碳化硅MOS優(yōu)點(diǎn):高頻高效,高耐壓,高可靠性??梢詫?shí)現(xiàn)節(jié)能降耗,小體積,低重量,高功率密度。
相對(duì)應(yīng)于傳統(tǒng)MOSFET以及IGBT有以下優(yōu)點(diǎn):
01╱ 高工作頻率 ╱
傳統(tǒng)MOSFET工作頻率在60KHZ左右,而碳化硅MOSFET在1MHZ
用途:高頻工作,可以減小電源系統(tǒng)中電容以及電感或變壓器的體積,降低電源成本,讓電源實(shí)現(xiàn)小型化,美觀化。從而實(shí)現(xiàn)電源的升級(jí)換代。
02╱ 低導(dǎo)通阻抗 ╱
碳化硅MOSFET單管最小內(nèi)阻可以達(dá)到15毫歐,這對(duì)于傳統(tǒng)的MOSFET看來(lái)是不可想象的。
用途:輕松達(dá)到能效要求,減少散熱片使用,降低電源體積和重量,電源溫度更低,可靠性更高。
03╱ 耐壓高 ╱
碳化硅MOSFET目前量產(chǎn)的耐壓可達(dá)3300V,一般MOSFET耐壓900V,IGBT常見耐壓1200V。
04╱ 耐高溫 ╱
碳化硅MOSFET芯片結(jié)溫可達(dá)300度,可靠性,穩(wěn)定性大大高于傳統(tǒng)MOSFET
綜上所述:使用碳化硅MOSFET可以讓電源實(shí)現(xiàn)高效率,小體積,在一些高溫,高壓環(huán)境,必用不可。
關(guān)于使用碳化硅MOSFET的問(wèn)題:
01╱ 價(jià)格 ╱
目前價(jià)格稍高,在PD領(lǐng)域可以實(shí)現(xiàn)和氮化鎵HEMT價(jià)格持平,但是隨著客戶用量的增加以及技術(shù)工藝的提高,價(jià)格已經(jīng)越來(lái)越低。其中2020年一年內(nèi)的價(jià)格降低40%,相信2021以后會(huì)有更優(yōu)惠的價(jià)格給到大家。
02╱ 應(yīng)用方面 ╱
芯片腳位和傳統(tǒng)MOSFET完全一樣,驅(qū)動(dòng)電壓略有不同,開啟電壓最好18-20V,關(guān)斷電壓:-3V,小功率不需要負(fù)壓關(guān)斷。
一、 碳化硅mos對(duì)比硅mos的11大優(yōu)勢(shì)
01SiC器件的結(jié)構(gòu)和特征
Si材料中,越是高耐壓器件其單位面積的導(dǎo)通電阻就越大(通常以耐壓值的大概2-2.5次方的比例增加),因此600V以上的電壓中主要采用IGBT(絕緣柵極雙極型晶體管)。IGBT通過(guò)電導(dǎo)率調(diào)制,向漂移層內(nèi)注入作為少數(shù)載流子的空穴,因此導(dǎo)通電阻比MOSFET還要小,但是同時(shí)由于少數(shù)載流子的積聚,在關(guān)斷時(shí)會(huì)產(chǎn)生尾電流,從而造成極大的開關(guān)損耗。
SiC器件漂移層的阻抗比Si器件低,不需要進(jìn)行電導(dǎo)率調(diào)制就能夠以高頻器件結(jié)構(gòu)的MOSFET實(shí)現(xiàn)高耐壓和低阻抗。而且MOSFET原理上不產(chǎn)生尾電流,所以用SiC MOSFET替代IGBT時(shí),能夠明顯地減少開關(guān)損耗,并且實(shí)現(xiàn)散熱部件的小型化。另外,SiC MOSFET能夠在IGBT不能工作的高頻條件下驅(qū)動(dòng),從而也可以實(shí)現(xiàn)被動(dòng)器件的小型化。與600V~1200V的Si MOSFET相比,SiC MOSFET的優(yōu)勢(shì)在于芯片面積小(可以實(shí)現(xiàn)小型封裝),而且體二極管的恢復(fù)損耗非常小。
2SiC Mosfet的導(dǎo)通電阻
SiC 的絕緣擊穿場(chǎng)強(qiáng)是Si 的10倍,所以能夠以低阻抗、薄厚度的漂移層實(shí)現(xiàn)高耐壓。因此,在相同的耐壓值的情況下,SiC 可以得到標(biāo)準(zhǔn)化導(dǎo)通電阻(單位面積導(dǎo)通電阻)更低的器件。例如900V時(shí),SiC‐MOSFET 的芯片尺寸只需要Si‐MOSFET 的35分之1、SJ‐MOSFET 的10分之1,就可以實(shí)現(xiàn)相同的導(dǎo)通電阻。不僅能夠以小封裝實(shí)現(xiàn)低導(dǎo)通電阻,而且能夠使門極電荷量Qg、結(jié)電容也變小。目前SiC 器件能夠以很低的導(dǎo)通電阻輕松實(shí)現(xiàn)1700V以上的耐壓。因此,沒(méi)有必要再采用IGBT這種雙極型器件結(jié)構(gòu)(導(dǎo)通電阻變低,則開關(guān)速度變慢) ,就可以實(shí)現(xiàn)低導(dǎo)通電阻、高耐壓、快速開關(guān)等各優(yōu)點(diǎn)兼?zhèn)涞钠骷?/p>
