約2?mm的8英寸碳化硅晶片。 ? Hobby點(diǎn)評(píng):今年一月,國內(nèi)爍科晶體實(shí)現(xiàn)8英寸N型碳化硅拋光片小批量生產(chǎn),而僅僅幾個(gè)月后,國產(chǎn)碳化硅襯底就再傳來了好消息。碳化硅器件的成本中,襯底占比超過40%,所以碳化硅襯底尺寸提高,單位襯底上制造出
2022-05-07 00:55:003759 。同時(shí),2019年北京通美也成為全球第四大的砷化鎵襯底供應(yīng)商,砷化鎵襯底銷量突破175萬片。 ? ? ? 成立于1998年的北京通美,目前主要產(chǎn)品為磷化銦襯底、砷化鎵襯底、鍺襯底、PBN坩堝、高純金屬及化合物等,應(yīng)用于5G通信、數(shù)據(jù)中心、新一代顯示
2022-07-15 08:10:005153 Valley的SiC晶圓廠,并開始投產(chǎn)8英寸SiC襯底。又在今年1月份與采埃孚合作,斥資超20億歐元在德國薩爾州建廠。 在國際大廠布局的同時(shí),國產(chǎn)碳化硅廠商也在加速追趕,爭搶當(dāng)下最火熱的汽車、儲(chǔ)能等市場。2022年國內(nèi)已有不少SiC擴(kuò)產(chǎn)項(xiàng)目啟動(dòng)、竣工,進(jìn)入2023年,碳化硅產(chǎn)業(yè)鏈在投
2023-02-21 16:32:213622 電子發(fā)燒友網(wǎng)報(bào)道(文/梁浩斌)“碳化硅行業(yè)得襯底者得天下”,襯底作為SiC產(chǎn)業(yè)鏈中成本占比最大的部分,自然是各家必爭之地。在下游需求帶動(dòng)下,SiC襯底正在從6英寸開始向8英寸推進(jìn),更大的襯底尺寸
2022-11-23 09:22:561614 在SiC襯底上生成MOS電容器的結(jié)構(gòu),這項(xiàng)專利后來被視為促成SiC MOSFET誕生的關(guān)鍵。 ? 不過,由于襯底良率、制造工藝等問題,直到2011年SiC MOSFET才正式實(shí)現(xiàn)商業(yè)化,彼時(shí)的Cree推出
2023-03-18 00:07:003104 電子發(fā)燒友網(wǎng)報(bào)道(文/梁浩斌)今年以來國內(nèi)的SiC產(chǎn)業(yè)進(jìn)展神速,除了上游廠商陸續(xù)放出8英寸襯底的進(jìn)展之外,還有多家襯底廠商與海外半導(dǎo)體巨頭簽下供應(yīng)協(xié)議。上個(gè)月,國內(nèi)SiC襯底龍頭天岳先進(jìn)展示了一種
2023-07-12 09:00:19829 電子發(fā)燒友網(wǎng)報(bào)道(文/梁浩斌)在過去的2023年,國產(chǎn)SiC功率器件產(chǎn)品迎來了全面爆發(fā),眾多廠商宣布入局或是推出車規(guī)級(jí)SiC MOSFET產(chǎn)品,尋求打進(jìn)汽車供應(yīng)鏈。而今年春節(jié)后的新一輪新能源汽車降價(jià)
2024-03-13 01:17:002639 為主,中下游的激光設(shè)備及激光加工服務(wù)等占據(jù)了八成的激光市場空間。目前,中國是全球最大的工業(yè)加工激光設(shè)備需求市場。據(jù)《2019中國激光產(chǎn)業(yè)發(fā)展報(bào)告》顯示,2018年中國激光設(shè)備銷售收入突破605億元
2020-03-30 09:50:17
有使用過SIC MOSFET 的大佬嗎 想請(qǐng)教一下驅(qū)動(dòng)電路是如何搭建的。
2021-04-02 15:43:15
