10月15日，據(jù)國(guó)外媒體報(bào)道，目前全球頂尖的光刻機(jī)生產(chǎn)商ASML正在研發(fā)第三款EUV光刻機(jī)，并計(jì)劃于明年年中出貨。 從其所公布的信息來(lái)看，新款光刻機(jī)型號(hào)命名為TWINSCAN NXE:3600D
2020-10-17 05:02:00
3456 對(duì)于如今的半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)而言，EUV光刻機(jī)是打造下一代邏輯和DRAM工藝技術(shù)的關(guān)鍵所在，為了在未來(lái)的工藝軍備競(jìng)賽中保持優(yōu)勢(shì)，臺(tái)積電、三星和英特爾等廠商紛紛花重金購(gòu)置EUV光刻機(jī)。 ? 然而，當(dāng)這些來(lái)自
2022-07-22 07:49:002403 EUV 作為現(xiàn)在最先進(jìn)的光刻機(jī)，是唯一能夠生產(chǎn) 7nm 以下制程的設(shè)備，因?yàn)樗l(fā)射的光線波長(zhǎng)僅為現(xiàn)有設(shè)備的十五分之一，能夠蝕刻更加精細(xì)的半導(dǎo)體電路，所以 EUV 也被成為“突破摩爾定律的救星
2018-05-17 09:22:2010936 他們正在研發(fā)下一代極紫外光刻機(jī)的，計(jì)劃在2022年年初開始出貨，2024/2025年大規(guī)模生產(chǎn)。 在EUV光刻機(jī)方面，荷蘭ASML（阿斯麥）公司壟斷了目前的EUV光刻機(jī)，去年出貨26臺(tái)，創(chuàng)造了新紀(jì)錄。據(jù)報(bào)道，ASML公司正在研發(fā)新一代EUV光刻機(jī)，預(yù)計(jì)在2022年開始出貨。根據(jù)
2020-03-18 09:16:392659 根據(jù)最新數(shù)據(jù)顯示，ASML在12月中完成了第100臺(tái)EUV光刻機(jī)的出貨。更加利好的消息是，業(yè)內(nèi)預(yù)估ASML今年（2021年）的EUV光刻機(jī)產(chǎn)能將達(dá)到45~50臺(tái)的規(guī)模。
2021-01-03 00:28:004735 ，我國(guó)因?yàn)橘Q(mào)易條約被遲遲卡住不放行的也是一臺(tái)EUV光刻機(jī)。 ? 但EUV光刻機(jī)的面世靠的不僅僅是ASML一家的努力，還有蔡司和TRUMPF（通快）兩家歐洲光學(xué)巨頭的合作才得以成功。他們的技術(shù)分別為EUV光刻機(jī)的鏡頭和光源做出了不小的貢獻(xiàn)，也讓歐洲成了唯一
2021-12-01 10:07:4110988 盡管ASML作為目前占據(jù)主導(dǎo)地位的光刻機(jī)廠商，憑借獨(dú)有的EUV光刻機(jī)一騎絕塵，主導(dǎo)著半數(shù)以上的市場(chǎng)份額，但這并不代表著其他光刻機(jī)廠商也就“聽(tīng)天由命”了。以兩大國(guó)外光刻機(jī)廠商尼康和佳能為例，他們就仍在
2022-11-24 01:57:004865 電子發(fā)燒友網(wǎng)報(bào)道（文/周凱揚(yáng)）到了3nm這個(gè)工藝節(jié)點(diǎn)之后，單靠現(xiàn)有的0.33NA EUV光刻機(jī)就很難維系下去了。為了實(shí)現(xiàn)2nm乃至未來(lái)的埃米級(jí)工藝，將晶體管密度推向1000MTr/mm2，全面
2022-12-07 01:48:002199 2020年全球十大突破技術(shù)，2018-12-28 08:11:39盤點(diǎn)這一年的核心技術(shù)：22納米光刻機(jī)、450公斤人造藍(lán)寶石、0.12毫米玻璃、大型航天器回收、盾構(gòu)機(jī)“棄殼返回”、遠(yuǎn)距離虹膜識(shí)別
2021-07-28 09:17:55
，購(gòu)買或者開發(fā)EUV光刻機(jī)是否必要？中國(guó)應(yīng)如何切實(shí)推進(jìn)半導(dǎo)體設(shè)備產(chǎn)業(yè)的發(fā)展？EUV面向7nm和5nm節(jié)點(diǎn)所謂極紫外光刻，是一種應(yīng)用于現(xiàn)代集成電路制造的光刻技術(shù)，它采用波長(zhǎng)為10～14納米的極紫外光作為
2017-11-14 16:24:44
`光刻機(jī)MPA500FAb用光柵尺傳感器(掃描部位)供應(yīng)。型號(hào)：SONY SR-721 150mm SCALE UNIT with HK-105C`
2020-01-31 18:04:14
