意法半導(dǎo)體(ST)近日宣布,公司成功研發(fā)出基于18納米全耗盡絕緣體上硅(FD-SOI)技術(shù),并整合了嵌入式相變存儲器(ePCM)的先進(jìn)制造工藝。這項新工藝技術(shù)是意法半導(dǎo)體與三星晶圓代工廠共同研發(fā)的成果,旨在推動下一代嵌入式處理器的升級進(jìn)化。
據(jù)悉,該新工藝技術(shù)不僅實現(xiàn)了嵌入式處理應(yīng)用性能和功耗的巨大飛躍,而且能夠集成更大容量的存儲器和更多的模擬及數(shù)字外設(shè),為嵌入式系統(tǒng)的設(shè)計和應(yīng)用帶來了更廣闊的可能性。
基于這項新技術(shù)的下一代STM32微控制器的首款產(chǎn)品將于2024年下半年開始向部分客戶提供樣片,預(yù)計于2025年下半年正式投入生產(chǎn)。這一舉措無疑將加速嵌入式處理器市場的發(fā)展,為相關(guān)行業(yè)帶來更多創(chuàng)新和機(jī)遇。
此次意法半導(dǎo)體的新工藝技術(shù)的發(fā)布,再次證明了公司在半導(dǎo)體領(lǐng)域的強大研發(fā)實力和技術(shù)創(chuàng)新能力。未來,我們期待意法半導(dǎo)體能夠繼續(xù)推出更多具有創(chuàng)新性和實用性的產(chǎn)品,為半導(dǎo)體行業(yè)的發(fā)展注入更多動力。
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