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電子發(fā)燒友網(wǎng)>模擬技術(shù)>重磅!國產(chǎn)SiC襯底激光剝離實(shí)現(xiàn)新突破

重磅!國產(chǎn)SiC襯底激光剝離實(shí)現(xiàn)新突破

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北京通美過會(huì)!磷化銦襯底全球第二,募資11.67億量產(chǎn)8英寸砷化鎵襯底及擴(kuò)充產(chǎn)能

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2023年開年融資金額超20億!國產(chǎn)SiC產(chǎn)業(yè)鏈逐漸完整,汽車、儲(chǔ)能產(chǎn)品落地

Valley的SiC晶圓廠,并開始投產(chǎn)8英寸SiC襯底。又在今年1月份與采埃孚合作,斥資超20億歐元在德國薩爾州建廠。 在國際大廠布局的同時(shí),國產(chǎn)碳化硅廠商也在加速追趕,爭搶當(dāng)下最火熱的汽車、儲(chǔ)能等市場。2022年國內(nèi)已有不少SiC擴(kuò)產(chǎn)項(xiàng)目啟動(dòng)、竣工,進(jìn)入2023年,碳化硅產(chǎn)業(yè)鏈在投
2023-02-21 16:32:213622

國產(chǎn)8英寸SiC襯底捷報(bào)頻出,與海外龍頭差距還有多大?

電子發(fā)燒友網(wǎng)報(bào)道(文/梁浩斌)“碳化硅行業(yè)得襯底者得天下”,襯底作為SiC產(chǎn)業(yè)鏈中成本占比最大的部分,自然是各家必爭之地。在下游需求帶動(dòng)下,SiC襯底正在從6英寸開始向8英寸推進(jìn),更大的襯底尺寸
2022-11-23 09:22:561614

首次量產(chǎn)至今8年時(shí)間,溝槽柵SiC MOSFET的發(fā)展現(xiàn)狀如何?

SiC襯底上生成MOS電容器的結(jié)構(gòu),這項(xiàng)專利后來被視為促成SiC MOSFET誕生的關(guān)鍵。 ? 不過,由于襯底良率、制造工藝等問題,直到2011年SiC MOSFET才正式實(shí)現(xiàn)商業(yè)化,彼時(shí)的Cree推出
2023-03-18 00:07:003104

成本低質(zhì)量還高,國產(chǎn)廠商新突破帶來SiC成本拐點(diǎn)?

電子發(fā)燒友網(wǎng)報(bào)道(文/梁浩斌)今年以來國內(nèi)的SiC產(chǎn)業(yè)進(jìn)展神速,除了上游廠商陸續(xù)放出8英寸襯底的進(jìn)展之外,還有多家襯底廠商與海外半導(dǎo)體巨頭簽下供應(yīng)協(xié)議。上個(gè)月,國內(nèi)SiC襯底龍頭天岳先進(jìn)展示了一種
2023-07-12 09:00:19829

多款產(chǎn)品通過車規(guī)認(rèn)證,國產(chǎn)SiC MOSFET加速上車

電子發(fā)燒友網(wǎng)報(bào)道(文/梁浩斌)在過去的2023年,國產(chǎn)SiC功率器件產(chǎn)品迎來了全面爆發(fā),眾多廠商宣布入局或是推出車規(guī)級(jí)SiC MOSFET產(chǎn)品,尋求打進(jìn)汽車供應(yīng)鏈。而今年春節(jié)后的新一輪新能源汽車降價(jià)
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SIC MOSFET

有使用過SIC MOSFET 的大佬嗎 想請(qǐng)教一下驅(qū)動(dòng)電路是如何搭建的。
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SiC SBD的器件結(jié)構(gòu)和特征

程度的小電流,所以與Si-FRD相比,能夠明顯地減少損耗。而且,該瞬態(tài)電流基本上不隨溫度和正向電流而變化,所以不管何種環(huán)境下,都能夠穩(wěn)定地實(shí)現(xiàn)快速恢復(fù)。另外,還可以降低由恢復(fù)電流引起的噪音,達(dá)到降噪的效果。SiC半導(dǎo)體SiC-MOSFET
2019-03-14 06:20:14

SiC-MOSFET器件結(jié)構(gòu)和特征

比Si器件低,不需要進(jìn)行電導(dǎo)率調(diào)制就能夠以MOSFET實(shí)現(xiàn)高耐壓和低阻抗?! 《襇OSFET原理上不產(chǎn)生尾電流,所以用SiC-MOSFET替代IGBT時(shí),能夠明顯地減少開關(guān)損耗,并且實(shí)現(xiàn)散熱部件
2023-02-07 16:40:49

SiC-MOSFET有什么優(yōu)點(diǎn)