）光刻技術(shù)，而GlobalFoundries當(dāng)年也曾經(jīng)研究過(guò)7nm EUV工藝，只不過(guò)現(xiàn)在已經(jīng)放棄了?！ 《褂脴O紫外光（EUV）作為光源的光刻機(jī)就是EUV光刻機(jī)，當(dāng)然這絕對(duì)不是單純只換個(gè)光源這么簡(jiǎn)單
2020-07-07 14:22:55
！光刻機(jī)本身的原理，其實(shí)和相機(jī)非常相似，同學(xué)們可以把光刻機(jī)就想成是一臺(tái)巨大的單反相機(jī)。相機(jī)的原理，是被攝物體被光線照射所反射的光線，透過(guò)相機(jī)的鏡頭，將影像投射并聚焦在相機(jī)的底片（感光元件）上，如此便可
2020-09-02 17:38:07
`現(xiàn)在處理一批MA-1200光刻機(jī)的零件，有需要的朋友請(qǐng)直接聯(lián)系我：137-3532-3169`
2020-02-06 16:24:39
是分步投影光刻機(jī).利用分步投影光刻機(jī),再結(jié)合移相掩膜等技術(shù),已經(jīng)得到了最小線寬0.10微米的圖形。 ◆接近式暴光與接觸式暴光相似,只是在暴光時(shí)硅片和掩膜版之間保留有很小的間隙,這個(gè)間隙一般在10~25
2012-01-12 10:56:23
深圳大學(xué)現(xiàn)代通信技術(shù)測(cè)試題目錄簡(jiǎn)述1到4G特點(diǎn)（從代表的系統(tǒng)、主要技術(shù)及傳輸?shù)闹笜?biāo)三方面）： 25G的主要KPI指標(biāo)（列表給出5個(gè)） 25G的主要核心技術(shù)（給出10個(gè)） 35G手機(jī)（華為mate30
2021-07-26 08:31:09
單片機(jī)應(yīng)用的核心技術(shù)是什么？單片機(jī)神奇的工作原理是什么？匯編語(yǔ)言很難學(xué)怎么辦？
2021-11-02 06:17:40
。如，美國(guó)的高通、博通、AMD，中國(guó)***的聯(lián)發(fā)科，大陸的華為海思、展訊等。國(guó)內(nèi)單片機(jī)芯片：核心設(shè)備單片機(jī)芯片良品率取決于晶圓廠整體水平，但加工精度完全取決于核心設(shè)備，就是前面提到的“光刻機(jī)”。光刻機(jī)
2018-09-03 16:48:04
如果國(guó)家以兩彈一星的精神投入光刻機(jī)的研發(fā)制造，結(jié)果會(huì)怎樣？
2020-06-10 19:23:14
EUV主要用于7nm及以下制程的芯片制造，光刻機(jī)作為集成電路制造中最關(guān)鍵的設(shè)備，對(duì)芯片制作工藝有著決定性的影響，被譽(yù)為“超精密制造技術(shù)皇冠上的明珠”，根據(jù)之前中芯國(guó)際的公報(bào)，目...
2021-07-29 09:36:46
GK-1000光刻掩膜版測(cè)溫儀，光刻機(jī)曝光光學(xué)系統(tǒng)測(cè)溫儀光刻機(jī)是一種用于微納米加工的設(shè)備，主要用于制造集成電路、光電子器件、MEMS（微機(jī)電系統(tǒng)）等微細(xì)結(jié)構(gòu)。光刻機(jī)是一種光學(xué)投影技術(shù)，通過(guò)將光線通過(guò)
2023-07-07 11:46:07
進(jìn)入10nm工藝節(jié)點(diǎn)之后，EUV光刻機(jī)越來(lái)越重要，全球能產(chǎn)EUV光刻機(jī)的就是荷蘭ASML公司了，他們總共賣出18臺(tái)EUV光刻機(jī)，總價(jià)值超過(guò)20億歐元，折合每套系統(tǒng)售價(jià)超過(guò)1億歐元，可謂價(jià)值連城。
2017-01-19 18:22:593470 EUV光刻機(jī)的唯一供應(yīng)商ASML在2017年度Semicon West半導(dǎo)體設(shè)備展上也表示，250瓦的EUV光源也萬(wàn)事俱備。公司2017年財(cái)報(bào)中也強(qiáng)調(diào)，其EUV光刻機(jī)滿足了125WPH（每小時(shí)生產(chǎn)
2018-01-23 14:51:008018 
前不久，中芯國(guó)際花重金訂購(gòu)了ASML的光刻機(jī)，將于2019年到貨。這邊，長(zhǎng)江存儲(chǔ)4.6億訂購(gòu)光刻機(jī)昨日到貨，運(yùn)抵武漢，我國(guó)兩家芯片公司先后訂購(gòu)光刻機(jī)，彰顯了核心技術(shù)領(lǐng)域努力追趕的決心。
2018-05-21 09:34:138475 光刻機(jī)，是半導(dǎo)體芯片生產(chǎn)中最重要的設(shè)備之一，荷蘭ASML公司已經(jīng)成為全球光刻機(jī)市場(chǎng)的一哥，壟斷了高端光科技生產(chǎn)，在EUV光刻機(jī)領(lǐng)域更是獨(dú)一份。