效率,并實(shí)現(xiàn)了全球節(jié)能。事實(shí)上,有人估計(jì)的IGBT幫助阻止750000億磅的CO 2排放量在過去25年?! 【拖穸兰o(jì)八十年代的IGBT革命一樣,今天寬帶隙半導(dǎo)體碳化硅(SiC)再次顯示出為電力
2023-02-27 13:48:12
程度的小電流,所以與Si-FRD相比,能夠明顯地減少損耗。而且,該瞬態(tài)電流基本上不隨溫度和正向電流而變化,所以不管何種環(huán)境下,都能夠穩(wěn)定地實(shí)現(xiàn)快速恢復(fù)。另外,還可以降低由恢復(fù)電流引起的噪音,達(dá)到降噪的效果。SiC半導(dǎo)體SiC-MOSFET
2019-03-14 06:20:14
比Si器件低,不需要進(jìn)行電導(dǎo)率調(diào)制就能夠以MOSFET實(shí)現(xiàn)高耐壓和低阻抗?! 《襇OSFET原理上不產(chǎn)生尾電流,所以用SiC-MOSFET替代IGBT時(shí),能夠明顯地減少開關(guān)損耗,并且實(shí)現(xiàn)散熱部件
2023-02-07 16:40:49
,不需要進(jìn)行電導(dǎo)率調(diào)制就能夠以MOSFET實(shí)現(xiàn)高耐壓和低阻抗。而且MOSFET原理上不產(chǎn)生尾電流,所以用SiC-MOSFET替代IGBT時(shí),能夠明顯地減少開關(guān)損耗,并且實(shí)現(xiàn)散熱部件的小型化。另外
2019-04-09 04:58:00
本章將介紹部分SiC-MOSFET的應(yīng)用實(shí)例。其中也包括一些以前的信息和原型級(jí)別的內(nèi)容,總之希望通過這些介紹能幫助大家認(rèn)識(shí)采用SiC-MOSFET的好處以及可實(shí)現(xiàn)的新功能。另外,除了
2018-11-27 16:38:39
基于SiC/GaN的新一代高密度功率轉(zhuǎn)換器SiC/GaN具有的優(yōu)勢
2021-03-10 08:26:03
SiC46x是什么?SiC46x有哪些優(yōu)異的設(shè)計(jì)?SiC46x的主要應(yīng)用領(lǐng)域有哪些?
2021-07-09 07:11:50
進(jìn)行介紹。SiC功率元器件的開發(fā)背景之前談到,通過將SiC應(yīng)用到功率元器件上,實(shí)現(xiàn)以往Si功率元器件無法實(shí)現(xiàn)的低損耗功率轉(zhuǎn)換。不難發(fā)現(xiàn)這是SiC使用到功率元器件上的一大理由。其背景是為了促進(jìn)解決全球
2018-11-29 14:35:23
,不需要進(jìn)行電導(dǎo)率調(diào)制就能夠以MOSFET實(shí)現(xiàn)高耐壓和低阻抗。而且MOSFET原理上不產(chǎn)生尾電流,所以用SiC-MOSFET替代IGBT時(shí),能夠明顯地減少開關(guān)損耗,并且實(shí)現(xiàn)散熱部件的小型化。另外
2019-05-07 06:21:55
載流子器件(肖特基勢壘二極管和MOSFET)去實(shí)現(xiàn)高耐壓,從而同時(shí)實(shí)現(xiàn) "高耐壓"、"低導(dǎo)通電阻"、"高頻" 這三個(gè)特性。另外,帶隙較寬,是Si的3倍,因此SiC功率器件即使在高溫下也可以穩(wěn)定工作。
2019-07-23 04:20:21
不具備足夠的堅(jiān)固性。當(dāng)前對(duì)大功率、高溫器件封裝技術(shù)的大量需求引起了對(duì)這一領(lǐng)域的研發(fā)熱潮。 SiC器件的封裝襯底必須便于處理固態(tài)銅厚膜導(dǎo)電層,且具有高熱導(dǎo)率和低熱膨脹系數(shù),從而可以把大尺寸SiC芯片直接焊接到襯底上