,不需要進(jìn)行電導(dǎo)率調(diào)制就能夠以MOSFET實(shí)現(xiàn)高耐壓和低阻抗。而且MOSFET原理上不產(chǎn)生尾電流,所以用SiC-MOSFET替代IGBT時(shí),能夠明顯地減少開關(guān)損耗,并且實(shí)現(xiàn)散熱部件的小型化。另外
2019-04-09 04:58:00

SiC-MOSFET的應(yīng)用實(shí)例

本章將介紹部分SiC-MOSFET的應(yīng)用實(shí)例。其中也包括一些以前的信息和原型級(jí)別的內(nèi)容,總之希望通過這些介紹能幫助大家認(rèn)識(shí)采用SiC-MOSFET的好處以及可實(shí)現(xiàn)的新功能。另外,除了
2018-11-27 16:38:39

SiC/GaN具有什么優(yōu)勢?

基于SiC/GaN的新一代高密度功率轉(zhuǎn)換器SiC/GaN具有的優(yōu)勢
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SiC46x是什么?SiC46x的主要應(yīng)用領(lǐng)域有哪些?

SiC46x是什么?SiC46x有哪些優(yōu)異的設(shè)計(jì)?SiC46x的主要應(yīng)用領(lǐng)域有哪些?
2021-07-09 07:11:50

SiC功率元器件的開發(fā)背景和優(yōu)點(diǎn)

進(jìn)行介紹。SiC功率元器件的開發(fā)背景之前談到,通過將SiC應(yīng)用到功率元器件上,實(shí)現(xiàn)以往Si功率元器件無法實(shí)現(xiàn)的低損耗功率轉(zhuǎn)換。不難發(fā)現(xiàn)這是SiC使用到功率元器件上的一大理由。其背景是為了促進(jìn)解決全球
2018-11-29 14:35:23

SiC功率器件SiC-MOSFET的特點(diǎn)

,不需要進(jìn)行電導(dǎo)率調(diào)制就能夠以MOSFET實(shí)現(xiàn)高耐壓和低阻抗。而且MOSFET原理上不產(chǎn)生尾電流,所以用SiC-MOSFET替代IGBT時(shí),能夠明顯地減少開關(guān)損耗,并且實(shí)現(xiàn)散熱部件的小型化。另外
2019-05-07 06:21:55

SiC功率器件概述

載流子器件(肖特基勢壘二極管和MOSFET)去實(shí)現(xiàn)高耐壓,從而同時(shí)實(shí)現(xiàn) "高耐壓"、"低導(dǎo)通電阻"、"高頻" 這三個(gè)特性。另外,帶隙較寬,是Si的3倍,因此SiC功率器件即使在高溫下也可以穩(wěn)定工作。
2019-07-23 04:20:21

SiC功率器件的封裝技術(shù)研究

不具備足夠的堅(jiān)固性。當(dāng)前對(duì)大功率、高溫器件封裝技術(shù)的大量需求引起了對(duì)這一領(lǐng)域的研發(fā)熱潮。  SiC器件的封裝襯底必須便于處理固態(tài)銅厚膜導(dǎo)電層,且具有高熱導(dǎo)率和低熱膨脹系數(shù),從而可以把大尺寸SiC芯片直接焊接到襯底
2018-09-11 16:12:04

SiC大規(guī)模上車,三原因成加速上車“推手”

實(shí)現(xiàn)“充電5分鐘,續(xù)航超200公里。”極氪智能旗下威睿電動(dòng)汽車技術(shù)有限公司正式發(fā)布了600kW超充技術(shù),并已實(shí)現(xiàn)量產(chǎn),據(jù)稱可實(shí)現(xiàn)充電5分鐘續(xù)航里程增加300公里。哪吒汽車發(fā)布浩智800V SiC高性能
2022-12-27 15:05:47

Sic mesfet工藝技術(shù)研究與器件研究

Sic mesfet工藝技術(shù)研究與器件研究針對(duì)SiC 襯底缺陷密度相對(duì)較高的問題,研究了消除或減弱其影響的工藝技術(shù)并進(jìn)行了器件研制。通過優(yōu)化刻蝕條件獲得了粗糙度為2?07 nm的刻蝕表面;犧牲氧化
2009-10-06 09:48:48

激光剝離技術(shù)

TMM、Duorid和PTFE。在加工柔性基材和敏感基材時(shí),激光直接成型技術(shù)優(yōu)勢更明顯,不用與材料接觸,就能進(jìn)行光蝕,因此更可靠,不會(huì)對(duì)基材產(chǎn)生損害。激光直接大面積剝離銅層不傷基底材料(軟基,硬基均可)汪先生 ***
2016-06-27 13:25:29

