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GAA

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半導(dǎo)體工藝制程在進(jìn)入32nm以下的節(jié)點(diǎn)后,每一步都?xì)v盡艱辛,傳統(tǒng)的工藝技術(shù)已經(jīng)無(wú)法滿足7nm以下的制程了。好在FinFET之后,又帶來(lái)了全新的GAA工藝;而5nm之后的時(shí)代,全新GAA技術(shù)有望延續(xù)現(xiàn)有半導(dǎo)體技術(shù)路線的壽命。

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GAA簡(jiǎn)介

  半導(dǎo)體工藝制程在進(jìn)入32nm以下的節(jié)點(diǎn)后,每一步都?xì)v盡艱辛,傳統(tǒng)的工藝技術(shù)已經(jīng)無(wú)法滿足7nm以下的制程了。好在FinFET之后,又帶來(lái)了全新的GAA工藝;而5nm之后的時(shí)代,全新GAA技術(shù)有望延續(xù)現(xiàn)有半導(dǎo)體技術(shù)路線的壽命。

  目前臺(tái)積電、三星、Intel、格芯量產(chǎn)的先進(jìn)工藝普遍是基于FinFET鰭式晶體管的;但是在5nm之后,F(xiàn)inFET幾乎已經(jīng)達(dá)到了物理極限,其不斷拉高的深度和寬度之比(為了避免短溝道效應(yīng),鰭片的寬度應(yīng)該小于柵極長(zhǎng)度的0.7倍),將使得鰭片難以在本身材料內(nèi)部應(yīng)力的作用下維持直立形態(tài)。

  業(yè)內(nèi)各大廠商和著名的研究機(jī)構(gòu)都提出了自己的看法。其中一種比較主流的方式被稱作Gate-All-Around環(huán)繞式柵極技術(shù),簡(jiǎn)稱為GAA橫向晶體管技術(shù),也可以被稱為GAAFET。在應(yīng)用了GAA技術(shù)后,業(yè)內(nèi)估計(jì)基本上可以解決3nm乃至以下尺寸的半導(dǎo)體制造問(wèn)題。

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數(shù)字后端先進(jìn)工藝知識(shí)科普

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2023-06-14 標(biāo)簽:半導(dǎo)體等離子FET 2259 0

芯片工程師,是時(shí)候了解GAA晶體管了

雖然只有12年的歷史,但finFET已經(jīng)走到了盡頭。從3nm開(kāi)始,它們將被環(huán)柵 (GAA)取代,預(yù)計(jì)這將對(duì)芯片的設(shè)計(jì)方式產(chǎn)生重大影響。

2023-04-18 標(biāo)簽:芯片晶體管納米 1808 0

泛林集團(tuán)的選擇性刻蝕方法:Argos、Prevos和Selis

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2023-01-31 標(biāo)簽:集成電路存儲(chǔ)器泛林集團(tuán) 653 0

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三星芯片代工新掌門:先進(jìn)與成熟制程并重

據(jù)韓媒報(bào)道,三星電子設(shè)備解決方案部新任foundry業(yè)務(wù)總裁兼總經(jīng)理韓真晚(Han Jinman),在近期致員工的內(nèi)部信中明確提出了三星代工部門的發(fā)展策...

2024-12-10 標(biāo)簽:芯片制程GAA 201 0

2nm突圍,背面供電技術(shù)的首個(gè)戰(zhàn)場(chǎng)

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與Arm擴(kuò)大合作是否會(huì)對(duì)三星電子的代工業(yè)務(wù)帶來(lái)提振,備受關(guān)注。

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三星 1.4 納米工藝細(xì)節(jié)浮出水面

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2023-11-24 標(biāo)簽:cpugpu晶體管 693 0

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