2018-07-19 16:52:002940 中國(guó)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的這些半導(dǎo)體核心技術(shù)仍待突破，頂尖光刻機(jī)；觸覺(jué)傳感器；DSP芯片；CPU；GPU；MPU；DRAM / NAND Flash；CPLD / FPGA；高端伺服電機(jī)；超高射頻芯片。
2018-09-01 09:59:0515455 年代的投影式光刻機(jī)，1980年代的步進(jìn)式光刻機(jī)，到步進(jìn)式掃描光刻機(jī)，到浸入式光刻機(jī)和現(xiàn)在的EUV光刻機(jī)，設(shè)備性能不斷提高，推動(dòng)集成電路按照摩爾定律往前發(fā)展?！ ?b class="flag-6" style="color: red">EUV作為下一代技術(shù)的代表，不需要多重曝光
2018-11-02 10:14:19834 ASML副總裁Anthony Yen表示，ASML已開始開發(fā)極紫外（EUV）光刻機(jī)，其公司認(rèn)為，一旦當(dāng)今的系統(tǒng)達(dá)到它們的極限，就將需要使用極紫外光刻機(jī)來(lái)繼續(xù)縮小硅芯片的特征尺寸。
2018-12-09 10:35:077142 光刻是芯片制造技術(shù)的主要環(huán)節(jié)之一。目前主流的芯片制造是基于193nm光刻機(jī)進(jìn)行的。但是193nm的光刻技術(shù)依然無(wú)法支撐40nm以下的工藝生產(chǎn)，為了突破工藝極限，廠商不得不將193nm液浸技術(shù)和各種
2019-04-03 17:26:554449 由于三星去年就小規(guī)模投產(chǎn)了7nm EUV，同時(shí)ASML（荷蘭阿斯麥）將EUV光刻機(jī)的年出貨量從18臺(tái)提升到今年的預(yù)計(jì)30臺(tái)，顯然促使臺(tái)積電不得不加快腳步。
2019-04-30 17:30:037913 掌握全球唯一EUV光刻機(jī)研發(fā)、生產(chǎn)的荷蘭ASML（阿斯麥）公司今天發(fā)布了2019年Q2季度財(cái)報(bào)，當(dāng)季營(yíng)收25.68億歐元，其中凈設(shè)備銷售額18.51億歐元，總計(jì)出貨了41臺(tái)光刻機(jī)，其中EUV光刻機(jī)7臺(tái)。
2019-07-18 16:02:003147 
掌握全球唯一EUV光刻機(jī)研發(fā)、生產(chǎn)的荷蘭ASML（阿斯麥）公司今天發(fā)布了2019年Q2季度財(cái)報(bào)，當(dāng)季營(yíng)收25.68億歐元，其中凈設(shè)備銷售額18.51億歐元，總計(jì)出貨了41臺(tái)光刻機(jī)，其中EUV光刻機(jī)7臺(tái)。
2019-07-23 10:47:213102 
格芯首席技術(shù)官Gary Patton表示，如果在5nm的時(shí)候沒(méi)有使用EUV光刻機(jī)，那么光刻的步驟將會(huì)超過(guò)100步，這會(huì)讓人瘋狂。所以所EUV光刻機(jī)無(wú)疑是未來(lái)5nm和3nm芯片的最重要生產(chǎn)工具，未來(lái)圍繞EUV光刻機(jī)的爭(zhēng)奪戰(zhàn)將會(huì)變得異常激烈。因?yàn)檫@是決定這些廠商未來(lái)在先進(jìn)工藝市場(chǎng)競(jìng)爭(zhēng)的關(guān)鍵。
2019-09-03 17:18:1812845 
據(jù)韓媒報(bào)道稱，ASML正積極投資研發(fā)下一代EUV光刻機(jī)，與現(xiàn)有光刻機(jī)相比，二代EUV光刻機(jī)最大的變化就是High NA透鏡，通過(guò)提升透鏡規(guī)格使得新一代光刻機(jī)的微縮分辨率、套準(zhǔn)精度兩大光刻機(jī)核心指標(biāo)提升70%，達(dá)到業(yè)界對(duì)幾何式芯片微縮的要求。
2019-08-07 11:24:395849 近些年來(lái)EUV光刻這個(gè)詞大家應(yīng)該聽(tīng)得越來(lái)越多，三星在去年發(fā)布的Exynos 9825 SoC就是首款采用7nm EUV工藝打造的芯片，臺(tái)積電的7nm+也是他們首次使用EUV光刻的工藝，蘋果的A13
2020-02-29 10:58:473149 近些年來(lái)EUV光刻這個(gè)詞大家應(yīng)該聽(tīng)得越來(lái)越多，三星在去年發(fā)布的Exynos 9825 SoC就是首款采用7nm EUV工藝打造的芯片，臺(tái)積電的7nm+也是他們首次使用EUV光刻的工藝，蘋果的A13