33Vd-Id特性
SiC‐MOSFET 與IGBT 不同,不存在開啟電壓,所以從小電流到大電流的寬電流范圍內(nèi)都能夠?qū)崿F(xiàn)低導(dǎo)通損耗。而Si MOSFET 在150℃時(shí)導(dǎo)通電阻上升為室溫條件下的2 倍以上,與Si MOSFET 不同,SiC MOSFET的上升率比較低,因此易于熱設(shè)計(jì),且高溫下的導(dǎo)通電阻也很低。
4驅(qū)動(dòng)門極電壓和導(dǎo)通電阻
SiC‐MOSFET 的漂移層阻抗比Si MOSFET 低,但是另一方面,按照現(xiàn)在的技術(shù)水平,SiC MOSFET的MOS 溝道部分的遷移率比較低,所以溝道部的阻抗比Si 器件要高。因此,越高的門極電壓,可以得到越低的導(dǎo)通電阻(Vgs=20V 以上則逐漸飽和)。如果使用一般IGBT 和Si MOSFET 使用的驅(qū)動(dòng)電壓Vgs=10~15V 的話,不能發(fā)揮出SiC 本來(lái)的低導(dǎo)通電阻的性能,所以為了得到充分的低導(dǎo)通電阻,推薦使用Vgs=18V左右進(jìn)行驅(qū)動(dòng)。Vgs=13V 以下的話,有可能發(fā)生熱失控,請(qǐng)注意不要使用
5Vg-Id特性
SiC MOSFET 的閾值電壓在數(shù)mA 的情況下定義的話,與Si‐MOSFET 相當(dāng),室溫下大約3V(常閉)。但是,如果流通幾個(gè)安培電流的話,需要的門極電壓在室溫下約為8V 以上,所以可以認(rèn)為針對(duì)誤觸發(fā)的耐性與IGBT 相當(dāng)。溫度越高,閾值電壓越低。
6Turn-On特性
SiC‐MOSFET 的Turn‐on 速度與Si IGBT 和Si MOSFET 相當(dāng),大約幾十ns。但是在感性負(fù)載開關(guān)的情況下,由通往上臂二極管的回流產(chǎn)生的恢復(fù)電流也流過(guò)下臂,由于各二極管性能的偏差,從而產(chǎn)生很大的損耗。Si FRD 和Si MOSFET 中的體二極管的通?;謴?fù)電流非常大,會(huì)產(chǎn)生很大的損耗,而且在高溫下該損耗有進(jìn)一步增大的趨勢(shì)。與此相反,SiC二極管不受溫度影響,可以快速恢復(fù),SiC MOSFET 的體二極管雖然Vf 較高但是與碳化硅二極管相同,具有相當(dāng)?shù)目焖倩謴?fù)性能。通過(guò)這些快速恢復(fù)性能,可以減少Turn‐on 損耗(Eon)好幾成。開關(guān)速度極大程度上決定于外部的門極電阻Rg。為了實(shí)現(xiàn)快速動(dòng)作,推薦使用幾Ω左右的低阻值門極電阻。另外還需要考慮到浪涌電壓,選擇合適的門極電阻。
7Turn-Off特性
SiC MOSFET 的最大特點(diǎn)是原理上不會(huì)產(chǎn)生如IGBT中經(jīng)常見到的尾電流。SiC 即使在1200V 以上的耐壓值時(shí)也可以采用快速的MOSFET 結(jié)構(gòu),所以,與IGBT 相比,Turn‐off 損耗(Eoff)可以減少約90%,有利于電路的節(jié)能和散熱設(shè)備的簡(jiǎn)化、小型化。而且,IGBT 的尾電流會(huì)隨著溫度的升高而增大,而SiC‐MOSFET 幾乎不受溫度的影響。另外,由于較大的開關(guān)損耗引起的發(fā)熱會(huì)致使結(jié)點(diǎn)溫度(Tj)超過(guò)額定值,所以IGBT 通常不能在20KHz 以上的高頻區(qū)域內(nèi)使用,但SiC MOSFET 由于Eoff 很小,所以可以進(jìn)行50KHz 以上的高頻開關(guān)動(dòng)作。通過(guò)高頻化,可以使濾波器等被動(dòng)器件小型化。
8內(nèi)部門極電阻
