搜索歷史

清空
搜索熱詞
      0
      • 聊天消息
      • 系統(tǒng)消息
      • 評論與回復(fù)
      VIP于 到期 續(xù)費(fèi)
      登錄后你可以
      • 下載海量資料
      • 學(xué)習(xí)在線課程
      • 觀看技術(shù)視頻
      • 寫文章/發(fā)帖/加入社區(qū)
      會(huì)員中心
      創(chuàng)作中心
      發(fā)布
      創(chuàng)作活動(dòng)

      完善資料讓更多小伙伴認(rèn)識(shí)你，還能領(lǐng)取20積分哦，立即完善>

      3天內(nèi)不再提示

      新EUV光刻機(jī)售價(jià)超26億，Intel成為首位買家，將于2025年首次交付

      汽車玩家 ? 來源：網(wǎng)絡(luò)整理 ? 作者：網(wǎng)絡(luò)整理 ? 2022-06-28 15:07 ? 次閱讀

      在芯片研發(fā)的過程中，光刻機(jī)是必不可少的部分，而隨著芯片制程工藝的不斷發(fā)展，普通的光刻機(jī)已經(jīng)不能滿足先進(jìn)制程了，必須要用最先進(jìn)的EUV光刻機(jī)才能完成7nm及其以下的先進(jìn)制程，而目前臺(tái)積電和三星都在攻克3nm制程，據(jù)了解，更加先進(jìn)的制程就需要更先進(jìn)的光刻機(jī)來完成了。

      光刻機(jī)廠商ASML為此正在研發(fā)新一代High NA EUV光刻機(jī)，這種EUV光刻機(jī)的NA數(shù)值孔徑比現(xiàn)在0.33口徑的EUV光刻機(jī)還要高，達(dá)到了0.55口徑，也就是說High NA EUV光刻機(jī)的分辨率更高，能夠進(jìn)行更加先進(jìn)制程的加工。

      目前芯片巨頭Intel已經(jīng)搶先成為了第一個(gè)訂購到High NA EUV光刻機(jī)的廠商，該款High NA EUV光刻機(jī)型號(hào)定為了High-NA EXE:5200，單臺(tái)售價(jià)已經(jīng)超過了26億人民幣，預(yù)計(jì)將在2023年完成原型機(jī)的制造，并在2025年首次交付給Intel。

      不只是Intel，臺(tái)積電方面也表示將在2024年引入新一代High NA EUV光刻機(jī)，三星甚至讓副會(huì)長李在镕親自出馬，趕往ASML與其高層會(huì)面洽談新一代光刻機(jī)相關(guān)事宜。

      綜合整理自 PConline 驅(qū)動(dòng)之家 21ic電子網(wǎng)

      審核編輯 黃昊宇

      聲明：本文內(nèi)容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網(wǎng)站授權(quán)轉(zhuǎn)載。文章觀點(diǎn)僅代表作者本人，不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場。文章及其配圖僅供工程師學(xué)習(xí)之用，如有內(nèi)容侵權(quán)或者其他違規(guī)問題，請聯(lián)系本站處理。 舉報(bào)投訴
      • intel
        +關(guān)注

        關(guān)注

        19

        文章

        3482

        瀏覽量

        186002
      • 光刻機(jī)
        +關(guān)注

        關(guān)注

        31

        文章

        1150

        瀏覽量

        47404
      • ASML
        +關(guān)注

        關(guān)注

        7

        文章

        718

        瀏覽量

        41237
      收藏 人收藏

        評論

        相關(guān)推薦

        光刻機(jī)巨頭ASML業(yè)績暴雷，芯片迎來新一輪“寒流”？

        電子發(fā)燒友網(wǎng)報(bào)道（文/黃山明）作為芯片制造過程中的核心設(shè)備，光刻機(jī)決定著芯片工藝的制程。尤其是EUV光刻機(jī)已經(jīng)成為高端芯片（7nm及以下）芯片量產(chǎn)的關(guān)鍵，但目前
        的頭像 發(fā)表于 10-17 00:13 ?2772次閱讀