2018-09-11 16:12:04
實(shí)現(xiàn)“充電5分鐘,續(xù)航超200公里。”極氪智能旗下威睿電動(dòng)汽車技術(shù)有限公司正式發(fā)布了600kW超充技術(shù),并已實(shí)現(xiàn)量產(chǎn),據(jù)稱可實(shí)現(xiàn)充電5分鐘續(xù)航里程增加300公里。哪吒汽車發(fā)布浩智800V SiC高性能
2022-12-27 15:05:47
Sic mesfet工藝技術(shù)研究與器件研究針對(duì)SiC 襯底缺陷密度相對(duì)較高的問題,研究了消除或減弱其影響的工藝技術(shù)并進(jìn)行了器件研制。通過優(yōu)化刻蝕條件獲得了粗糙度為2?07 nm的刻蝕表面;犧牲氧化
2009-10-06 09:48:48
TMM、Duorid和PTFE。在加工柔性基材和敏感基材時(shí),激光直接成型技術(shù)優(yōu)勢更明顯,不用與材料接觸,就能進(jìn)行光蝕,因此更可靠,不會(huì)對(duì)基材產(chǎn)生損害。激光直接大面積剝離銅層不傷基底材料(軟基,硬基均可)汪先生 ***
2016-06-27 13:25:29
TMM、Duorid和PTFE。在加工柔性基材和敏感基材時(shí),激光直接成型技術(shù)優(yōu)勢更明顯,不用與材料接觸,就能進(jìn)行光蝕,因此更可靠,不會(huì)對(duì)基材產(chǎn)生損害。激光直接大面積剝離銅層不傷基底材料(軟基,硬基均可)汪先生 ***
2016-06-27 13:27:15
TMM、Duorid和PTFE。在加工柔性基材和敏感基材時(shí),激光直接成型技術(shù)優(yōu)勢更明顯,不用與材料接觸,就能進(jìn)行光蝕,因此更可靠,不會(huì)對(duì)基材產(chǎn)生損害。激光直接大面積剝離銅層不傷基底材料(軟基,硬基均可)汪先生 ***
2016-06-27 13:26:43
半導(dǎo)體的關(guān)鍵特性是能帶隙,能帶動(dòng)電子進(jìn)入導(dǎo)通狀態(tài)所需的能量。寬帶隙(WBG)可以實(shí)現(xiàn)更高功率,更高開關(guān)速度的晶體管,WBG器件包括氮化鎵(GaN)和碳化硅(SiC),以及其他半導(dǎo)體。 GaN和SiC
2022-08-12 09:42:07
項(xiàng)目名稱:風(fēng)電伺服驅(qū)動(dòng)控制器SiC器件試用試用計(jì)劃:申請(qǐng)理由本人在工業(yè)控制領(lǐng)域有十余年的產(chǎn)品開發(fā)經(jīng)驗(yàn),目前正在從事風(fēng)電機(jī)組變槳控制系統(tǒng)伺服驅(qū)動(dòng)器的開發(fā),是一個(gè)國產(chǎn)化項(xiàng)目,也是SiC器件應(yīng)用的領(lǐng)域
2020-04-24 18:03:59
什么是碳化硅(SiC)?它有哪些用途?碳化硅(SiC)的結(jié)構(gòu)是如何構(gòu)成的?
2021-06-18 08:32:43
TG傳輸門電路中。當(dāng)C端接+5,C非端接0時(shí)。源極和襯底沒有連在一起,為什么當(dāng)輸入信號(hào)改變時(shí),其導(dǎo)通程度怎么還會(huì)改變?導(dǎo)電程度不是由柵極和襯底間的電場決定的嗎?而柵極和襯底間的電壓不變。所以其導(dǎo)通程度應(yīng)該與輸入信號(hào)變化無關(guān)啊!而書上說起導(dǎo)通程度歲輸入信號(hào)的改變而改變?為什么?求詳細(xì)解釋!謝謝!