2020-02-29 11:42:4529308 據(jù)中國(guó)證券報(bào)報(bào)道，3月6日下午從中芯國(guó)際獲悉，日前中芯國(guó)際深圳工廠從荷蘭進(jìn)口了一臺(tái)大型光刻機(jī)，但這是設(shè)備正常導(dǎo)入，用于產(chǎn)能擴(kuò)充，并非外界所稱的EUV光刻機(jī)。
2020-03-07 10:55:144167 在EUV光刻機(jī)方面，荷蘭ASML（阿斯麥）公司壟斷了目前的EUV光刻機(jī)，去年出貨26臺(tái)，創(chuàng)造了新紀(jì)錄。據(jù)報(bào)道，ASML公司正在研發(fā)新一代EUV光刻機(jī)，預(yù)計(jì)在2022年開始出貨。
2020-03-17 09:13:482863 在EUV光刻機(jī)方面，荷蘭ASML（阿斯麥）公司壟斷了目前的EUV光刻機(jī)，去年出貨26臺(tái)，創(chuàng)造了新紀(jì)錄。據(jù)報(bào)道，ASML公司正在研發(fā)新一代EUV光刻機(jī)，預(yù)計(jì)在2022年開始出貨。
2020-03-17 09:21:194670 光刻機(jī)是中國(guó)在半導(dǎo)體設(shè)備制造上的大短板。 生產(chǎn)芯片的光刻機(jī)又根據(jù)工藝分為High End光刻機(jī)和Medium and low end光刻機(jī)，雖然在High End光刻機(jī)上被荷蘭的阿斯麥所壟斷，但在Medium and low end光刻機(jī)方面中國(guó)的技術(shù)已經(jīng)較為成熟，且不斷在向High End光刻機(jī)突破。
2020-06-15 08:05:54999 頂級(jí)光刻機(jī)有多難搞？ASML的光刻機(jī)，光一個(gè)零件他就調(diào)整了10年！拿荷蘭最新極紫外光EUV光刻機(jī)舉例，其內(nèi)部精密零件多達(dá)10萬(wàn)個(gè)，比汽車零件精細(xì)數(shù)十倍！
2020-07-02 09:38:3911513 與此同時(shí)， 他指出，EUV繼續(xù)為ASML的客戶提高產(chǎn)量，迄今為止，他們的客戶已經(jīng)使用EUV光刻機(jī)曝光了超過(guò)1100萬(wàn)個(gè)EUV晶圓，并交付了57個(gè)3400x EUV系統(tǒng)（3400平臺(tái)是EUV生產(chǎn)平臺(tái)）。
2020-08-14 11:20:552048 
施加壓力下，ASML沒(méi)有獲得續(xù)簽，因而本該在2018年就到貨的EUV光刻機(jī)無(wú)法完成交付給中芯國(guó)際。 近日中國(guó)外交部長(zhǎng)王毅在歐洲五國(guó)進(jìn)行訪問(wèn)，來(lái)到第二站荷蘭后，ASML EUV光刻機(jī)是否能出口至美國(guó)的問(wèn)題備受關(guān)注。彭博表示，中美關(guān)系日漸緊張，美國(guó)藉由封鎖華為開始
2020-09-10 14:19:112577 芯片制程已經(jīng)推進(jìn)到了7nm以下，這其中最關(guān)鍵的核心設(shè)備就要數(shù)EUV光刻機(jī)了，目前全世界只有荷蘭ASML（阿斯麥）可以制造。
2020-09-28 16:31:471631 荷蘭阿斯麥（ASML）公司的光刻機(jī)作為世界上最貴最精密的儀器，相信大家都有耳聞，它是加工芯片的設(shè)備。其最先進(jìn)的EUV（極紫外光）光刻機(jī)已經(jīng)能夠制造7nm以下制程的芯片，據(jù)說(shuō)一套最先進(jìn)的7納米EUV
2020-10-15 09:20:054438 最近光刻機(jī)十分火，我們經(jīng)常聽(tīng)到別人說(shuō)7納米光刻機(jī)、5納米光刻機(jī)，但其實(shí)嚴(yán)格意義上來(lái)說(shuō)并不存在7納米光刻機(jī)，5納米光刻機(jī)，我為什么會(huì)這樣說(shuō)呢？
2020-10-19 11:42:5120305 ASML的EUV光刻機(jī)是目前全球唯一可以滿足22nm以下制程芯片生產(chǎn)的設(shè)備，其中10nm及以下的芯片制造，EUV光刻機(jī)必不可缺。一臺(tái)EUV光刻機(jī)的售價(jià)為1.48億歐元，折合人民幣高達(dá)11.74億元
2020-10-19 12:02:499647 
11月5日，世界光刻機(jī)巨頭荷蘭阿斯麥ASML亮相第三屆進(jìn)博會(huì)。作為全球唯一能生產(chǎn)EUV（極紫外光）光刻機(jī)的企業(yè)，由于ASML目前仍不能向中國(guó)出口EUV光刻機(jī)，所以此次展示的是其DUV（深紫外光）光刻機(jī)。據(jù)悉，該產(chǎn)品可生產(chǎn)7nm及以上制程芯片。
