目前全球在***制造領(lǐng)域比較領(lǐng)先的只有三家公司,分別為荷蘭的ASML和日本的佳能和尼康。截止2011年,ASML已經(jīng)占到了全球***市場的70以上的市場份額。在7nm和5nm制程領(lǐng)域,ASML是全球唯一一家可以生產(chǎn)相應(yīng)***的公司。換句話說,在最先進(jìn)的***生產(chǎn)領(lǐng)域,ASML達(dá)到了絕對壟斷的地步。
臺(tái)積電和三星均已投入5nm工藝的量產(chǎn),前者代工的產(chǎn)品包括蘋果A14、M1、華為麒麟9000等,后者則包括Exynos 1080、驍龍888等。其實(shí)從7nm開始,臺(tái)積電和三星就開始引入EUV光刻,但過程層數(shù)較少。按照ASML(阿斯麥)的說法,迭代到5nm后,EUV的層數(shù)達(dá)到了10~14層,包括但不限于觸點(diǎn)、過孔以及關(guān)鍵金屬層等過程。未來的3nm、2nm,對EUV的依賴將更甚。
根據(jù)最新數(shù)據(jù)顯示,ASML在12月中完成了第100臺(tái)EUV***的出貨。更加利好的消息是,業(yè)內(nèi)預(yù)估ASML今年(2021年)的EUV***產(chǎn)能將達(dá)到45~50臺(tái)的規(guī)模。
畢竟,2019年ASML僅出貨了26臺(tái),去年三季度后全年累計(jì)出貨23臺(tái)(全年預(yù)估35臺(tái)),可謂少得可憐。
另外,ASML定于明年中旬交付最新一代EUV***TWINSCAN NXE:3600D,生產(chǎn)效率提升18%、機(jī)器匹配套準(zhǔn)精度改進(jìn)為1.1nm,單臺(tái)價(jià)格或高于老款的1.2億歐元(約合9.5億元人民幣)。
不少人更加關(guān)心,目前我國的***水平在什么檔次?
據(jù)悉,上海微電子國內(nèi)技術(shù)最先進(jìn)的一家***生產(chǎn)企業(yè),而2021年才能交付一臺(tái)28nm的***。
目前全球較為領(lǐng)先的芯片就是采用的5nm制程,臺(tái)積電現(xiàn)在已經(jīng)在籌劃3nm技術(shù)的研發(fā)。從28nm發(fā)展到5nm制程中間隔了14nm和7nm,如果說國內(nèi)***兩年可以進(jìn)行一次技術(shù)更新,那也就意味著我們還要經(jīng)過7年時(shí)間才能達(dá)到ASML現(xiàn)在的水平。當(dāng)然,如果我國在研發(fā)人員和研發(fā)資金都投入到位的話,說不定我們可以通過10年左右的時(shí)間努力追平世界最先進(jìn)水平,甚至是超越。
本文由電子發(fā)燒友綜合報(bào)道,內(nèi)容參考自ASML、CnBeta,轉(zhuǎn)載請注明以上來源。
聲明:本文內(nèi)容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網(wǎng)站授權(quán)轉(zhuǎn)載。文章觀點(diǎn)僅代表作者本人,不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場。文章及其配圖僅供工程師學(xué)習(xí)之用,如有內(nèi)容侵權(quán)或者其他違規(guī)問題,請聯(lián)系本站處理。
舉報(bào)投訴
相關(guān)推薦
電子發(fā)燒友網(wǎng)報(bào)道(文/黃山明)作為芯片制造過程中的核心設(shè)備,光刻機(jī)決定著芯片工藝的制程。尤其是EUV光刻機(jī)已經(jīng)成為高端芯片(7nm及以下)芯片量產(chǎn)的關(guān)鍵,但目前EUV
發(fā)表于 10-17 00:13
?2773次閱讀
本月底完成。 Rapidus 計(jì)劃 2025 年春季使用最先進(jìn)的 2 納米工藝開發(fā)原型芯片,于 2027 年開始大規(guī)模生產(chǎn)芯片。 EUV 機(jī)器結(jié)合了特殊光源、鏡頭和其他技術(shù),可形成超精
發(fā)表于 12-20 13:48
?186次閱讀