芯片內(nèi)部門極電阻與門極電極材料的薄層阻抗和芯片尺寸相關(guān)。如果是相同的設(shè)計(jì),芯片內(nèi)部門極電阻與芯片尺寸呈反比例,芯片尺寸越小,門極電阻越大。SiC MOSFET 的芯片尺寸比Si 器件小,雖然結(jié)電容更小,但是同時(shí)門極電阻也就更大。
SiC MOSFET 是一種易于驅(qū)動(dòng)、驅(qū)動(dòng)功率較少的常閉型、電壓驅(qū)動(dòng)型的開關(guān)器件。基本的驅(qū)動(dòng)方法和IGBT 以及Si MOSFET一樣。推薦的驅(qū)動(dòng)門極電壓,ON 側(cè)時(shí)為+18V 左右,OFF 側(cè)時(shí)為0V。在要求高抗干擾性和快速開關(guān)的情況下,也可以施加‐3~‐5V 左右的負(fù)電壓。當(dāng)驅(qū)動(dòng)大電流器件和功率模塊時(shí),推薦采用緩沖電路。
10體二極管的 Vf 和逆向?qū)?/strong>
與Si MOSFET 一樣,SiC MOSFET體內(nèi)也存在因PN結(jié)而形成的體二極管(寄生二極管)。但是由于SiC的帶隙是Si的3倍,所以SiC MOSFET的PN二極管的開啟電壓大概是3V左右,比較大,而且正向壓降(Vf)也比較高。以往,當(dāng)Si MOSFET外置回流用的快速二極管時(shí),由于體二極管和外置二極管的Vf大小相等,為了防止朝向恢復(fù)慢的體二極管側(cè)回流,必須在MOSFET上串聯(lián)低電壓阻斷二極管,這樣的話,既增加了器件數(shù)量,也使導(dǎo)通損耗進(jìn)一步惡化。然而,SiC MOSFET的體二極管的Vf 比回流用的快速二極管的Vf還要高出很多,所以當(dāng)逆向并聯(lián)外置二極管時(shí),不需要串聯(lián)低壓阻斷二極管。
體二極管的Vf比較高,這一問(wèn)題可以通過(guò)如同整流一樣向門極輸入導(dǎo)通信號(hào)使其逆向?qū)▉?lái)降低。逆變驅(qū)動(dòng)時(shí),回流側(cè)的臂上多數(shù)是在死區(qū)時(shí)間結(jié)束之后輸入門極導(dǎo)通信號(hào)(請(qǐng)確認(rèn)使用中的CPU的動(dòng)作),體二極管的通電只在死區(qū)時(shí)間期間發(fā)生,之后基本上是經(jīng)由溝道逆向流過(guò)。因此,即使在只由MOSFET(無(wú)逆向并聯(lián)的SBD)構(gòu)成的橋式電路中,體二極管的Vf較高也沒(méi)有問(wèn)題。
11體二極管的恢復(fù)特性
SiC MOSFET的體二極管雖然是PN 二極管,但是少數(shù)載流子壽命較短,所以基本上沒(méi)有出現(xiàn)少數(shù)載流子的積聚效果,與SBD 一樣具有超快速恢復(fù)性能(幾十ns)。因此Si MOSFET的體二極管與IGBT外置的FRD相比,其恢復(fù)損耗可以減少到IGBT外置的FRD的幾分之一到幾十分之一。體二極管的恢復(fù)時(shí)間與SBD相同,是恒定的,不受正向輸入電流If的影響(dI/dt 恒定的情況下)。在逆變器應(yīng)用中,即使只由MOSFET 構(gòu)成橋式電路,也能夠?qū)崿F(xiàn)非常小的恢復(fù)損耗,同時(shí)還預(yù)期可以減少因恢復(fù)電流而產(chǎn)生的噪音,達(dá)到降噪。
從以上這些方面就能看出SiC MOSFET相對(duì)于Si IGBT和MOSFET的優(yōu)勢(shì)所在。
二、碳化硅mos的技術(shù)難點(diǎn)
綜合各種報(bào)道,難題不在芯片的原理設(shè)計(jì),特別是芯片結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)解決好并不難。難在實(shí)現(xiàn)芯片結(jié)構(gòu)的制作工藝。當(dāng)然對(duì)于用戶最直接的原因是,SiC MOSFET 的價(jià)格相對(duì)較高。
審核編輯:湯梓紅
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原文標(biāo)題:碳化硅SIC MOSFET替代傳統(tǒng)MOSFET及IGBT的優(yōu)點(diǎn)
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