2020-11-06 11:27:465517 作為半導(dǎo)體制造中的核心設(shè)備，光刻機(jī)無(wú)疑是芯片產(chǎn)業(yè)皇冠上的明珠，特別是先進(jìn)工藝的光刻機(jī)，7nm以下的都要依賴ASML公司，EUV光刻機(jī)他們還是獨(dú)一份。
2020-11-09 17:11:382195 ASML在光刻機(jī)領(lǐng)域幾乎是巨無(wú)霸的存在，而他們對(duì)于與中國(guó)企業(yè)合作也是非常歡迎，無(wú)奈一些關(guān)鍵細(xì)節(jié)上被美國(guó)卡死。 中國(guó)需要光刻機(jī)，尤其是支持先進(jìn)制程的高端光刻機(jī)，特別是 EUV （極紫外光源）光刻機(jī)
2020-11-10 10:08:043056 中國(guó)需要光刻機(jī)，尤其是支持先進(jìn)制程的高端光刻機(jī)。具體來(lái)說(shuō)，就是 EUV （極紫外光源）光刻機(jī)。
2020-11-11 10:13:304278 
自從芯片工藝進(jìn)入到7nm工藝時(shí)代以后，需要用到一臺(tái)頂尖的EUV光刻機(jī)設(shè)備，才可以制造7nm EUV、5nm等先進(jìn)制程工藝的芯片產(chǎn)品，但就在近日，又有外媒豪言：這種頂尖的EUV極紫外光刻機(jī)，目前全球
2020-12-03 13:46:226379 在半導(dǎo)體芯片領(lǐng)域，全球有很多公司都可以被稱之為巨頭，例如臺(tái)積電、高通和華為等；但是在光刻機(jī)市場(chǎng)，全世界只有一個(gè)公認(rèn)的霸主，它就是來(lái)自于荷蘭的AMSL公司，EUV光刻機(jī)的締造者，各大芯片代工廠背后的核心支持力量！
2020-12-16 16:32:133124 荷蘭阿斯麥公司作為掌握光刻機(jī)系統(tǒng)集成和整體架構(gòu)的核心企業(yè)，自然成了歐美自家的小棉襖，順利趕上了歐美EUV技術(shù)研究發(fā)展的風(fēng)口，投資德國(guó)卡爾蔡司，收購(gòu)美國(guó)Cymer光源。集成世界各國(guó)頂尖科技的EUV
2020-12-28 09:25:5518165 之前有消息稱，臺(tái)積電正在籌集更多的資金，為的是向ASML購(gòu)買更多更先進(jìn)制程的EUV光刻機(jī)，而這些都是為了新制程做準(zhǔn)備。
2020-12-29 09:22:482192 Luc Van den hove表示，IMEC的目標(biāo)是將下一代高分辨率EUV光刻技術(shù)高NA EUV光刻技術(shù)商業(yè)化。由于此前得光刻機(jī)競(jìng)爭(zhēng)對(duì)手早已經(jīng)陸續(xù)退出市場(chǎng)，目前ASML把握著全球主要的先進(jìn)光刻機(jī)產(chǎn)能，近年來(lái)，IMEC一直在與ASML研究新的EUV光刻機(jī)，目前目標(biāo)是將工藝規(guī)模縮小到1nm及以下。
2020-12-30 09:23:481673 而2018年中芯與ASML簽訂了一項(xiàng)EUV光刻機(jī)購(gòu)買協(xié)議，以1.2億美元購(gòu)買一臺(tái)光刻機(jī)，但直到現(xiàn)在都沒(méi)有交貨，因?yàn)闆](méi)有拿到出口許可證。
2021-01-08 11:37:512368 呢？OFweek君根據(jù)公開資料整理出了一些原因，供讀者參考。 與DUV（深紫外光）光刻機(jī)相比，EUV光刻機(jī)的吞吐量相對(duì)較低，每小時(shí)可曝光處理的晶圓數(shù)量約在120片－175片之間，技術(shù)改進(jìn)后，速度可以提升至275片每小時(shí)。但相對(duì)而言，EUV生產(chǎn)效率還是更高，
2021-02-14 14:05:003915 目前，還有ASML有能力生產(chǎn)最先進(jìn)的EUV光刻機(jī)，三星、臺(tái)積電都是ASML的客戶。但受《瓦森納協(xié)定》的制約，中國(guó)大陸沒(méi)有從ASML買來(lái)一臺(tái)EUV光刻機(jī)。
2021-01-21 08:56:184078 在四季度財(cái)報(bào)會(huì)議上，荷蘭ASML（阿斯麥）表示，預(yù)計(jì)今年將出貨交付40臺(tái)EUV光刻機(jī)，比去年多9臺(tái)。
2021-01-21 15:16:431369 %，凈利潤(rùn)達(dá)到36億歐元。全球光刻機(jī)主要玩家有ASML、尼康和佳能三家，他們占到了全球市場(chǎng)90%。 ASML由于技術(shù)領(lǐng)先，一家壟斷了第五代光刻機(jī)EUV光刻機(jī)，這類光刻機(jī)用于制造7nm以下先進(jìn)制程的芯片。 2020年ASML對(duì)外銷售了31臺(tái)EUV光刻機(jī)，帶來(lái)了45億歐元（折合352.52億
