0
  • 聊天消息
  • 系統(tǒng)消息
  • 評(píng)論與回復(fù)
登錄后你可以
  • 下載海量資料
  • 學(xué)習(xí)在線課程
  • 觀看技術(shù)視頻
  • 寫文章/發(fā)帖/加入社區(qū)
會(huì)員中心
創(chuàng)作中心

完善資料讓更多小伙伴認(rèn)識(shí)你,還能領(lǐng)取20積分哦,立即完善>

3天內(nèi)不再提示

溝道反型層閾值電壓Vth介紹

冬至子 ? 來源:技術(shù)田地 ? 作者:王民 ? 2023-05-30 16:02 ? 次閱讀

昨天關(guān)于跨導(dǎo)Gm的結(jié)論還是有點(diǎn)粗糙,應(yīng)該說跨導(dǎo)很復(fù)雜,和溝道的特性有關(guān)系;需要分開討論,我們先試著了解導(dǎo)電溝道電流是怎么算的:

圖片

如圖,電流分?jǐn)U散電流和漂移電流,工作時(shí)的mosfet電流很大,主要是漂移電流,因此忽略掉擴(kuò)散電流的成分。

同時(shí)我們討論平面MOS,導(dǎo)電溝道主要是柵極下面薄薄的一層(y方向上),x方向上的電場(chǎng)我們也忽略掉。

最后我們得到,溝道中某截面的電流密度Jn和溝道遷移率μ,溝道中載流子濃度n,以及截面上此點(diǎn)的電勢(shì)Φ有關(guān)。

圖片

上上圖是求得電流密度 J,此圖我們求電流,就是對(duì)電流密度做關(guān)于體積的積分,溝道y方向上的長度為L,溝道寬度為Z,最后得到電流ID(既是溝道電流也可以看成漏極電流)

圖片

這個(gè)Z有的文獻(xiàn)里面也會(huì)寫成W,這個(gè)公式表明,溝道電流Id大小與溝道寬長比W/L成正比,也和溝道內(nèi)的電荷密度QN成正比,同時(shí)也是電勢(shì)Φ從0到Vds(從源級(jí)到漏極)的積分。

現(xiàn)在要求這個(gè)積分,主要是求電荷密度QN,場(chǎng)效應(yīng)管的QN不知道,我們可以通過MOS電容的電荷分布來近似。

圖片

左邊就是一個(gè)最簡化的MOS電容模型,上極板接電壓VG,中間的介電材料是SiO2,標(biāo)準(zhǔn)的平行板電容器。當(dāng)VG值>閾值電壓Vt,反型層建立,溝道的總電荷密度QN就是柵電容乘以電容兩端的電勢(shì)差。

那么對(duì)比一下,從MOS電容到MOS晶體管,無非就是加了源級(jí)D和漏極S,其中漏極S還是接地的,電壓為0,所以,只加入了源級(jí)電壓VD,那么,溝道從漏極到源級(jí)(D到S),無非是每個(gè)點(diǎn)的電勢(shì)不一樣,最小是0,最大是VD,僅此而已。

所以接下來就好辦了,直接設(shè)溝道上某處的電勢(shì)為Φ,那么此處的電荷密度QN和MOS電容計(jì)算方法一樣,也是柵電容Cox乘以電勢(shì)差(VG-Vt-Φ)

代入到上面電流ID的公式,

圖片

然后對(duì)溝道上的每個(gè)點(diǎn)的電勢(shì)進(jìn)行積分(積分下限是源極的0V,積分上限是漏極的VD),把電勢(shì)看成變量,其余為常量,被積函數(shù)是最簡單的一次方程,那么原函數(shù)就是二次方程;

圖片

這個(gè)方程就是上篇文章的薩支唐方程,描述了MOSFET的輸出電流與柵極電壓,漏極電壓的關(guān)系。

需要注意的是,這個(gè)方程使用條件有兩個(gè),首先是要MOS溝道完全開啟,也就是VGS要大于閾值電壓Vt,其次溝道不能夾斷,也就是VDS要小于VDsat(預(yù)夾斷電壓/飽和電壓)。

