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標(biāo)簽 > PVD
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與傳統(tǒng)濺射或熱蒸發(fā)技術(shù)相比,離子束輔助沉積有哪些優(yōu)勢?
離子束輔助沉積 (IBAD) 是一種薄膜沉積技術(shù),可與濺射或熱蒸發(fā)工藝一起使用,以獲得具有出色工藝控制和精度的最高質(zhì)量薄膜。
STM32L151緩慢上斷電-電源控制模塊的使用(PVD、BOR、POR/PDR)立即下載
類別:電源技術(shù) 2022-01-06 標(biāo)簽:PVDBORSTM32L151C8T6 748 0
Bumping工藝升級,PVD濺射技術(shù)成關(guān)鍵推手
在半導(dǎo)體封裝的bumping工藝中,PVD(Physical Vapor Deposition,物理氣相沉積)濺射技術(shù)扮演了一個非常關(guān)鍵的角色。Bump...
2024-11-14 標(biāo)簽:芯片PVD半導(dǎo)體封裝 576 0
阿石創(chuàng)2023年業(yè)績報告:收入增長利潤下滑,長期投資潛力待考
在平板顯示領(lǐng)域,阿石創(chuàng)的收入為3.08億元,同比增長44.45%,毛利率為22.59%,比去年略微下降1.2%。面對嚴(yán)峻的經(jīng)濟(jì)環(huán)境,公司通過改進(jìn)生產(chǎn)工藝...
正帆科技預(yù)計2023年凈利潤增長55%-65%,新簽合同同比增長60%
根據(jù)公告,正帆科技2023年新續(xù)約合同高達(dá)人民幣66億元,同比大增60%,特別是半導(dǎo)體與光伏領(lǐng)域,同比分別上漲了84%和58%。截至年底,手頭合約合同總...
2024-01-23 標(biāo)簽:光伏PVD半導(dǎo)體制造 606 0
集成電路制造裝備用精密陶瓷結(jié)構(gòu)件的特點及產(chǎn)業(yè)格局
集成電路產(chǎn)業(yè)(即IC產(chǎn)業(yè))是關(guān)乎國家經(jīng)濟(jì)、政治和國防安全的戰(zhàn)略產(chǎn)業(yè),在IC產(chǎn)業(yè)中,集成電路制造裝備具有極其重要的戰(zhàn)略地位。
韞茂科技獲數(shù)億元融資,加快薄膜沉積設(shè)備量產(chǎn)
韞茂科技成立于2018年,致力于成為平臺形態(tài)的納米級薄膜沉積設(shè)備制造企業(yè)。目前擁有ald原子層沉積系統(tǒng)、pvd物理氣體沉積系統(tǒng)、cvd化學(xué)氣體沉積系統(tǒng)、...
2025年P(guān)VD鍍膜國內(nèi)市場規(guī)模將保持GAGR 13%的增速
這其中,鍍膜方法一般可以分為氣相生成法、氧化法、離子注入法、擴(kuò)散法、電鍍法、涂布法、液相生長法等,氣相生成法又可以分為物理氣相沉積法、化學(xué)氣相沉積法和原...
物理氣相沉積及濺射工藝(PVD and Sputtering)
物理氣相沉積(Physical Vapor Deposition, PVD)工藝是指采用物理方法,如真空蒸發(fā)、濺射 (Sputtering)鍍膜、離子體...
隨著工業(yè)的發(fā)展,金屬薄膜已經(jīng)廣泛應(yīng)用于社會生產(chǎn)生活中,如:糖果包裝、藥品膠囊包裝、佛像貼金、以及宮殿裝飾等等。
應(yīng)用材料公司全新系統(tǒng)可改進(jìn)晶體管布線沉積工藝
加利福尼亞州圣克拉拉——應(yīng)用材料公司宣布推出一種全新系統(tǒng),可改進(jìn)晶體管布線沉積工藝,從而大幅降低電阻,突破了芯片在性能提升和功率降低兩方面所面臨的重大瓶頸。
2022-06-02 標(biāo)簽:晶體管PVD應(yīng)用材料公司 1545 0
應(yīng)用材料公司推出全新Ioniq? PVD系統(tǒng)助力解決二維微縮下布線電阻難題
2022年5月26日,加利福尼亞州圣克拉拉——應(yīng)用材料公司宣布推出一種全新系統(tǒng),可改進(jìn)晶體管布線沉積工藝,從而大幅降低電阻,突破了芯片在性能提升和功率降...
2022-05-27 標(biāo)簽:安全系統(tǒng)PVD應(yīng)用材料公司 2723 0
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