2021-01-22 10:38:164677 
ASML公司前兩天發(fā)布了財(cái)報(bào)，全年凈銷售額140億歐元，EUV光刻機(jī)出貨31臺(tái)，帶來(lái)了45億歐元的營(yíng)收，單價(jià)差不多11.4億歐元了。 雖然業(yè)績(jī)?cè)鲩L(zhǎng)很亮眼，但是ASML也有隱憂，實(shí)際上EUV光刻機(jī)
2021-01-22 17:55:242639 隨著半導(dǎo)體工藝進(jìn)入10nm節(jié)點(diǎn)以下，EUV光刻機(jī)成為制高點(diǎn)，之前臺(tái)積電搶購(gòu)了全球多數(shù)的EUV光刻機(jī)，率先量產(chǎn)7nm、5nm工藝，現(xiàn)在內(nèi)存廠商也要入場(chǎng)了，SK海力士豪擲4.8萬(wàn)億韓元搶購(gòu)EUV光刻機(jī)。
2021-02-25 09:28:551644 隨著半導(dǎo)體工藝進(jìn)入10nm節(jié)點(diǎn)以下，EUV光刻機(jī)成為制高點(diǎn)，之前臺(tái)積電搶購(gòu)了全球多數(shù)的EUV光刻機(jī)，率先量產(chǎn)7nm、5nm工藝，現(xiàn)在內(nèi)存廠商也要入場(chǎng)了，SK海力士豪擲4.8萬(wàn)億韓元搶購(gòu)EUV光刻機(jī)
2021-02-25 09:30:232047 隨著半導(dǎo)體工藝進(jìn)入10nm節(jié)點(diǎn)以下，EUV光刻機(jī)成為制高點(diǎn)，之前臺(tái)積電搶購(gòu)了全球多數(shù)的EUV光刻機(jī)，率先量產(chǎn)7nm、5nm工藝，現(xiàn)在內(nèi)存廠商也要入場(chǎng)了，SK海力士豪擲4.8萬(wàn)億韓元搶購(gòu)EUV光刻機(jī)。
2021-02-25 11:39:091844 EUV光刻機(jī)，一直是中國(guó)芯片制造無(wú)法進(jìn)一步升級(jí)的掣肘。去年9月份，時(shí)任中國(guó)科學(xué)院院長(zhǎng)白春禮公開表態(tài)稱，將集中精力攻克光刻機(jī)難題。不到半年時(shí)間，中國(guó)科學(xué)家就在這一“卡脖子”技術(shù)取得了關(guān)鍵性突破。
2021-02-26 09:06:185287 光刻機(jī)是我國(guó)芯片制造業(yè)一大痛點(diǎn)，目前，在EUV光刻機(jī)賽道中，僅有ASML一個(gè)玩家。
2021-03-02 15:29:139297 三星一方面在積極向唯一的EUV光刻機(jī)廠商ASML爭(zhēng)取訂單，另外一方面也在增資為EUV產(chǎn)業(yè)鏈輸血。
2021-03-04 09:52:411757 5nm光刻技術(shù)與ASML光刻機(jī)有何區(qū)別？ EUV光刻機(jī)產(chǎn)能如何？ 大飛_6g（聽(tīng)友） 請(qǐng)問(wèn)謝博士，EUV光刻機(jī)的產(chǎn)能是怎樣的？比如用最先進(jìn)的光刻機(jī)，滿負(fù)荷生產(chǎn)手機(jī)芯片麒麟990，每天能產(chǎn)多少片？中芯國(guó)際有多少臺(tái)投入生產(chǎn)的光刻機(jī)？是1臺(tái)、5臺(tái)還是10臺(tái)呢？謝謝 謝志
2021-03-14 09:46:3023476 日前，ASML產(chǎn)品營(yíng)銷總監(jiān)Mike Lercel向媒體分享了EUV（極紫外）光刻機(jī)的最新進(jìn)展。
2021-03-19 09:39:404630 用途 光刻機(jī)是芯片制造的核心設(shè)備之一,按照用途可以分為好幾種:有用于生產(chǎn)芯片的光刻機(jī);有用于封裝的光刻機(jī)
2021-03-30 18:17:272075 
芯片短缺一直是阻礙中國(guó)科學(xué)技術(shù)發(fā)展的難題，很多核心技術(shù)所需要的芯片都依賴于海外供貨。然而，國(guó)與國(guó)之間除“合作共贏”之外，還有“競(jìng)爭(zhēng)”，加上美國(guó)的各種從中阻攔，國(guó)企想要真正從海外購(gòu)取所需芯片，并非那么
2021-05-12 11:14:343233 光刻機(jī)，是現(xiàn)代光學(xué)工業(yè)之花，是半導(dǎo)體行業(yè)中的核心技術(shù)。 ? ? ? ?可能有很多人都無(wú)法切身理解光刻機(jī)的重要地位，光刻機(jī)，是制造芯片的機(jī)器，要是沒(méi)有了光刻機(jī)，我們就沒(méi)有辦法造出芯片，自然也就