        日本首臺(tái)EUV光刻機(jī)就位

        本月底完成。 Rapidus 計(jì)劃 2025 年春季使用最先進(jìn)的 2 納米工藝開發(fā)原型芯片，于 2027 年開始大規(guī)模生產(chǎn)芯片。 EUV 機(jī)器結(jié)合了特殊光源、鏡頭和其他技術(shù)，可形成
        的頭像 發(fā)表于 12-20 13:48 ?182次閱讀
        日本首臺(tái)<b class='flag-5'>EUV</b><b class='flag-5'>光刻機(jī)</b>就位

        光刻機(jī)的工作原理和分類

        ? 本文介紹了光刻機(jī)在芯片制造中的角色和地位，并介紹了光刻機(jī)的工作原理和分類。? ? ? ?? 光刻機(jī)：芯片制造的關(guān)鍵角色 ? ? 光刻機(jī)在芯片制造中占據(jù)著至關(guān)重要的地位，被譽(yù)為芯片制
        的頭像 發(fā)表于 11-24 09:16 ?1259次閱讀

        今日看點(diǎn)丨 2011億元!比亞迪單季營收首次超過特斯拉；三星將于2025年初引進(jìn)High NA EUV光刻機(jī)

        1. 三星將于2025 年初引進(jìn)High NA EUV 光刻機(jī)，加快開發(fā)1nm 芯片 ? 據(jù)報(bào)道，三星電子正準(zhǔn)備在2025
        發(fā)表于 10-31 10:56 ?813次閱讀

        俄羅斯首臺(tái)光刻機(jī)問世

        的一部分，目前正在對其進(jìn)行測試，該設(shè)備可確保生產(chǎn)350nm的芯片。什帕克還指出，到2026年將獲得130nm的國產(chǎn)光刻機(jī)，下一步將是開發(fā)90nm光刻機(jī)，并繼續(xù)向下邁進(jìn)。 此前，俄羅斯曾表示，計(jì)劃到2026
        的頭像 發(fā)表于 05-28 15:47 ?781次閱讀

        Rapidus對首代工藝中0.33NA EUV解決方案表示滿意，未采用高NA EUV光刻機(jī)

        在全球四大先進(jìn)制程代工巨頭（包括臺(tái)積電、三星電子、英特爾以及Rapidus）中，只有英特爾明確表示將使用High NA EUV光刻機(jī)進(jìn)行大規(guī)模生產(chǎn)。
        的頭像 發(fā)表于 05-27 14:37 ?647次閱讀

        臺(tái)積電A16制程采用EUV光刻機(jī)，2026年下半年量產(chǎn)

        據(jù)臺(tái)灣業(yè)內(nèi)人士透露，臺(tái)積電并未為A16制程配備高數(shù)值孔徑（High-NA）EUV光刻機(jī)，而選擇利用現(xiàn)有的EUV光刻機(jī)進(jìn)行生產(chǎn)。相較之下，英特爾和三星則計(jì)劃在此階段使用最新的High-N
        的頭像 發(fā)表于 05-17 17:21 ?991次閱讀

        臺(tái)積電張曉強(qiáng)：ASML High-NA EUV成本效益是關(guān)鍵

        據(jù)今年2月份報(bào)道，荷蘭半導(dǎo)體制造設(shè)備巨頭ASML公布了High-NA Twinscan EXE光刻機(jī)的售價(jià)，高達(dá)3.5億歐元（約合27.16億元人民幣）。而現(xiàn)有
        的頭像 發(fā)表于 05-15 14:42 ?636次閱讀