2012-03-29 22:51:18
-SBD和Si-SBD均具有高速性的特征,SiC-SBD不僅擁有優(yōu)異的高速性且實(shí)現(xiàn)了高耐壓。Si-SBD的耐壓極限為200V,而SiC具有硅10倍的擊穿場強(qiáng),故ROHM已經(jīng)開始量產(chǎn)1200V的產(chǎn)品,同時(shí)在推進(jìn)
2018-11-29 14:33:47
功率模塊具體是什么樣的產(chǎn)品,都有哪些機(jī)型。之后計(jì)劃依次介紹其特點(diǎn)、性能、應(yīng)用案例和使用方法。何謂全SiC功率模塊ROHM在全球率先實(shí)現(xiàn)了搭載ROHM生產(chǎn)的SiC-MOSFET和SiC-SBD的“全
2018-11-27 16:38:04
SiC-MOSFET和SiC肖特基勢壘二極管的相關(guān)內(nèi)容,有許多與Si同等產(chǎn)品比較的文章可以查閱并參考。采用第三代SiC溝槽MOSFET,開關(guān)損耗進(jìn)一步降低ROHM在行業(yè)中率先實(shí)現(xiàn)了溝槽結(jié)構(gòu)
2018-11-27 16:37:30
,耦合器,合成實(shí)驗(yàn),突破,成功率【DOI】:CNKI:SUN:QJGY.0.2010-02-006【正文快照】:2010年1月16日,中國兵器裝備研究院大功率激光實(shí)驗(yàn)室成功完成了7路光纖激光組束合成實(shí)驗(yàn),在
2010-04-22 11:37:22
激光測距原理是什么?如何實(shí)現(xiàn)激光脈沖測距雷達(dá)系統(tǒng)?
2021-04-29 06:14:35
SOI(Silicon-On-Insulator,絕緣襯底上的硅)技術(shù)是在頂層硅和背襯底之間引入了一層埋氧化層。通過在絕緣體上形成半導(dǎo)體薄膜,SOI材料具有了體硅所無法比擬的優(yōu)點(diǎn):可以實(shí)現(xiàn)集成電路
2012-01-12 10:47:00
雖然電動(dòng)和混合動(dòng)力電動(dòng)汽車(EV]從作為功率控制器件的標(biāo)準(zhǔn)金屬氧化物半導(dǎo)體場效應(yīng)晶體管(MOSFET)到基于碳化硅(SiC)襯底和工藝技術(shù)的FET的轉(zhuǎn)變代表了提高EV的效率和整體系統(tǒng)級(jí)特性的重要步驟
2019-08-11 15:46:45
的發(fā)展中,Si功率器件已趨其發(fā)展的材料極限,難以滿足當(dāng)今社會(huì)對(duì)于高 頻、高溫、高功率、高能效、耐惡劣環(huán)境以及輕便小型化的新需求。以SiC為代表的 第三代半導(dǎo)體材料憑借其優(yōu)異屬性,將成為突破口,正在迅速
2017-07-22 14:12:43
本章將介紹最新的第三代SiC-MOSFET,以及可供應(yīng)的SiC-MOSFET的相關(guān)信息。獨(dú)有的雙溝槽結(jié)構(gòu)SiC-MOSFET在SiC-MOSFET不斷發(fā)展的進(jìn)程中,ROHM于世界首家實(shí)現(xiàn)了溝槽柵極
2018-12-05 10:04:41
1. 器件結(jié)構(gòu)和特征SiC能夠以高頻器件結(jié)構(gòu)的SBD(肖特基勢壘二極管)結(jié)構(gòu)得到600V以上的高耐壓二極管(Si的SBD最高耐壓為200V左右)。因此,如果用SiC-SBD替換現(xiàn)在主流產(chǎn)品快速PN結(jié)
2019-05-07 06:21:51
低功率因素方案SIC953XD系列:TYPESPFMOSFETPackage **范圍SIC9531D 0.514Ω500VSOP7
2021-09-07 17:39:06
隨著國家對(duì)節(jié)能減排的日益重視,成都LED燈市場的逐步啟動(dòng),飛利浦、富士康等大公司涉足LED燈行業(yè),LED概念股普漲,使得LED技術(shù)成為大眾熱點(diǎn),下面簡要概述LED襯底技術(shù)。上圖為LED封裝結(jié)構(gòu)示意圖
2012-03-15 10:20:43