激光刻蝕

TMM、Duorid和PTFE。在加工柔性基材和敏感基材時(shí),激光直接成型技術(shù)優(yōu)勢更明顯,不用與材料接觸,就能進(jìn)行光蝕,因此更可靠,不會(huì)對(duì)基材產(chǎn)生損害。激光直接大面積剝離銅層不傷基底材料(軟基,硬基均可)汪先生 ***
2016-06-27 13:27:15

激光直接剝離,形成電路

TMM、Duorid和PTFE。在加工柔性基材和敏感基材時(shí),激光直接成型技術(shù)優(yōu)勢更明顯,不用與材料接觸,就能進(jìn)行光蝕,因此更可靠,不會(huì)對(duì)基材產(chǎn)生損害。激光直接大面積剝離銅層不傷基底材料(軟基,硬基均可)汪先生 ***
2016-06-27 13:26:43

GaN和SiC區(qū)別

半導(dǎo)體的關(guān)鍵特性是能帶隙,能帶動(dòng)電子進(jìn)入導(dǎo)通狀態(tài)所需的能量。寬帶隙(WBG)可以實(shí)現(xiàn)更高功率,更高開關(guān)速度的晶體管,WBG器件包括氮化鎵(GaN)和碳化硅(SiC),以及其他半導(dǎo)體。 GaN和SiC
2022-08-12 09:42:07

【羅姆SiC-MOSFET 試用體驗(yàn)連載】風(fēng)電伺服驅(qū)動(dòng)控制器SiC器件試用

項(xiàng)目名稱:風(fēng)電伺服驅(qū)動(dòng)控制器SiC器件試用試用計(jì)劃:申請(qǐng)理由本人在工業(yè)控制領(lǐng)域有十余年的產(chǎn)品開發(fā)經(jīng)驗(yàn),目前正在從事風(fēng)電機(jī)組變槳控制系統(tǒng)伺服驅(qū)動(dòng)器的開發(fā),是一個(gè)國產(chǎn)化項(xiàng)目,也是SiC器件應(yīng)用的領(lǐng)域
2020-04-24 18:03:59

什么是碳化硅(SiC)?它有哪些用途?

什么是碳化硅(SiC)?它有哪些用途?碳化硅(SiC)的結(jié)構(gòu)是如何構(gòu)成的?
2021-06-18 08:32:43

傳輸門的源極與襯底問題

TG傳輸門電路中。當(dāng)C端接+5,C非端接0時(shí)。源極和襯底沒有連在一起,為什么當(dāng)輸入信號(hào)改變時(shí),其導(dǎo)通程度怎么還會(huì)改變?導(dǎo)電程度不是由柵極和襯底間的電場決定的嗎?而柵極和襯底間的電壓不變。所以其導(dǎo)通程度應(yīng)該與輸入信號(hào)變化無關(guān)啊!而書上說起導(dǎo)通程度歲輸入信號(hào)的改變而改變?為什么?求詳細(xì)解釋!謝謝!
2012-03-29 22:51:18

使用SiC-SBD的優(yōu)勢

-SBD和Si-SBD均具有高速性的特征,SiC-SBD不僅擁有優(yōu)異的高速性且實(shí)現(xiàn)了高耐壓。Si-SBD的耐壓極限為200V,而SiC具有硅10倍的擊穿場強(qiáng),故ROHM已經(jīng)開始量產(chǎn)1200V的產(chǎn)品,同時(shí)在推進(jìn)
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大功率光纖激光合成功率突破3kW

,耦合器,合成實(shí)驗(yàn),突破,成功率【DOI】:CNKI:SUN:QJGY.0.2010-02-006【正文快照】:2010年1月16日,中國兵器裝備研究院大功率激光實(shí)驗(yàn)室成功完成了7路光纖激光組束合成實(shí)驗(yàn),在
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未來發(fā)展導(dǎo)向之Sic功率元器件

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簡述LED襯底技術(shù)

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2023-06-15 10:29:00

中圖國產(chǎn)激光干涉儀

。廣泛應(yīng)用于數(shù)控機(jī)床、激光打標(biāo)/切割、三坐標(biāo)、影像儀、精密測量、自動(dòng)化、機(jī)器人、3D打印等領(lǐng)域。中圖國產(chǎn)激光干涉儀sj6000結(jié)合不同的光學(xué)鏡組,可實(shí)現(xiàn)線性測長、角度、直
2023-09-28 09:12:11

