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標(biāo)簽 > PVD
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蒸發(fā)鍍膜,是將膜料加熱蒸發(fā)為氣相后沉積到襯底表面,此種成膜方式?jīng)Q定了蒸發(fā)出的粒子能量只能在 0.1-0.3ev,原子動(dòng)能太低,填充密度太低。
OPPO在新機(jī)的漸變色上推陳出新,漸變色怎么做出來(lái)的?
那么漸變色是怎么做出來(lái)的呢?PVD是英文Physical Vapor Deposition(物理氣相沉積)的縮寫,是指在真空條件下,采用低電壓、大電流的...
STM32內(nèi)部自帶PVD功能,用于對(duì)MCU供電電壓VDD進(jìn)行監(jiān)控。通過(guò)電源控制寄存器中的PLS[2:0]位可以用來(lái)設(shè)定監(jiān)控電壓的閥值,通過(guò)對(duì)外部電壓進(jìn)行...
2018-12-26 標(biāo)簽:pvdstm32單片機(jī) 1.3萬(wàn) 0
手機(jī)外殼材料的變化,推動(dòng)納米注塑技術(shù)的發(fā)展
第二部手機(jī)大家都很熟悉,前面在久久精工的演講里也說(shuō)過(guò),應(yīng)該是在此之前屏占比最高的一款手機(jī)——essential PHONE,這款手機(jī)也是用DSM的For...
TSV 是目前半導(dǎo)體制造業(yè)中最為先進(jìn)的技術(shù)之一,已經(jīng)應(yīng)用于很多產(chǎn)品生產(chǎn)。實(shí)現(xiàn)其制程的關(guān)鍵設(shè)備選擇與工藝選擇息息相關(guān), 在某種程度上直接決定了 TSV 的...
濕法刻蝕利用化學(xué)溶液溶解晶圓表面的材料,達(dá)到制作器件和電路的要求。濕法刻蝕化學(xué)反應(yīng)的生成物是氣體、液體或可溶于刻蝕劑的固體。
濺射鍍膜(Vacuum Sputtering)基本原理是充氬(Ar)氣的真空條件下,使氬氣進(jìn)行輝光放電,這時(shí)氬(Ar)原子電離成氬離子(Ar+),氬離子...
純化學(xué)刻蝕、純物理刻蝕及反應(yīng)式離子刻蝕介紹
刻蝕有三種:純化學(xué)刻蝕、純物理刻蝕,以及介于兩者之間的反應(yīng)式離子刻蝕(ReactiveIonEtch,RIE)。
2023-02-20 標(biāo)簽:PVD反應(yīng)離子刻蝕 4069 0
STM32L151緩慢上斷電-電源控制模塊的使用(PVD、BOR、POR/PDR)立即下載
類別:電源技術(shù) 2022-01-06 標(biāo)簽:PVDBORSTM32L151C8T6 748 0
上方電子成功研制的首臺(tái)8.6代新型顯示PVD裝備,順利完成發(fā)貨
首先在超薄玻璃上使用CVD或者PVD制作薄膜,其中金屬層和ITO層由PVD制作, 絕緣層,半導(dǎo)體層等由CVD制作。然后通過(guò)黃光工藝(PHOTO)曝光設(shè)備...
為什么說(shuō)iPhone 12 Pro金色版本相比于其他版本更為特別?
iPhone 12和iPhone 12 Pro將于10月23日正式開(kāi)售,不過(guò)由于這兩款手機(jī)的銷量暢銷,送達(dá)日期一直在推遲。當(dāng)前在官網(wǎng)購(gòu)買這兩款機(jī)器,...
物理氣相沉積及濺射工藝(PVD and Sputtering)
物理氣相沉積(Physical Vapor Deposition, PVD)工藝是指采用物理方法,如真空蒸發(fā)、濺射 (Sputtering)鍍膜、離子體...
隨著工業(yè)的發(fā)展,金屬薄膜已經(jīng)廣泛應(yīng)用于社會(huì)生產(chǎn)生活中,如:糖果包裝、藥品膠囊包裝、佛像貼金、以及宮殿裝飾等等。
總結(jié)微波聲學(xué)器件最新進(jìn)展及技術(shù)的未來(lái)發(fā)展
據(jù)麥姆斯咨詢報(bào)道,微波聲學(xué)器件在信號(hào)處理和傳感領(lǐng)域有著廣泛的應(yīng)用,一直廣受研究機(jī)構(gòu)和商業(yè)機(jī)構(gòu)的關(guān)注。往前追溯,微波聲學(xué)器件在雷達(dá)、廣播和通信等眾多微波系...
應(yīng)用材料公司推出全新Ioniq? PVD系統(tǒng)助力解決二維微縮下布線電阻難題
2022年5月26日,加利福尼亞州圣克拉拉——應(yīng)用材料公司宣布推出一種全新系統(tǒng),可改進(jìn)晶體管布線沉積工藝,從而大幅降低電阻,突破了芯片在性能提升和功率降...
2022-05-27 標(biāo)簽:安全系統(tǒng)PVD應(yīng)用材料公司 2724 0
中芯通過(guò)與國(guó)內(nèi)的半導(dǎo)體設(shè)備廠商合作,來(lái)維持美系半導(dǎo)體設(shè)備的運(yùn)轉(zhuǎn)?
但是,看過(guò)芯智訊此前的一系列關(guān)于“去美化產(chǎn)線”報(bào)道的朋友應(yīng)該都知道,中芯國(guó)際即使想要建設(shè)出一條相對(duì)落后的40nm工藝的不含美系設(shè)備的產(chǎn)線,也并不容易。
積電仍要依賴上游半導(dǎo)體設(shè)備供應(yīng)商的支撐
在芯片代工領(lǐng)域,臺(tái)積電占據(jù)主導(dǎo)地位,全球92%的高端芯片都由臺(tái)積電制造。在下一代工藝節(jié)點(diǎn)研制上,臺(tái)積電也跑在業(yè)界前列,計(jì)劃于2022年下半年實(shí)現(xiàn)3nm芯...
應(yīng)用材料公司全新系統(tǒng)可改進(jìn)晶體管布線沉積工藝
加利福尼亞州圣克拉拉——應(yīng)用材料公司宣布推出一種全新系統(tǒng),可改進(jìn)晶體管布線沉積工藝,從而大幅降低電阻,突破了芯片在性能提升和功率降低兩方面所面臨的重大瓶頸。
2022-06-02 標(biāo)簽:晶體管PVD應(yīng)用材料公司 1547 0
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