低,可靠性高,在各種應(yīng)用中非常有助于設(shè)備實(shí)現(xiàn)更低功耗和小型化。本產(chǎn)品于世界首次※成功實(shí)現(xiàn)SiC-SBD與SiC-MOSFET的一體化封裝。內(nèi)部二極管的正向電壓(VF)降低70%以上,實(shí)現(xiàn)更低損耗的同時(shí)
2019-03-18 23:16:12
SJ6000國產(chǎn)激光干涉儀配備的EC20環(huán)境補(bǔ)償單元,由環(huán)境補(bǔ)償主機(jī)(內(nèi)置濕度傳感器和氣壓傳感器)、空氣溫度傳感器和3個(gè)材料溫度傳感器組成,可實(shí)現(xiàn)對(duì)空氣溫度、濕度、大氣壓力和材料溫度的實(shí)時(shí)高精度檢測
2023-05-16 16:40:56
激光跟蹤儀是建立在激光和自動(dòng)控制技術(shù)基礎(chǔ)上的一種高精度三維測量系統(tǒng),主要用于大尺寸空間坐標(biāo)測量領(lǐng)域。它集中了激光干涉測距、角度測量等先進(jìn)技術(shù),基于球坐標(biāo)法測量原理,通過測角、測距實(shí)現(xiàn)三維坐標(biāo)的精密
2023-06-15 10:29:00
。廣泛應(yīng)用于數(shù)控機(jī)床、激光打標(biāo)/切割、三坐標(biāo)、影像儀、精密測量、自動(dòng)化、機(jī)器人、3D打印等領(lǐng)域。中圖國產(chǎn)激光干涉儀sj6000結(jié)合不同的光學(xué)鏡組,可實(shí)現(xiàn)線性測長、角度、直
2023-09-28 09:12:11
GTS國產(chǎn)激光跟蹤儀集激光干涉測距技術(shù)、光電檢測技術(shù)、精密機(jī)械技術(shù)、計(jì)算機(jī)及控制技術(shù)、現(xiàn)代數(shù)值計(jì)算理論于一體,是同時(shí)具高精度(μm級(jí))、大工作空間(百米級(jí))的高性能光電測量儀器,主要用于百米
2023-10-11 16:44:24
國產(chǎn)機(jī)床激光干涉儀sj6000除了環(huán)境適應(yīng)能力好,還可以進(jìn)行動(dòng)態(tài)高速測量,選配相應(yīng)的功能模塊元件后還可以測量振動(dòng)幅度、平面度、線速度、角速度等。產(chǎn)品簡介國產(chǎn)機(jī)床激光干涉儀sj6000具有測量精度高
2024-01-11 09:12:25
藍(lán)寶石(Al2O3),硅 (Si),碳化硅(SiC)LED襯底材料的選用比較
對(duì)于制作LED芯片來說,襯底材料的選用是首要考慮的問題。應(yīng)該采用
2009-11-17 09:39:204932 同益激光重磅推出5000W 1064nm激光器
2010年5月27-30日,同益激光與合作伙伴如岡自動(dòng)化控制技術(shù)(上海)有限公司將參加亞洲最大
2010-04-14 09:27:40824 目前日本日亞公司壟斷了藍(lán)寶石襯底上GaN基LED專利技術(shù),美國CREE公司壟斷了SiC襯底上GaN基LED專利技術(shù)。因此,研發(fā)其他襯底上的GaN基LED生產(chǎn)技術(shù)成為國際上的一個(gè)熱點(diǎn)。南昌大學(xué)
2010-06-07 11:27:281388 隨著國產(chǎn)襯底的生產(chǎn)工藝和控制能力的不斷提升,國產(chǎn)襯底的應(yīng)用也越來越廣。作者就國產(chǎn)襯底在雙極型集成電路制造中普遍關(guān)心的問題做了全面的評(píng)估,包括物理參數(shù)、電參數(shù)、圓片合格率,以及大規(guī)模生產(chǎn)的工程能力指數(shù)。評(píng)估結(jié)果說明國產(chǎn)襯底在品質(zhì)上已經(jīng)完全能夠媲美進(jìn)口襯底,滿足大規(guī)模生產(chǎn)的需求。
2018-04-22 09:53:4910142 、機(jī)械應(yīng)力和熱預(yù)算等方面都有獨(dú)特的要求,因此確定合適的剝離技術(shù)比較困難。這里只是枚舉了幾個(gè)例子,實(shí)際情況更為復(fù)雜。我們將在本文中重點(diǎn)討論激光剝離(laser debonding):如抗高溫更兼容的材料可應(yīng)用于哪些情況,激光剝離的特性適于哪些應(yīng)用等。