國產(chǎn)激光跟蹤儀廠家

GTS國產(chǎn)激光跟蹤儀集激光干涉測距技術(shù)、光電檢測技術(shù)、精密機(jī)械技術(shù)、計(jì)算機(jī)及控制技術(shù)、現(xiàn)代數(shù)值計(jì)算理論于一體,是同時(shí)具高精度(μm級(jí))、大工作空間(百米級(jí))的高性能光電測量儀器,主要用于百米
2023-10-11 16:44:24

國產(chǎn)機(jī)床激光干涉儀

國產(chǎn)機(jī)床激光干涉儀sj6000除了環(huán)境適應(yīng)能力好,還可以進(jìn)行動(dòng)態(tài)高速測量,選配相應(yīng)的功能模塊元件后還可以測量振動(dòng)幅度、平面度、線速度、角速度等。產(chǎn)品簡介國產(chǎn)機(jī)床激光干涉儀sj6000具有測量精度高
2024-01-11 09:12:25

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2010-04-14 09:27:40824

Si襯底設(shè)計(jì)的功率型GaN基LED制造技術(shù)

目前日本日亞公司壟斷了藍(lán)寶石襯底上GaN基LED專利技術(shù),美國CREE公司壟斷了SiC襯底上GaN基LED專利技術(shù)。因此,研發(fā)其他襯底上的GaN基LED生產(chǎn)技術(shù)成為國際上的一個(gè)熱點(diǎn)。南昌大學(xué)
2010-06-07 11:27:281388

2023年國產(chǎn)汽車芯片、SIC進(jìn)展報(bào)告

芯片SiC
電子發(fā)燒友網(wǎng)官方發(fā)布于 2023-04-25 17:38:23

14.1 SiC基本性質(zhì)(下)

SiC
jf_75936199發(fā)布于 2023-06-24 19:14:08

國產(chǎn)襯底片的發(fā)展在雙極型集成電路制造中的應(yīng)用詳細(xì)資料概述

隨著國產(chǎn)襯底的生產(chǎn)工藝和控制能力的不斷提升,國產(chǎn)襯底的應(yīng)用也越來越廣。作者就國產(chǎn)襯底在雙極型集成電路制造中普遍關(guān)心的問題做了全面的評(píng)估,包括物理參數(shù)、電參數(shù)、圓片合格率,以及大規(guī)模生產(chǎn)的工程能力指數(shù)。評(píng)估結(jié)果說明國產(chǎn)襯底在品質(zhì)上已經(jīng)完全能夠媲美進(jìn)口襯底,滿足大規(guī)模生產(chǎn)的需求。
2018-04-22 09:53:4910142

紫外激光剝離,適用于chip last或RDL-first扇出型晶圓級(jí)封裝

、機(jī)械應(yīng)力和熱預(yù)算等方面都有獨(dú)特的要求,因此確定合適的剝離技術(shù)比較困難。這里只是枚舉了幾個(gè)例子,實(shí)際情況更為復(fù)雜。我們將在本文中重點(diǎn)討論激光剝離(laser debonding):如抗高溫更兼容的材料可應(yīng)用于哪些情況,激光剝離的特性適于哪些應(yīng)用等。
2018-07-10 09:27:008066

大族顯視推出全自動(dòng) LLO激光剝離設(shè)備,助力Micro LED顯示突破技術(shù)瓶頸

大族顯視與半導(dǎo)體從2013年便開始對(duì)激光剝離(Laser Lift Off,簡稱LLO)技術(shù)進(jìn)行研發(fā)及技術(shù)儲(chǔ)備,針對(duì)GaN基Micro LED和垂直結(jié)構(gòu)LED晶圓藍(lán)寶石襯底剝離,成功研發(fā)并推出全自動(dòng)LLO激光剝離設(shè)備。
2019-05-07 10:21:2813090

襯底LED未來有望引領(lǐng)市場發(fā)展

LED襯底材料是半導(dǎo)體照明產(chǎn)業(yè)的基礎(chǔ)材料,其決定了半導(dǎo)體照明技術(shù)的發(fā)展路線。目前,能作為LED襯底的材料包括Al2O3、SiC、Si、GaN、GaAs、Zno等,但商用最廣泛的是Al2O3、SiC
2019-07-30 15:14:033716

高功率激光國產(chǎn)化加快發(fā)展瓶頸亟真空焊接爐來助力

高功率激光國產(chǎn)化加快 發(fā)展瓶頸亟待突破 高功率激光器具有體積小、重量輕、電光轉(zhuǎn)換效率高、性能穩(wěn)定、可靠性高和壽命長等特點(diǎn)。目前低功率激光器和中功率激光器正在逐步實(shí)現(xiàn)國產(chǎn)化,高功率激光國產(chǎn)
2019-12-02 23:09:00391

第三代半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的發(fā)展已成為半導(dǎo)體行業(yè)實(shí)現(xiàn)突破的關(guān)鍵環(huán)節(jié)