ASML再度宣布新光刻機(jī)計(jì)劃。據(jù)報(bào)道,ASML預(yù)計(jì)2030年推出的Hyper-NA極紫外光機(jī)(EUV
發(fā)表于 06-18 09:57
?508次閱讀
來源:國芯網(wǎng),謝謝 編輯:感知芯視界 Link 5月22日消息,據(jù)外媒報(bào)道,臺(tái)積電從ASML購買的EUV極紫外光刻機(jī),暗藏后門,可以在必要的時(shí)候執(zhí)行遠(yuǎn)程鎖定! 據(jù)《聯(lián)合早報(bào)》報(bào)道,荷蘭
發(fā)表于 05-24 09:35
?570次閱讀
disable)臺(tái)積電相應(yīng)機(jī)器,而且還可以包括最先進(jìn)的極紫外光刻機(jī)(EUV)。 這就意味著阿斯麥(ASML)留了后門,隨時(shí)有能力去遠(yuǎn)程癱瘓制造芯片的
發(fā)表于 05-22 11:29
?5768次閱讀
據(jù)臺(tái)灣業(yè)內(nèi)人士透露,臺(tái)積電并未為A16制程配備高數(shù)值孔徑(High-NA)EUV光刻機(jī),而選擇利用現(xiàn)有的EUV光刻機(jī)進(jìn)行生產(chǎn)。相較之下,英特
發(fā)表于 05-17 17:21
?991次閱讀
據(jù)今年2月份報(bào)道,荷蘭半導(dǎo)體制造設(shè)備巨頭ASML公布了High-NA Twinscan EXE光刻機(jī)的售價(jià),高達(dá)3.5億歐元(約合27.16億元人民幣)。而現(xiàn)有EUV光刻機(jī)的價(jià)格則為1
發(fā)表于 05-15 14:42
?638次閱讀
ASML公司近日宣布發(fā)貨了第二臺(tái)High NA EUV光刻機(jī),并且已成功印刷出10納米線寬圖案,這一重大突破標(biāo)志著半導(dǎo)體制造領(lǐng)域的技術(shù)革新向前邁進(jìn)了一大步。
發(fā)表于 04-29 10:44
?827次閱讀
英特爾的研發(fā)團(tuán)隊(duì)正致力于對這臺(tái)先進(jìn)的ASML TWINSCAN EXE:5000 High NA EUV光刻機(jī)進(jìn)行細(xì)致的校準(zhǔn)工作,以確保其能夠順利融入未來的生產(chǎn)線。
發(fā)表于 04-22 15:52
?928次閱讀
)光刻機(jī),并已經(jīng)成功印刷出首批圖案。這一重要成就,不僅標(biāo)志著ASML公司技術(shù)創(chuàng)新的新高度,也為全球半導(dǎo)體制造行業(yè)的發(fā)展帶來了新的契機(jī)。目前,全球僅有兩臺(tái)高數(shù)值孔徑EUV
發(fā)表于 04-18 11:50
?934次閱讀
3 月 13 日消息,光刻機(jī)制造商 ASML 宣布其首臺(tái)新款 EUV 光刻機(jī) Twinscan NXE:3800E 已完成安裝,新機(jī)型將帶來
發(fā)表于 03-14 08:42
?553次閱讀
據(jù)荷蘭《電訊報(bào)》3月6日報(bào)道,因荷蘭政府的反移民政策傾向,光刻機(jī)巨頭阿斯麥(ASML)正計(jì)劃搬離荷蘭。
發(fā)表于 03-08 14:02
?1185次閱讀
根據(jù)資料顯示,在2012年,為了支持ASML EUV光刻機(jī)的研發(fā)與商用,并獲得EUV光刻機(jī)的優(yōu)先
發(fā)表于 02-23 17:27
?1030次閱讀
Takeishi向英國《金融時(shí)報(bào)》表示,公司計(jì)劃于2024年開始出貨其納米壓印光刻機(jī)FPA-1200NZ2C,并補(bǔ)充說芯片可以輕松以低成本制造。2023年11月,該公司表示該設(shè)備的價(jià)
發(fā)表于 02-01 15:42
?972次閱讀
來源:AIot工業(yè)檢測,謝謝 編輯:感知芯視界 Link 隨著芯片需求的不斷增長,芯片制造商正加大采購晶圓廠設(shè)備的力度,以提高產(chǎn)能。作為EUV光刻機(jī)制造商,ASML受益于這一趨勢,其2
發(fā)表于 01-26 09:20
?828次閱讀
評論