2018-07-10 09:27:008066 大族顯視與半導(dǎo)體從2013年便開始對(duì)激光剝離(Laser Lift Off,簡稱LLO)技術(shù)進(jìn)行研發(fā)及技術(shù)儲(chǔ)備,針對(duì)GaN基Micro LED和垂直結(jié)構(gòu)LED晶圓藍(lán)寶石襯底的剝離,成功研發(fā)并推出全自動(dòng)LLO激光剝離設(shè)備。
2019-05-07 10:21:2813090 LED襯底材料是半導(dǎo)體照明產(chǎn)業(yè)的基礎(chǔ)材料,其決定了半導(dǎo)體照明技術(shù)的發(fā)展路線。目前,能作為LED襯底的材料包括Al2O3、SiC、Si、GaN、GaAs、Zno等,但商用最廣泛的是Al2O3、SiC
2019-07-30 15:14:033716 高功率激光器國產(chǎn)化加快 發(fā)展瓶頸亟待突破 高功率激光器具有體積小、重量輕、電光轉(zhuǎn)換效率高、性能穩(wěn)定、可靠性高和壽命長等特點(diǎn)。目前低功率激光器和中功率激光器正在逐步實(shí)現(xiàn)國產(chǎn)化,高功率激光器國產(chǎn)
2019-12-02 23:09:00391 全球SiC的產(chǎn)業(yè)格局呈現(xiàn)美國、歐洲、日本三足鼎立的態(tài)勢。美國的科銳、德國的英飛凌、日本的羅姆這三家公司占據(jù)了全球SiC市場約70%的份額,其中科銳、羅姆實(shí)現(xiàn)了從SiC襯底、外延、設(shè)計(jì)、器件及模塊制造的全產(chǎn)業(yè)鏈布局。
2020-09-26 10:14:562013 全球新一輪動(dòng)力電池產(chǎn)能擴(kuò)充釋放巨大的鋰電材料、設(shè)備市場需求空間,國產(chǎn)鋰電設(shè)備迎來新的發(fā)展機(jī)遇和挑戰(zhàn)。 在銳科激光冠名的智能制造升級(jí)專場,銳科激光副董事長閆大鵬作了“國產(chǎn)光纖激光器的現(xiàn)狀及未來”的主題
2020-12-23 17:54:423118 同時(shí),伴隨著我國產(chǎn)業(yè)制造升級(jí),芯片和半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)把握住需求和供給的矛與盾,在外部環(huán)境和內(nèi)部大循環(huán)的推動(dòng)下,正在實(shí)現(xiàn)國產(chǎn)化突破。
2021-01-19 15:30:143380 日本關(guān)西學(xué)院大學(xué)和豐田通商于3月1日宣布,他們已開發(fā)出“動(dòng)態(tài)AGE-ing”技術(shù),這是一種表面納米控制工藝技術(shù),可以消除使SiC襯底上的半導(dǎo)體性能變差的缺陷。
2021-03-06 10:20:083028 來探討一下碳化硅襯底的國產(chǎn)化進(jìn)程。 ◆ 碳化硅襯底類型 碳化硅分為立方相(閃鋅礦結(jié)構(gòu))、六方相(纖鋅礦結(jié)構(gòu))和菱方相3大類共 260多種結(jié)構(gòu),目前只有六方相中的 4H-SiC、6H-SiC才有商業(yè)價(jià)值。另碳化硅根據(jù)電學(xué)性能的不同主要可分
2021-07-29 11:01:184375 在開關(guān)頻率、散熱、耐壓、功率密度方面優(yōu)勢更為凸顯。 下文主要對(duì)國產(chǎn)SiC MOSFET進(jìn)行介紹并與國外相近參數(shù)的主流產(chǎn)品相對(duì)比。 國產(chǎn)1700V SiC MOSFET 派恩杰2018年開始專注于第三代半導(dǎo)體SiC、GaN的功率器件的研究。公司成立半年后就研制出了首款650V GaN功率器件,在基于
2021-09-16 11:05:374228 退火后對(duì)結(jié)特性的剝離和清潔對(duì)于實(shí)現(xiàn)預(yù)期和一致的器件性能至關(guān)重要,發(fā)現(xiàn)光致抗蝕劑剝離和清洗會(huì)導(dǎo)致:結(jié)蝕刻、摻雜劑漂白和結(jié)氧化,植入條件可以增強(qiáng)這些效應(yīng),令人驚訝的是,剝離和清潔也會(huì)影響摻雜劑分布,并且
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