全球SiC的產(chǎn)業(yè)格局呈現(xiàn)美國、歐洲、日本三足鼎立的態(tài)勢。美國的科銳、德國的英飛凌、日本的羅姆這三家公司占據(jù)了全球SiC市場約70%的份額,其中科銳、羅姆實(shí)現(xiàn)了從SiC襯底、外延、設(shè)計(jì)、器件及模塊制造的全產(chǎn)業(yè)鏈布局。
2020-09-26 10:14:562013

國產(chǎn)光纖激光器的突破與不足

全球新一輪動(dòng)力電池產(chǎn)能擴(kuò)充釋放巨大的鋰電材料、設(shè)備市場需求空間,國產(chǎn)鋰電設(shè)備迎來新的發(fā)展機(jī)遇和挑戰(zhàn)。 在銳科激光冠名的智能制造升級(jí)專場,銳科激光副董事長閆大鵬作了“國產(chǎn)光纖激光器的現(xiàn)狀及未來”的主題
2020-12-23 17:54:423118

電子行業(yè)將迎來新的發(fā)展機(jī)遇,正在實(shí)現(xiàn)國產(chǎn)突破

同時(shí),伴隨著我國產(chǎn)業(yè)制造升級(jí),芯片和半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)把握住需求和供給的矛與盾,在外部環(huán)境和內(nèi)部大循環(huán)的推動(dòng)下,正在實(shí)現(xiàn)國產(chǎn)突破。
2021-01-19 15:30:143380

創(chuàng)新工藝可以消除SiC襯底中的缺陷

日本關(guān)西學(xué)院大學(xué)和豐田通商于3月1日宣布,他們已開發(fā)出“動(dòng)態(tài)AGE-ing”技術(shù),這是一種表面納米控制工藝技術(shù),可以消除使SiC襯底上的半導(dǎo)體性能變差的缺陷。
2021-03-06 10:20:083028

簡述碳化硅襯底國產(chǎn)化進(jìn)程

來探討一下碳化硅襯底國產(chǎn)化進(jìn)程。 ◆ 碳化硅襯底類型 碳化硅分為立方相(閃鋅礦結(jié)構(gòu))、六方相(纖鋅礦結(jié)構(gòu))和菱方相3大類共 260多種結(jié)構(gòu),目前只有六方相中的 4H-SiC、6H-SiC才有商業(yè)價(jià)值。另碳化硅根據(jù)電學(xué)性能的不同主要可分
2021-07-29 11:01:184375

深入解讀?國產(chǎn)高壓SiC MOSFET及競品分析

在開關(guān)頻率、散熱、耐壓、功率密度方面優(yōu)勢更為凸顯。 下文主要對(duì)國產(chǎn)SiC MOSFET進(jìn)行介紹并與國外相近參數(shù)的主流產(chǎn)品相對(duì)比。 國產(chǎn)1700V SiC MOSFET 派恩杰2018年開始專注于第三代半導(dǎo)體SiC、GaN的功率器件的研究。公司成立半年后就研制出了首款650V GaN功率器件,在基于
2021-09-16 11:05:374228

光致抗蝕劑剝離和清洗對(duì)器件性能的影響

退火后對(duì)結(jié)特性的剝離和清潔對(duì)于實(shí)現(xiàn)預(yù)期和一致的器件性能至關(guān)重要,發(fā)現(xiàn)光致抗蝕劑剝離和清洗會(huì)導(dǎo)致:結(jié)蝕刻、摻雜劑漂白和結(jié)氧化,植入條件可以增強(qiáng)這些效應(yīng),令人驚訝的是,剝離和清潔也會(huì)影響摻雜劑分布,并且
2022-05-06 15:55:47349

鍺基襯底抗蝕劑剝離工藝研究

具有高k柵極電介質(zhì)的鍺和絕緣體上鍺(GeOI)MOSFET由于鍺比硅具有更好的載流子傳輸特性,最近受到了先進(jìn)技術(shù)節(jié)點(diǎn)的關(guān)注。對(duì)于Ge或GeOI CMOS,必須確定Ge專用的抗蝕劑剝離工藝,因?yàn)?/div>
2022-05-25 16:43:16319

比亞迪半導(dǎo)體全新推出1200V 1040A SiC功率模塊

作為國內(nèi)首批自主研發(fā)并量產(chǎn)應(yīng)用SiC器件的公司,在SiC功率器件領(lǐng)域,比亞迪半導(dǎo)體于2020年取得重大技術(shù)突破,重磅推出首款1200V 840A/700A三相全橋SiC功率模塊,并已實(shí)現(xiàn)在新能源汽車高端車型電機(jī)驅(qū)動(dòng)控制器中的規(guī)?;瘧?yīng)用。
2022-06-21 14:40:571216

新GaAs IC 金屬剝離的方法

在圖案化的抗蝕劑上濺射或蒸發(fā)金屬,然后剝離金屬,傳統(tǒng)上用于在砷化鎵晶片處理中定義互連,在剝離工藝中,首先在襯底上沉積并圖案化諸如光致抗蝕劑的犧牲材料,然后將金屬沉積在頂部,隨后通過暴露于溶劑浸泡
2022-06-27 17:21:55807

國產(chǎn)8英寸SiC襯底捷報(bào)頻出,與海外龍頭差距還有多大?

