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臺積電張曉強(qiáng):ASML High-NA EUV成本效益是關(guān)鍵

微云疏影 ? 來源:綜合整理 ? 作者:綜合整理 ? 2024-05-15 14:42 ? 次閱讀

據(jù)悉,臺積電業(yè)務(wù)開發(fā)及海外營運(yùn)辦公室資深副總經(jīng)理暨副共同營運(yùn)長張曉強(qiáng)博士在5月14日出席阿姆斯特丹技術(shù)研討會時(shí)公開稱ASML的High-NA EUV設(shè)備過于昂貴。盡管對其性能深感滿意,但對于價(jià)格卻并不感冒。

張曉強(qiáng)博士現(xiàn)任職于臺積電,主要負(fù)責(zé)制定公司業(yè)務(wù)戰(zhàn)略,包括技術(shù)規(guī)劃和客戶關(guān)系維護(hù)等工作。此外,他還共同領(lǐng)導(dǎo)海外運(yùn)營團(tuán)隊(duì),確保海外運(yùn)營效率。

據(jù)今年2月份報(bào)道,荷蘭半導(dǎo)體制造設(shè)備巨頭ASML公布了High-NA Twinscan EXE光刻機(jī)的售價(jià),高達(dá)3.5億歐元(約合27.16億元人民幣)。而現(xiàn)有EUV光刻機(jī)的價(jià)格則為1.7億歐元(約合13.19億元人民幣)。

值得注意的是,英特爾已成功購入ASML的High-NA EUV設(shè)備,并于4月19日宣布首臺設(shè)備實(shí)現(xiàn)商業(yè)化生產(chǎn)。

關(guān)于臺積電是否需要采用ASML的High-NA EUV設(shè)備來完成A16先進(jìn)工藝節(jié)點(diǎn)(預(yù)計(jì)將于2026年年底前量產(chǎn)),張曉強(qiáng)博士在接受采訪時(shí)表示,現(xiàn)階段的EUV設(shè)備完全有能力支持A16的生產(chǎn)需求。

至于何時(shí)引入ASML的新技術(shù),將視乎何時(shí)最為經(jīng)濟(jì)實(shí)惠以及如何平衡臺積電的技術(shù)實(shí)力。

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