這個(gè)夾斷點(diǎn)的電壓怎么計(jì)算?看圖

圖片

分4種類型討論;

1: 溝道開啟,漏極電壓VDS遠(yuǎn)小于柵極電壓和閾值電壓的差值VG-Vth,此時(shí)二階量直接忽略:

圖片

圖片

得到ID和VDS線性相關(guān),對(duì)應(yīng)的就是MOSFET輸出特性曲線的線性區(qū):

圖片

對(duì)應(yīng)的是輸出特性曲線上0-A這一段直線。

2: 溝道開啟,漏極電壓VDS增大,依然不大于柵壓和閾值電壓之差VGS-Vth。那么此時(shí)溝道內(nèi)由于右邊電勢(shì)為VDS,左邊VS=0,必然會(huì)出現(xiàn)溝道右邊電勢(shì)高,左邊電勢(shì)低的情況,那么,溝道右邊的反型層處電勢(shì)=VGS-Vth-VDS,會(huì)變小,最右邊柵極的影響力被漏極抵消一部分,一部分本來可以柵吸引形成溝道的電子,就被漏極正電壓拉過去了,右邊的反型層便逐漸減弱,溝道在靠近右邊漏極區(qū)域慢慢變窄,于是電流能力變得沒那么強(qiáng)。

圖片

圖片

反應(yīng)在輸出特性曲線上就是電流上升速度變慢,導(dǎo)通阻抗變大:A到B這一段

3: 預(yù)夾斷點(diǎn)(pinch-off),當(dāng)電流繼續(xù)上升,漏極電壓VDS持續(xù)增大,達(dá)到VDS=VGS-Vth這個(gè)點(diǎn)時(shí),此時(shí)溝道的最右邊終于頂不住了,由于VGS-Vth電勢(shì)沒有VDS高,這里已經(jīng)沒有反型層了,也就是導(dǎo)電溝道在這里開始消失了。

圖片

圖片

反映在輸出特性曲線上就是漏極電流飽和了,再也無法靠提升VDS來提升了,除非提升柵壓,否則電流是無法上升的。

4: 完全夾斷(飽和區(qū))

圖片

圖片

圖片

溝道完全夾斷之后,源級(jí)到漏極之間的導(dǎo)電溝道斷了一部分,也就是說電子只能沿著溝道跑到中間,然后溝道不見了,不過為什么還是有電流呢?

因?yàn)閵A斷點(diǎn)后面支撐它的不是原來的黃色P型區(qū)域,而是電壓升高更吸引電子的漏極D及其空間電荷區(qū)(白色SCR) 。因此電子沖入空間電荷區(qū),就相當(dāng)于幾乎沒有阻擋的準(zhǔn)自由電子快速被漏極收集。所以雖然溝道夾斷了,但是電流依然還在。

聲明:本文內(nèi)容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網(wǎng)站授權(quán)轉(zhuǎn)載。文章觀點(diǎn)僅代表作者本人,不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場(chǎng)。文章及其配圖僅供工程師學(xué)習(xí)之用,如有內(nèi)容侵權(quán)或者其他違規(guī)問題,請(qǐng)聯(lián)系本站處理。 舉報(bào)投訴
  • 電容器
    +關(guān)注