電子發(fā)燒友網(wǎng)報(bào)道(文/梁浩斌)“碳化硅行業(yè)得襯底者得天下”,襯底作為SiC產(chǎn)業(yè)鏈中成本占比最大的部分,自然是各家必爭之地。在下游需求帶動(dòng)下,SiC襯底正在從6英寸開始向8英寸推進(jìn),更大的襯底尺寸
2022-11-23 07:20:031487

世界最高電阻率的半絕緣GaN自支撐襯底

近年來,半絕緣SiC襯底上外延生長的GaN高遷移率晶體管(GaN-on-SiC HEMTs)已廣泛應(yīng)用于微波射頻領(lǐng)域的功率放大器電路中。
2022-12-02 11:43:46473

8英寸導(dǎo)電型4H-SiC單晶襯底制備與表征

使用物理氣相傳輸法(PVT)制備出直徑 209 mm 的 4H-SiC 單晶,并通過多線切割、研磨和拋光等一系列加工工藝制備出標(biāo)準(zhǔn) 8 英寸 SiC 單晶襯底。使用拉曼光譜儀、高分辨 X-射線衍射
2022-12-20 11:35:501698

使用 SiC 實(shí)現(xiàn)更快的 EV 充電

使用 SiC 實(shí)現(xiàn)更快的 EV 充電
2022-12-29 10:02:50493

天科合達(dá)談八英寸SiC

本實(shí)驗(yàn)通過以自主研發(fā)的由c軸偏向<11-20>方向4°的6英寸4H-SiC襯底作為籽晶和擴(kuò)徑生長的起始點(diǎn),采用物理氣相傳輸(physical vapor transport, PVT)法進(jìn)行擴(kuò)徑生長獲得直徑放大的SiC單晶。
2023-01-17 14:10:101194

簽下六年保供協(xié)議,派恩杰確定SiC營收新目標(biāo)

經(jīng)過在SiC賽道長達(dá)十年甚至更久的技術(shù)及硬件積累,上述這些SiC芯片供應(yīng)商們由于特定的歷史條件,大多是IDM模式,而且如今包括ST、安森美、羅姆等多家廠商還通過投資或購買SiC襯底產(chǎn)業(yè)鏈逐漸實(shí)現(xiàn)更上游的自我供給。
2023-02-08 14:03:281127

硅基氮化鎵襯底是什么 襯底減薄的原因

  硅基氮化鎵襯底是一種新型的襯底,它可以提高襯底的熱穩(wěn)定性和抗拉強(qiáng)度,從而提高襯底的性能。它主要用于電子、光學(xué)、電力、航空航天等領(lǐng)域。
2023-02-14 14:36:081130

SiC功率器件的封裝形式

SiC器件的封裝襯底必須便于處理固態(tài)銅厚膜導(dǎo)電層,且具有高熱導(dǎo)率和低熱膨脹系數(shù),從而可以把大尺寸SiC芯片直接焊接到襯底上。SiN是一種極具吸引力的襯底,因?yàn)樗哂泻侠淼臒釋?dǎo)率(60W/m-K)和低熱膨脹系數(shù)(2.7ppm/℃),與SiC的熱膨脹系數(shù) (3.9ppm/℃)十分接近。
2023-02-16 14:05:573194

8吋!SiC行業(yè)又增5個(gè)“玩家”

根據(jù)《2022碳化硅(SiC)產(chǎn)業(yè)調(diào)研白皮書》,目前全球已有超14家企業(yè)在8吋碳化硅襯底方面實(shí)現(xiàn)突破,而Wolfspeed已于去年實(shí)現(xiàn)生產(chǎn)。謝明凱指出,在8吋方面,盛新材料與Wolfspeed的距離只有一年之遙。
2023-03-17 10:55:07904

