上方電子成功研制的首臺(tái)8.6代新型顯示PVD裝備，順利完成發(fā)貨

2019年5月7日，浙江上方電子裝備有限公司成功研制的首臺(tái)8.6代新型顯示PVD裝備，順利完成發(fā)貨。

上方電子首臺(tái)8.6代Array PVD設(shè)備發(fā)貨儀式

根據(jù)CINNO Research供應(yīng)鏈調(diào)查數(shù)據(jù)顯示，截止2018年底Thin Film設(shè)備(包含PVD,CVD等成膜設(shè)備)國(guó)產(chǎn)化滲透率幾乎為0%,其中PVD設(shè)備始終被ULVAC和AKT壟斷，韓國(guó)設(shè)備商IRUJA在韓國(guó)面板廠(chǎng)的扶持下逐漸打破壟斷，隨著上方電子首臺(tái)8.6代新型顯示PVD裝備順利完成發(fā)貨，標(biāo)志著我國(guó)國(guó)產(chǎn)設(shè)備商亦開(kāi)始打破壟斷，實(shí)現(xiàn)突破。

中國(guó)已成為全球顯示裝備的最大市場(chǎng)，加強(qiáng)磁控濺射PVD等關(guān)鍵工藝裝備的國(guó)產(chǎn)化配套，是我國(guó)顯示產(chǎn)業(yè)提升競(jìng)爭(zhēng)力的關(guān)鍵。

上方自主設(shè)計(jì)并開(kāi)發(fā)的8.6代Array PVD裝備，最大玻璃基板尺寸為2250mm×2600mm，采用旋轉(zhuǎn)陰極鍍膜技術(shù)，可實(shí)現(xiàn)薄膜沉積厚度非均勻性<5%，靶材利用率>80%。裝備已獲得國(guó)內(nèi)技術(shù)專(zhuān)利11項(xiàng)，具有生產(chǎn)工藝先進(jìn)、性能穩(wěn)定、操作簡(jiǎn)單、維護(hù)保養(yǎng)成本低等優(yōu)點(diǎn)。該裝備的研發(fā)，得到了國(guó)家發(fā)改委和工信部的裝備國(guó)產(chǎn)化項(xiàng)目立項(xiàng)支持。

上方電子8.6代Array PVD設(shè)備

PVD設(shè)備旋轉(zhuǎn)陰極鍍膜源

上方8.6代PVD裝備的交付，將進(jìn)一步推動(dòng)裝備國(guó)產(chǎn)化的進(jìn)程，有助于全方位提升我國(guó)新型顯示產(chǎn)業(yè)競(jìng)爭(zhēng)力。

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TFT LCD工藝介紹

在了解PVD設(shè)備前，我們首先了解一下液晶顯示器(TFT LCD)的結(jié)構(gòu)。

上圖為T(mén)FT LCD的結(jié)構(gòu)圖，整個(gè)器件由背光，TFT基板，液晶，CF基板，上下偏光片等構(gòu)成。其中，TFT基板上的薄膜晶體管器件(Thin Film Transistor)是控制液晶轉(zhuǎn)向的關(guān)鍵器件，相當(dāng)于每一個(gè)顯示像素的開(kāi)關(guān)的作用。

上圖即為一個(gè)經(jīng)典的五光罩TFT器件的結(jié)構(gòu)圖，它是一個(gè)由多層金屬薄膜，無(wú)機(jī)膜和半導(dǎo)體薄膜構(gòu)成的復(fù)雜結(jié)構(gòu)。這個(gè)結(jié)構(gòu)就是通過(guò)以下Array工藝制作出來(lái)的。

首先在超薄玻璃上使用CVD或者PVD制作薄膜，其中金屬層和ITO層由PVD制作, 絕緣層，半導(dǎo)體層等由CVD制作。然后通過(guò)黃光工藝(PHOTO)曝光設(shè)備制作我們需要的圖形，最后通過(guò)蝕刻(Etching)工藝將多余的部分去除，留下我們需要的圖形薄膜。這樣多次循環(huán)后就制作完成了我們需要的TFT器件。

因此，對(duì)于整個(gè)顯示半導(dǎo)體TFT工藝來(lái)說(shuō)，核心設(shè)備即成膜設(shè)備(PVD,CVD),曝光設(shè)備和蝕刻設(shè)備。而這些核心設(shè)備技術(shù)一直掌握在國(guó)外廠(chǎng)商手中，正是這點(diǎn)始終制約了我國(guó)由顯示面板大國(guó)向顯示面板強(qiáng)國(guó)的轉(zhuǎn)變。

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PVD設(shè)備介紹

PVD即物理氣相沉積設(shè)備，是顯示半導(dǎo)體生產(chǎn)工藝中非常核心的成膜工藝設(shè)備。

下圖為PVD設(shè)備的工作原理圖。主要原理為通過(guò)高能粒子轟擊靶材使靶材發(fā)生濺射，濺射粒子在玻璃基板上沉積形成薄膜。

PVD的核心參數(shù)涉及到氣流控制，真空倉(cāng)壓力控制，電源控制，玻璃溫度控制和磁場(chǎng)控制等。這些參數(shù)直接影響到成膜膜厚，成膜均勻度，金屬膜電阻率等關(guān)鍵性能，進(jìn)而影響到TFT器件性能。因此，PVD設(shè)備是Array工藝中非常核心的關(guān)鍵設(shè)備，技術(shù)門(mén)檻非常高。

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關(guān)于上方電子裝備

浙江上方電子裝備有限公司是一家專(zhuān)注于高端電子裝備研發(fā)及產(chǎn)業(yè)化的高新技術(shù)企業(yè)，主要產(chǎn)品磁控濺射鍍膜設(shè)備、卷對(duì)卷柔性鍍膜設(shè)備及其相關(guān)服務(wù)，可廣泛應(yīng)用于新型顯示、薄膜太陽(yáng)能及電致變色玻璃領(lǐng)域。公司成立于2011年12月，注冊(cè)資金3.25億元，位于浙江紹興。

憑借性能穩(wěn)定、技術(shù)領(lǐng)先、高性?xún)r(jià)比等優(yōu)勢(shì)，公司設(shè)備產(chǎn)品受到客戶(hù)青睞，經(jīng)營(yíng)業(yè)績(jī)持續(xù)快速增長(zhǎng)。公司以客戶(hù)為中心，將持續(xù)為廣大客戶(hù)提供最優(yōu)質(zhì)的產(chǎn)品和服務(wù)。