    關(guān)注

    64

    文章

    6222

    瀏覽量

    99651
  • MOSFET
    +關(guān)注

    關(guān)注

    147

    文章

    7166

    瀏覽量

    213327
  • 場(chǎng)效應(yīng)管

    關(guān)注

    46

    文章

    1162

    瀏覽量

    63948
  • MOS管
    +關(guān)注

    關(guān)注

    108

    文章

    2418

    瀏覽量

    66847
  • VDS
    VDS
    +關(guān)注

    關(guān)注

    0

    文章

    45

    瀏覽量

    10737
收藏 人收藏

    評(píng)論

    相關(guān)推薦

    解答74HC14中正向閾值電壓和負(fù)向閾值電壓是什么/電壓為多少

    74HC14是施密特觸發(fā)器。正向閾值指輸入端電壓由低變高達(dá)到輸出翻轉(zhuǎn)時(shí)的值。反向閾值指輸入電壓由高到低變化輸出翻轉(zhuǎn)時(shí)的輸入電壓值。正向輸入
    發(fā)表于 10-24 09:30 ?1.8w次閱讀
    解答74HC14中正向<b class='flag-5'>閾值電壓</b>和負(fù)向<b class='flag-5'>閾值電壓</b>是什么/<b class='flag-5'>電壓</b>為多少

    IGBT中的MOS器件電壓、電流與閾值電壓之間的關(guān)系

    分析完閾值電壓的機(jī)制后,下面我們重點(diǎn)分析一下MOS器件的電壓、電流與閾值電壓之間的關(guān)系。
    的頭像 發(fā)表于 11-29 14:42 ?3541次閱讀
    IGBT中的MOS器件<b class='flag-5'>電壓</b>、電流與<b class='flag-5'>閾值電壓</b>之間的關(guān)系

    MOS管閾值電壓的問題

    為什么PMOS的閾值電壓要高于NMOS呢?下面是我用HSPICE仿真的代碼.opt scale=0.1u * Set lambdamp drainp gatep Vdd Vdd pch l=2 w
    發(fā)表于 11-15 14:00

    遲滯比較器閾值電壓除了由我的電阻參數(shù)設(shè)定還要其他因素嗎?

    遲滯比較器的閾值電壓除了由我的電阻參數(shù)設(shè)定 還要其他因素嗎?我做的實(shí)驗(yàn)中顯示我的設(shè)定值與實(shí)際值在某些情況下相差挺大的,我采用的是LM339這款比較器芯片。比如 我設(shè)定的值為VTL=1.5V、VTH=2.5V時(shí),通過示波器觀察的到的VTL=2.48V、
    發(fā)表于 04-01 16:51

    閾值電壓的計(jì)算

    閾值電壓 (Threshold voltage):通常將傳輸特性曲線中輸出電壓隨輸入電壓改變而急劇變化轉(zhuǎn)折區(qū)的中點(diǎn)對(duì)應(yīng)的輸入電壓稱為閾值電壓
    發(fā)表于 11-27 17:18 ?7.2w次閱讀
    <b class='flag-5'>閾值電壓</b>的計(jì)算

    MOS管閾值電壓與溝長和溝寬的關(guān)系

    關(guān)于 MOSFET 的 W 和 L 對(duì)其閾值電壓 Vth 的影響,實(shí)際在考慮工藝相關(guān)因素后都是比較復(fù)雜,但是也可以有一些簡化的分析,這里主要還是分析當(dāng)晶體管處在窄溝道和短溝道情況下,M
    發(fā)表于 06-18 17:19 ?3.9w次閱讀
    MOS管<b class='flag-5'>閾值電壓</b>與溝長和溝寬的關(guān)系

    GaN基MIS-HEMTs閾值電壓漂移的快速動(dòng)力學(xué)論文免費(fèi)下載

    利用一個(gè)簡單的示波器裝置,研究了由正向柵偏壓引起的gan基金屬絕緣體半導(dǎo)體hemts閾值電壓漂移(vth)的快速動(dòng)力學(xué)。我們發(fā)現(xiàn),vth的對(duì)數(shù)恢復(fù)時(shí)間依賴性,以前發(fā)現(xiàn)的恢復(fù)時(shí)間從10 ms到1 ms
    發(fā)表于 10-09 08:00 ?0次下載
    GaN基MIS-HEMTs<b class='flag-5'>閾值電壓</b>漂移的快速動(dòng)力學(xué)論文免費(fèi)下載