盛美上海首次獲得 Ultra C SiC 碳化硅襯底清洗設(shè)備的采購訂單

解決方案的領(lǐng)先供應(yīng)商,今宣布首次獲得Ultra C SiC 碳化硅襯底清洗設(shè)備的采購訂單。該平臺(tái)還可配置盛美上海自主研發(fā)的空間交變相位移(SAPS)清洗技術(shù),在不損傷器件的前提下實(shí)現(xiàn)更全面的清洗。該訂單來自中國領(lǐng)先的碳化硅襯底制造商,
2023-03-28 17:17:11336

重磅突破:鳳凰動(dòng)力高速AGV舵輪

重磅突破:鳳凰動(dòng)力高速AGV舵輪,較傳統(tǒng)AGV舵輪5倍速度提升,意味著客戶提升5倍運(yùn)轉(zhuǎn)效率,明智之選鳳凰動(dòng)力真給力
2023-04-12 15:15:38548

重磅!國產(chǎn)SiC襯底激光剝離實(shí)現(xiàn)突破

以砂漿線切割為例,多達(dá)40%的碳化硅晶錠以粉塵的形式浪費(fèi)掉,而且切割線的高速行走過程還會(huì)造成20~50μm的粗糙起伏與表面/亞表面結(jié)構(gòu)損傷,據(jù)分析,碳化硅多線切割技術(shù)的總材料損耗量高達(dá)30%~50%。
2023-05-24 17:03:181488

SiC外延工藝基本介紹

外延層是在晶圓的基礎(chǔ)上,經(jīng)過外延工藝生長出特定單晶薄膜,襯底晶圓和外延薄膜合稱外延片。其中在導(dǎo)電型碳化硅襯底上生長碳化硅外延層制得碳化硅同質(zhì)外延片,可進(jìn)一步制成肖特基二極管、MOSFET、 IGBT 等功率器件,其中應(yīng)用最多的是4H-SiC襯底
2023-05-31 09:27:092828

2023年SiC襯底市場將持續(xù)強(qiáng)勁增長

研究機(jī)構(gòu)TECHCET日前預(yù)測,盡管全球經(jīng)濟(jì)普遍放緩,但2023年SiC襯底市場將持續(xù)強(qiáng)勁增長。
2023-06-08 10:12:34436

國產(chǎn)CVD設(shè)備在4H-SiC襯底上的同質(zhì)外延實(shí)驗(yàn)

SiC薄膜生長方法有多種,其中化學(xué)氣相沉積(chemical vapor deposition, CVD)法具有可以精確控制外延膜厚度和摻雜濃度、缺陷較少、生長速度適中、過程可自動(dòng)控制等優(yōu)點(diǎn),是生長用于制造器件的SiC 外延膜的最常用的方法。
2023-06-19 09:35:52644

度亙激光重磅發(fā)布通信級(jí)單模980nm半導(dǎo)體激光芯片與模塊產(chǎn)品

度亙激光重磅發(fā)布通信級(jí)單模980nm半導(dǎo)體激光芯片與模塊產(chǎn)品
2022-11-23 10:29:16689

山大與南砂晶圓團(tuán)隊(duì)在8英寸SiC襯底位錯(cuò)缺陷控制方面的突破

碳化硅(SiC)作為第三代半導(dǎo)體材料, 具有高擊穿場強(qiáng)、高飽和電子漂移速率、高熱導(dǎo)率、強(qiáng)化學(xué)穩(wěn)定性等優(yōu)良特性
2023-08-31 16:13:05580

新能源汽車?yán)瓌?dòng)SiC第三代半導(dǎo)體上車:襯底與外延環(huán)節(jié)的材料,設(shè)備國產(chǎn)化機(jī)遇

導(dǎo)電型襯底Wolfspeed一家獨(dú)大,絕緣型襯底天岳先進(jìn)入圍前三。2020年全球?qū)щ娦?b class="flag-6" style="color: red">SiC襯底依舊被Wolfspeed、II-VI、羅姆壟斷,CR3高達(dá)90%,其中Wolfspeed市占率高達(dá)62
2023-09-07 16:26:321599

第三代半導(dǎo)體SiC產(chǎn)業(yè)鏈研究

SiC 襯底是由 SiC 單晶材料制造 而成的晶圓片。襯底可以直接進(jìn)入 晶圓制造環(huán)節(jié)生產(chǎn)半導(dǎo)體器件,也 可以經(jīng)過外延加工,即在襯底上生 長一層新的單晶,形成外延片。
2023-10-18 15:35:394

科友半導(dǎo)體官宣,首批8吋碳化硅襯底下線

科友半導(dǎo)體8英寸碳化硅(SiC)中試線在2023年4月正式貫通后,同步推進(jìn)晶體生長厚度、良率提升和襯底加工產(chǎn)線建設(shè),加快襯底加工設(shè)備調(diào)試與工藝參數(shù)優(yōu)化。
2023-10-18 17:43:40724

SiC襯底,產(chǎn)業(yè)瓶頸亟待突破.zip

SiC襯底,產(chǎn)業(yè)瓶頸亟待突破
2023-01-13 09:06:233

市場空間巨大,SiC國產(chǎn)化趨勢加速.zip

市場空間巨大,SiC國產(chǎn)化趨勢加速
2023-01-13 09:07:052

2023年國產(chǎn)SiC上車

2023年國產(chǎn)SiC上車
2023-10-31 23:02:000

國產(chǎn)薄片激光實(shí)現(xiàn)突破!