        英特爾突破技術(shù)壁壘：首臺(tái)商用High NA EUV光刻機(jī)成功組裝

        英特爾的研發(fā)團(tuán)隊(duì)正致力于對這臺(tái)先進(jìn)的ASML TWINSCAN EXE:5000 High NA EUV光刻機(jī)進(jìn)行細(xì)致的校準(zhǔn)工作，以確保其能夠順利融入未來的生產(chǎn)線。
        的頭像 發(fā)表于 04-22 15:52 ?928次閱讀

        光刻機(jī)的發(fā)展歷程及工藝流程

        光刻機(jī)經(jīng)歷了5代產(chǎn)品發(fā)展，每次改進(jìn)和創(chuàng)新都顯著提升了光刻機(jī)所能實(shí)現(xiàn)的最小工藝節(jié)點(diǎn)。按照使用光源依次從g-line、i-line發(fā)展到KrF、ArF和EUV；按照工作原理依次從接觸接近式光刻機(jī)
        發(fā)表于 03-21 11:31 ?6304次閱讀
        <b class='flag-5'>光刻機(jī)</b>的發(fā)展歷程及工藝流程

        ASML 首臺(tái)新款 EUV 光刻機(jī) Twinscan NXE:3800E 完成安裝

        EUV 光刻機(jī)持續(xù)更新升級，未來目標(biāo)在 2025 年推出 NXE:4000F 機(jī)型。 上兩代 NXE 系列機(jī)型 3400C 和 3600D 分別適合 7~5、5~3 納米節(jié)點(diǎn)生產(chǎn)，德
        的頭像 發(fā)表于 03-14 08:42 ?553次閱讀
        ASML 首臺(tái)新款 <b class='flag-5'>EUV</b> <b class='flag-5'>光刻機(jī)</b> Twinscan NXE:3800E 完成安裝

        英特爾成為全球首家購買3.8億美元高數(shù)值孔徑光刻機(jī)的廠商

        英特爾最近因決定從荷蘭 ASML 購買世界上第一臺(tái)高數(shù)值孔徑(High-NA)光刻機(jī)而成為新聞焦點(diǎn)。到目前為止，英特爾是全球唯一一家訂購此類光刻機(jī)的晶圓廠，據(jù)報(bào)道它們的售價(jià)約為3.8
        的頭像 發(fā)表于 03-06 14:49 ?463次閱讀
        英特爾<b class='flag-5'>成為</b>全球首家購買3.8<b class='flag-5'>億</b>美元高數(shù)值孔徑<b class='flag-5'>光刻機(jī)</b>的廠商

        三星清空ASML股份，11年盈利超16倍

        根據(jù)資料顯示，在2012年，為了支持ASML EUV光刻機(jī)的研發(fā)與商用，并獲得EUV光刻機(jī)的優(yōu)先供應(yīng)，在2012
        的頭像 發(fā)表于 02-23 17:27 ?1029次閱讀

        佳能預(yù)計(jì)到2024年出貨納米壓印光刻機(jī)

        Takeishi向英國《金融時(shí)報(bào)》表示，公司計(jì)劃于2024年開始出貨其納米壓印光刻機(jī)FPA-1200NZ2C，并補(bǔ)充說芯片可以輕松以低成本制造。2023年11月，該公司表示該設(shè)備的價(jià)格將比ASML的
        的頭像 發(fā)表于 02-01 15:42 ?970次閱讀
        佳能預(yù)計(jì)到2024<b class='flag-5'>年</b>出貨納米壓印<b class='flag-5'>光刻機(jī)</b>

        狂加工一年！ASML把欠中國的600億光刻機(jī)，成功交付了

        關(guān)于光刻機(jī)，大家還記得美國荷蘭日本的三方協(xié)議嗎？來回憶一下。 隨著芯片在各個(gè)領(lǐng)域的重要性不斷提升，人們對芯片制造的關(guān)注也日益增加。 但半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈非常復(fù)雜，不僅僅涉及到底層的架構(gòu)設(shè)計(jì)，還需要通過
        的頭像 發(fā)表于 01-17 17:56 ?704次閱讀