    如何突破EDA封鎖 卷起來的閾值電壓

    Vt roll-off核心是(同一個(gè)工藝節(jié)點(diǎn)下面)閾值電壓與柵長之間的關(guān)系。當(dāng)溝道長度比較長的時(shí)候,Vt值是比較穩(wěn)定的。隨著溝道長度的減小,閾值電壓會(huì)下降(對(duì)于PMOS而言是絕對(duì)值的下
    發(fā)表于 12-30 15:14 ?1984次閱讀

    EDA探索之控制閾值電壓

    精確控制集成電路中MOSFET的閾值電壓對(duì)電路的可靠性至關(guān)重要。通常情況下,閾值電壓是通過向溝道區(qū)的離子注入來調(diào)整的。
    發(fā)表于 02-09 14:26 ?1678次閱讀

    控制閾值電壓

    此外,襯底偏壓也能影響閾值電壓。當(dāng)在襯底和源極之間施加反向偏壓時(shí),耗盡區(qū)被加寬,實(shí)現(xiàn)反轉(zhuǎn)所需的閾值電壓也必須增加,以適應(yīng)更大的Qsc。
    的頭像 發(fā)表于 02-09 14:26 ?2376次閱讀

    不同Vt cell工藝是怎么實(shí)現(xiàn)的?閾值電壓和哪些因素有關(guān)系?

    Vt指的是MOS管的閾值電壓(threshold voltage)。具體定義(以下圖NMOS為例):當(dāng)柵源電壓(Vgs)由0逐漸增大,直到MOS管溝道形成
    的頭像 發(fā)表于 03-10 17:43 ?9606次閱讀

    影響MOSFET閾值電壓的因素

    工作性能和穩(wěn)定性。本文將詳細(xì)介紹影響MOSFET閾值電壓的因素,包括材料、結(jié)構(gòu)、工藝和環(huán)境等方面。 一、材料因素 1.襯底材料 襯底材料對(duì)MOSFET的閾值電壓有顯著的影響。普通的MOSFET襯底材料為硅晶片,但硅晶片在高溫、高
    的頭像 發(fā)表于 09-17 10:39 ?1.3w次閱讀

    什么是MOS管亞閾值電壓?MOSFET中的閾值電壓是如何產(chǎn)生的?

    的情況。在亞閾值區(qū),MOSFET器件的電流呈指數(shù)增長的特性,而非線性關(guān)系。 MOSFET中的閾值電壓是通過器件的制造工藝來調(diào)整和控制的,閾值電壓決定了MOSFET轉(zhuǎn)換開關(guān)的特性。在MOSFET中,門極
    的頭像 發(fā)表于 03-27 15:33 ?4576次閱讀

    MOSFET閾值電壓是什么?影響MOSFET閾值電壓的因素有哪些?

    MOSFET(金屬氧化物半導(dǎo)體場(chǎng)效應(yīng)晶體管)是現(xiàn)代電子學(xué)中極為重要的器件之一,廣泛應(yīng)用于集成電路、電源管理、信號(hào)處理等多個(gè)領(lǐng)域。其核心特性之一便是其閾值電壓(Threshold Voltage
    的頭像 發(fā)表于 07-23 17:59 ?1.3w次閱讀
    MOSFET<b class='flag-5'>閾值電壓</b>是什么?影響MOSFET<b class='flag-5'>閾值電壓</b>的因素有哪些?

    MOS管的閾值電壓是什么

    MOS管的閾值電壓(Threshold Voltage)是一個(gè)至關(guān)重要的參數(shù),它決定了MOS管(金屬氧化物半導(dǎo)體場(chǎng)效應(yīng)晶體管)的導(dǎo)通與截止?fàn)顟B(tài),對(duì)MOS管的工作性能和穩(wěn)定性具有深遠(yuǎn)的影響。以下是對(duì)MOS管閾值電壓的詳細(xì)解析,包括其定義、影響因素、測(cè)量方法以及在實(shí)際應(yīng)用中的
    的頭像 發(fā)表于 10-29 18:01 ?1151次閱讀