2021-07-07 14:31:18125772 7nm之下不可或缺的制造設(shè)備，我國(guó)因?yàn)橘Q(mào)易條約被遲遲卡住不放行的也是一臺(tái)EUV光刻機(jī)。 但EUV光刻機(jī)的面世靠的不僅僅是ASML一家的努力，還有蔡司和TRUMPF（通快）兩家歐洲光學(xué)巨頭的合作才得以成功。他們的技術(shù)分別為EUV光刻機(jī)的鏡頭和光源做出了不
2021-12-07 14:01:1010742 一臺(tái)高端的光刻機(jī)由上萬(wàn)個(gè)零部件構(gòu)成，光刻機(jī)的主要核心部件主要分為兩個(gè)部分：分別是對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)和紫外光源。
2022-01-03 17:09:0016944 光刻機(jī)是芯片制造的核心設(shè)備之一。目前有用于生產(chǎn)的光刻機(jī)，有用于LED制造領(lǐng)域的光刻機(jī)，還有用于封裝的光刻機(jī)。光刻機(jī)是采用類似照片沖印的技術(shù)，然后把掩膜版上的精細(xì)圖形通過(guò)光線的曝光印制到硅片上。
2022-02-05 16:03:0085813 在半導(dǎo)體的制造中，光刻機(jī)作為其中重要的組成部分，其技術(shù)非常復(fù)雜，價(jià)格也十分昂貴。 由于近期沖突，俄羅斯芯片進(jìn)口遭嚴(yán)重限制，在其國(guó)內(nèi)沒(méi)有光刻機(jī)的情況下，俄羅斯貿(mào)工部選擇了與俄羅斯莫斯科電子技術(shù)學(xué)院簽署
2022-04-06 10:35:337960 臺(tái)積電和三星從7nm工藝節(jié)點(diǎn)就開始應(yīng)用EUV光刻層了，并且在隨后的工藝迭代中，逐步增加半導(dǎo)體制造過(guò)程中的EUV光刻層數(shù)。
2022-05-13 14:43:202077 
年引進(jìn)ASML最先進(jìn)的High-NA EUV光刻機(jī)，并且推動(dòng)臺(tái)積電的創(chuàng)新能力。不過(guò)另一位高管補(bǔ)充道：臺(tái)積電并不打算在2024年將High-NA EUV光刻機(jī)投入到生產(chǎn)工作中去，將首先與合作伙伴進(jìn)行相關(guān)的研究。 據(jù)了解，High-NA EUV光刻機(jī)的High-NA代表的是高數(shù)值孔徑，相比于現(xiàn)在的光刻技術(shù)，
2022-06-17 16:33:276499 據(jù)CNBC報(bào)道稱，世界聞名的先進(jìn)光刻機(jī)智造商荷蘭AMSL公司正在研發(fā)一種新版本的EUV光刻機(jī)。
2022-06-18 08:13:031794 在芯片研發(fā)的過(guò)程中，光刻機(jī)是必不可少的部分，而隨著芯片制程工藝的不斷發(fā)展，普通的光刻機(jī)已經(jīng)不能滿足先進(jìn)制程了，必須要用最先進(jìn)的EUV光刻機(jī)才能完成7nm及其以下的先進(jìn)制程，而目前臺(tái)積電和三星都在攻克
2022-06-28 15:07:126676 中國(guó)芯的進(jìn)步那是有目共睹，我國(guó)在光刻機(jī)，特別是在EUV光刻機(jī)方面，更是不斷尋求填補(bǔ)空白的途徑。
2022-07-05 10:38:3516742 三星電子和ASML就引進(jìn)今年生產(chǎn)的EUV光刻機(jī)和明年推出高數(shù)值孔徑極紫外光High-NA EUV光刻機(jī)達(dá)成采購(gòu)協(xié)議。
2022-07-05 15:26:155634 光刻機(jī)是芯片制造的核心設(shè)備之一。目前世界上最先進(jìn)的光刻機(jī)是荷蘭ASML的EUV光刻機(jī)。
2022-07-06 11:03:077000 如今世界最先進(jìn)的EUV光刻機(jī)，只有asml一家公司可以制造出來(lái)。
2022-07-06 11:19:3850686 在半導(dǎo)體制造過(guò)程中，光刻機(jī)是最核心的設(shè)備，同時(shí)，也是研發(fā)難度最高的設(shè)備。
2022-07-07 09:38:237125 EUV光刻機(jī)是在2018年開始出現(xiàn)，并在2019年開始大量交付，而臺(tái)積電也是在2019年推出了7nm EUV工藝。
2022-07-07 09:48:444523 大家都知道，芯片制造的核心設(shè)備之一就是光刻機(jī)了。現(xiàn)在，全球最先進(jìn)的光刻機(jī)是荷蘭ASML的EUV光刻機(jī)，那么euv光刻機(jī)目前幾納米呢？ 到現(xiàn)在，世界上最先進(jìn)的光刻機(jī)能夠?qū)崿F(xiàn)5nm的加工。也就是荷蘭