高功率超快激光器應(yīng)用于先進(jìn)制造、信息、微電子、醫(yī)療、能源、軍事等領(lǐng)域,相關(guān)科技應(yīng)用研究對(duì)推進(jìn)國家戰(zhàn)略發(fā)展至關(guān)重要。激光增益器件是高功率超快激光器的核心基礎(chǔ)材料,受到世界各國的高度關(guān)注。
2023-11-21 10:52:44235

2家SiC材料廠完成數(shù)億元新一輪融資

去年7月,超芯星6英寸SiC襯底進(jìn)入美國一流器件廠商,由此成功打入美國市場;同年,超芯星成功研制出8英寸SiC襯底;今年7月,超芯星在官微宣布,公司已與國內(nèi)知名下游客戶簽訂了8英寸SiC深度戰(zhàn)略合作協(xié)議。為滿足國內(nèi)外市場需求,超芯星計(jì)劃將6-8英寸SiC襯底的年產(chǎn)量提升至150萬片。
2023-12-15 17:16:161131

大尺寸SiC單晶的研究進(jìn)展

在新能源產(chǎn)業(yè)強(qiáng)勁需求下,全球SiC產(chǎn)業(yè)步入高速成長期,推升了對(duì)SiC襯底產(chǎn)能的需求。
2023-12-19 10:09:18295

海目星激光重磅推出高智能雙層寬幅高速涂布機(jī)

海目星激光重磅推出高智能雙層寬幅高速涂布機(jī),具備更精密的工藝制程、更智能的生產(chǎn)過程、更高的生產(chǎn)效率,突破鋰電高端產(chǎn)能。
2024-01-18 10:36:29256

碳化硅襯底價(jià)格戰(zhàn)風(fēng)起云涌?聽產(chǎn)業(yè)鏈上市公司怎么說

對(duì)于一線SiC廠商掀起“價(jià)格戰(zhàn)”、SiC襯底降價(jià)近三成等說法,業(yè)內(nèi)持有不同觀點(diǎn)。
2024-02-23 11:14:58130

8英寸SiC襯底陣容加速發(fā)展 全球8英寸SiC晶圓廠將達(dá)11座

近年來,隨著碳化硅(SiC襯底需求的持續(xù)激增,降低SiC成本的呼聲日益強(qiáng)烈,最終產(chǎn)品價(jià)格仍然是消費(fèi)者的關(guān)鍵決定因素。SiC襯底的成本在整個(gè)成本結(jié)構(gòu)中占比最高,達(dá)到50%左右。
2024-03-08 14:24:32197

融資2億!這家SiC企業(yè)加快IPO進(jìn)程

前不久,SiC晶錠襯底企業(yè)博雅新材公布IPO進(jìn)度,近日,該公司完成了2億元融資,加快IPO進(jìn)程。
2024-03-14 11:39:49374

差距縮至2年內(nèi)!國內(nèi)8英寸SiC襯底最新進(jìn)展

SiC晶圓廠,也意味著8英寸襯底正式拉開量產(chǎn)大幕。 ? 那么8英寸襯底有哪些優(yōu)點(diǎn)以及技術(shù)難點(diǎn),目前國內(nèi)廠商的進(jìn)度又如何?近期包括天科合達(dá)、爍科晶體等廠商以及產(chǎn)業(yè)人士都分享了一些最新觀點(diǎn)。 ? 8 英寸碳化硅襯底的必要性 ? 正如硅基芯片所用到的
2023-06-22 00:16:002283

車規(guī)產(chǎn)品井噴!盤點(diǎn)2023年推出的國產(chǎn)車規(guī)SiC MOSFET產(chǎn)品

電子發(fā)燒友網(wǎng)報(bào)道(文/梁浩斌)在過去的2023年里,國內(nèi)碳化硅產(chǎn)業(yè)經(jīng)歷了可能是發(fā)展速度最快的一年。首先是碳化硅襯底取得突破,8英寸進(jìn)展神速,同時(shí)三安和天岳先進(jìn)、天科合達(dá)等獲得海外芯片巨頭的認(rèn)可,簽下
2024-01-16 09:03:131704

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