16:45:47

966

全面解讀光刻膠工藝制造流程

光刻膠可以通過光化學(xué)反應(yīng)，經(jīng)曝光、顯影等光刻工序?qū)⑺枰奈⒓殘D形從光罩（掩模版）轉(zhuǎn)移到待加工基片上。依據(jù)使用場景，這里的待加工基片可以是集成電路材料，顯示面板材料或者印刷電路板。

2023-05-11 16:10:49

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紫光建廣半導(dǎo)體科技園/12英寸晶圓生產(chǎn)線...一批半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)項目迎來新進展

來源：全球半導(dǎo)體觀察，謝謝國內(nèi)又一批產(chǎn)業(yè)項目也迎來了新的進展。編輯：感知芯視界當(dāng)前，盡管半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)正處于行業(yè)下行周期，但在新能源汽車、光伏電能、5G通訊、物聯(lián)網(wǎng)、大數(shù)據(jù)等新興應(yīng)用的推動下，全球

2023-05-10 10:21:12

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EUV光刻的無名英雄

晶圓廠通常使用光刻膠來圖案化抗蝕刻硬掩模，然后依靠硬掩模來保護晶圓。但是，如果光刻膠太薄，它可能會在第一個轉(zhuǎn)移步驟完成之前被侵蝕掉。隨著光刻膠厚度的減小，底層厚度也應(yīng)該減小。

2023-04-27 16:25:00

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光刻技術(shù)的種類介紹

根據(jù)維基百科的定義，光刻是半導(dǎo)體器件制造工藝中的一個重要步驟，該步驟利用曝光和顯影在光刻膠層上刻畫幾何圖形結(jié)構(gòu)，然后通過刻蝕工藝將光掩模上的圖形轉(zhuǎn)移到所在襯底上。這里所說的襯底不僅包含硅晶圓，還可以是其他金屬層、介質(zhì)層，例如玻璃、SOS中的藍寶石。

2023-04-25 11:11:33

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光刻技術(shù)簡述

光刻技術(shù)是將掩模中的幾何形狀的圖案轉(zhuǎn)移到覆蓋在半導(dǎo)體晶片表面的薄層輻射敏感材料（稱為抗蝕劑）上的過程

2023-04-25 09:55:13

1057

負光刻膠顯影殘留原因

151n光刻膠曝光顯影后開口底部都會有一撮殘留，找不到原因。各位幫分析下

2023-04-20 13:13:52

淺談EUV光刻中的光刻膠和掩模等材料挑戰(zhàn)

新的High NA EUV 光刻膠不能在封閉的研究環(huán)境中開發(fā)，必須通過精心設(shè)計的底層、新型硬掩模和高選擇性蝕刻工藝進行優(yōu)化以獲得最佳性能。為了迎接這一挑戰(zhàn)，imec 最近開發(fā)了一個新的工具箱來匹配光刻膠和底層的屬性。

2023-04-13 11:52:12

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高端光刻膠通過認證已經(jīng)用于50nm工藝

此前該公司指出，公司已建成年產(chǎn)5噸ArF干式光刻膠生產(chǎn)線、年產(chǎn)20噸ArF浸沒式光刻膠生產(chǎn)線及年產(chǎn)45噸的光刻膠配套高純試劑生產(chǎn)線，具備ArF光刻膠及配套關(guān)鍵組分材料的生產(chǎn)能力，目前公司送樣驗證的產(chǎn)品均由該自建產(chǎn)線產(chǎn)出。

2023-04-11 09:25:32

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中國科大在多頻率微波傳感領(lǐng)域取得新進展

近日，中國科學(xué)技術(shù)大學(xué)郭光燦院士團隊在多頻率微波傳感領(lǐng)域取得新進展。教授史保森、丁冬生課題組利用人工智能的方法，實現(xiàn)了基于里德堡原子多頻率微波的精密探測。相關(guān)成果4月14日發(fā)表于《自然-通訊》。圖為

2023-04-06 14:33:39

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江波龍與深圳晶存商業(yè)秘密案件最新進展，仍處于一審程序，相關(guān)司法鑒定進行中

3月31日，江波龍在回答投資者關(guān)于公司與深圳晶存公司的商業(yè)秘密案件進展情況，何時會有結(jié)果以及對公司的影響等問題時，公開了這起案件的最新進展。 ? ? 江波龍于2020年6月以被告深圳市

2023-04-03 10:03:14

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被卡脖子的半導(dǎo)體設(shè)備（萬字深度報告）

光刻是將設(shè)計好的電路圖從掩膜版轉(zhuǎn)印到晶圓表面的光刻膠上，通過曝光、顯影將目標(biāo)圖形印刻到特定材料上的技術(shù)。光刻工藝包括三個核心流程：涂膠、對準(zhǔn)和曝光以及光刻膠顯影，整個過程涉及光刻機，涂膠顯影機、量測設(shè)備以及清洗設(shè)備等多種核心設(shè)備，其中價值量最大且技術(shù)壁壘最高的部分就是光刻機。

2023-03-25 09:32:39

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湖南科技大學(xué)材料學(xué)院在半導(dǎo)體器件散熱領(lǐng)域取得新進展

氮化鎵（GaN）作為第三代半導(dǎo)體材料，在電力電子器件、大功率射頻器件、短波長光電器件以及5G通訊等領(lǐng)域具有硅半導(dǎo)體無法比擬的優(yōu)勢。然而，散熱問題是制約其發(fā)展和應(yīng)用的瓶頸。通常氮化鎵需要氮化鋁（AlN）作為過渡層連接到具有高導(dǎo)熱系數(shù)的襯底上。

2023-03-24 10:37:04

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