2022-07-10 11:17:4242766 是哪個(gè)國(guó)家的呢？ euv光刻機(jī)許多國(guó)家都有，理論上來(lái)說(shuō)，芯片強(qiáng)國(guó)的光刻機(jī)也應(yīng)該很強(qiáng)，但是最強(qiáng)的光刻機(jī)制造強(qiáng)國(guó)，不是美國(guó)、韓國(guó)等芯片強(qiáng)國(guó)，而是荷蘭。 EUV光刻機(jī)有光源系統(tǒng)、光學(xué)鏡頭、雙工作臺(tái)系統(tǒng)三大核心技術(shù)。 目前，在全世
2022-07-10 11:42:276977 可以生產(chǎn)出納米尺寸更小、功能更強(qiáng)大的芯片。 小于5 nm的芯片晶片只能由EUV光刻機(jī)生產(chǎn)。 EUV光刻機(jī)有光源系統(tǒng)、光學(xué)鏡頭、雙工作臺(tái)系統(tǒng)三大核心技術(shù)。 目前，最先進(jìn)的光刻機(jī)是荷蘭ASML公司的EUV光刻機(jī)。預(yù)計(jì)在光路系統(tǒng)的幫助下，能
2022-07-10 14:35:066173 目前，光刻機(jī)主要分為EUV光刻機(jī)和DUV光刻機(jī)。DUV是深紫外線，EUV是非常深的紫外線。DUV使用的是極紫外光刻技術(shù)，EUV使用的是深紫外光刻技術(shù)。EUV為先進(jìn)工藝芯片光刻的發(fā)展方向。那么duv
2022-07-10 14:53:1078127 euv光刻機(jī)原理是什么 芯片生產(chǎn)的工具就是紫外光刻機(jī)，是大規(guī)模集成電路生產(chǎn)的核心設(shè)備，對(duì)芯片技術(shù)有著決定性的影響。小于5 nm的芯片只能由EUV光刻機(jī)生產(chǎn)。那么euv光刻機(jī)原理是什么呢？ EUV
2022-07-10 15:28:1015099 光刻機(jī)是當(dāng)前半導(dǎo)體芯片產(chǎn)業(yè)的核心設(shè)備，其技術(shù)含量和價(jià)值含量都很高。那么euv光刻機(jī)用途是什么呢？下面我們就一起來(lái)看看吧。 光刻設(shè)備涉及系統(tǒng)集成、精密光學(xué)、精密運(yùn)動(dòng)、精密材料傳輸、高精度微環(huán)境控制
2022-07-10 16:34:403116 與此同時(shí)，在ASML看來(lái)，下一代高NA EUV光刻機(jī)為光刻膠再度帶來(lái)了挑戰(zhàn)，更少的隨機(jī)效應(yīng)、更高的分辨率和更薄的厚度。首先傳統(tǒng)的正膠和負(fù)膠肯定是沒(méi)法用了，DUV光刻機(jī)上常用的化學(xué)放大光刻膠（CAR）也開始在5nm之后的分辨率和敏感度上出現(xiàn)瓶頸
2022-07-22 10:40:082010 一臺(tái)EUV光刻機(jī)工作一天大概需要耗電3萬(wàn)度。如果關(guān)閉1臺(tái)EUV光刻機(jī)，一天就能省下3萬(wàn)度電。臺(tái)灣目前工業(yè)用電價(jià)格約為2.45新臺(tái)幣（約合人民幣0.55元），也就是說(shuō)一天能省個(gè)1.65萬(wàn)元人民幣的電費(fèi)。
2022-09-08 10:54:061356 電子發(fā)燒友網(wǎng)報(bào)道（文/周凱揚(yáng)）盡管ASML作為目前占據(jù)主導(dǎo)地位的光刻機(jī)廠商，憑借獨(dú)有的EUV光刻機(jī)一騎絕塵，主導(dǎo)著半數(shù)以上的市場(chǎng)份額，但這并不代表著其他光刻機(jī)廠商也就“聽(tīng)天由命”了。以兩大國(guó)外光刻機(jī)
2022-11-24 07:10:033222 電子發(fā)燒友網(wǎng)報(bào)道（文/ 周凱揚(yáng) ）到了3nm這個(gè)工藝節(jié)點(diǎn)之后，單靠現(xiàn)有的0.33NA EUV光刻機(jī)就很難維系下去了。 為了實(shí)現(xiàn)2nm乃至未來(lái)的埃米級(jí)工藝，將晶體管密度推向1000MTr/mm2，全面
2022-12-07 07:25:02952 了。 ? 芯片制造離不開光刻機(jī)，特別是在先進(jìn)制程上，EUV光刻機(jī)由來(lái)自荷蘭的ASML所壟斷。同時(shí)，盡管目前市面上，EUV光刻機(jī)客戶僅有三家，但需求不斷增加的情況底下，EUV光刻機(jī)依然供不應(yīng)求。 ? 針對(duì)后3nm時(shí)代的芯片制造工藝，High-NA（高數(shù)值孔徑）EUV光刻機(jī)
2022-06-29 08:32:004635
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