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電子發(fā)燒友網(wǎng)>制造/封裝>制造新聞>EV集團推出針對大容量封裝應用的自動掩模對準系統(tǒng)

EV集團推出針對大容量封裝應用的自動掩模對準系統(tǒng)

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卡爾曼濾波在慣導初始對準中的應用

針對捷聯(lián)慣導系統(tǒng)中初始對準的問題,本文采用了設計卡爾曼濾波器的方法,通過建立慣導系統(tǒng)的誤差模型,分析卡爾曼濾波的基本理論,以東向和北向速度誤差進行分析。通過初始對準計算機仿真結(jié)果,進一步驗證了該方法
2017-12-07 16:26:583

一文解析刻蝕機和光刻機的原理及區(qū)別

光刻機(Mask Aligner) 又名:掩模對準曝光機,曝光系統(tǒng),光刻系統(tǒng)等。一般的光刻工藝要經(jīng)歷硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻膠、軟烘、對準曝光、后烘、顯影、硬烘、刻蝕等工序。
2018-04-10 09:49:17131483

EV集團將在SEMICON CHINA展出用于3D-IC封裝的突破性晶圓鍵合技術

EV集團將在SEMICON CHINA展出用于3D-IC封裝的突破性晶圓鍵合技術 較之上一代對準系統(tǒng),GEMINI FB XT 熔融鍵合機上的全新 SmartView NT3 對準系統(tǒng)可提升2-3
2019-03-05 14:21:361900

EV集團推出用于擴展“深度摩爾”和前端處理的新一代熔融晶圓鍵合技術

的晶圓鍵合與光刻設備的領先供應商EV集團(EVG) 今日推出了全新的BONDSCALE自動化生產(chǎn)熔融系統(tǒng)。BONDSCALE旨在滿足各種熔融/分子晶圓鍵合應用,包括工程基板制造和使用材料層轉(zhuǎn)移進行3D集成
2019-03-12 14:24:451650

EV集團與中芯寧波攜手,實現(xiàn)砷化鎵射頻前端模組晶圓級微系統(tǒng)異質(zhì)集成

EV集團與中芯寧波攜手,實現(xiàn)砷化鎵射頻前端模組晶圓級微系統(tǒng)異質(zhì)集成 中芯寧波特有的晶圓級微系統(tǒng)集成技術(uWLSI)與EV集團的晶圓鍵合和光刻系統(tǒng)相結(jié)合,為4G/5G手機提供最緊湊的射頻前端芯片組
2019-03-20 14:00:412001

大陸集團推出高度集成的電驅(qū)動系統(tǒng)

大陸集團認為,未來出行的主流將會是電動車,預計到2025年全球的電動車的占比將達到10%。而純電動駕駛離不開高壓技術,大陸集團致力于為中國提供本地化產(chǎn)品及服務,而高壓解決方案是其中極其重要的一個技術。大陸集團的高度集成的高壓傳動系統(tǒng)正是針對此應用的解決方案。
2019-04-15 15:23:102046

涂層技術EV Group提供由摩托羅拉開發(fā)的面罩涂層技術

EV集團提供由摩托羅拉開發(fā)的掩模涂層技術 PHOENIX - EV集團公司在此宣布,它將提供由摩托羅拉實驗室開發(fā)的用于提高接觸式印刷設備產(chǎn)量的掩模涂層技術。該公司表示,該涂層稱為超級清潔面膜,可防止
2020-02-14 11:06:261257

為晶圓級CSP生產(chǎn)設定掩模標準

MUNICH - Karl Suss KG GmbH&公司今天宣布與硅谷的Image Technology公司合作,開發(fā)和標準化9英寸掩模,用于大批量晶圓凸點和晶圓級芯片級封裝的生產(chǎn)??傮w目標是降低晶圓級芯片級封裝掩模成本。
2019-08-13 10:48:592262

NI推出針對電動汽車硬件在環(huán)驗證的解決方案

NI,軟件定義平臺的領先供應商,助力于加速自動化測試和自動化測量系統(tǒng)的開發(fā)進程和性能提升,近日推出針對電動汽車(EV)動力總成組件硬件在環(huán)(HIL)驗證的全新解決方案。
2019-11-18 08:45:47671

應該如何使用ARM實現(xiàn)毫米波天線自動對準平臺的設計

在毫米波中繼通信設備中,為提高對準精度,縮短對準時間,滿足快速反應的要求,并結(jié)合毫米波波瓣窄,方向性強的特點,創(chuàng)造性地提出了毫米波天線自動對準平臺系統(tǒng)的設計方案。在天線對準過程中,將復雜的的空間搜索
2020-08-04 18:52:003

EV Group開發(fā)的LITHOSCALE可滿足市場和應用的光刻需求

市場提供晶圓鍵合與光刻設備的領先供應商EV Group(EVG)今天推出LITHOSCALE無掩模曝光系統(tǒng),該系統(tǒng)也是首個采用EV集團(EVG)革命性技術MLE(無掩膜曝光)的產(chǎn)品平臺。EV Group
2020-09-23 10:26:052680

政策助力光刻機行業(yè)發(fā)展,我國光刻機行業(yè)研發(fā)進度仍待加快

光刻機又名:掩模對準曝光機,曝光系統(tǒng),光刻系統(tǒng)等,是制造芯片的核心裝備。它采用類似照片沖印的技術,把掩膜版上的精細圖形通過光線的曝光印制到硅片上。光刻機是半導體產(chǎn)業(yè)中最關鍵設備,光刻工藝決定了半導體線路的線寬,同時也決定了芯片的性能和功耗。
2020-09-30 16:17:135162

ASML光刻機的工作原理及關鍵技術解析

光刻機(Mask Aligner) 又名:掩模對準曝光機,曝光系統(tǒng),光刻系統(tǒng)等,是制造芯片的核心裝備。它采用類似照片沖印的技術,把掩膜版上的精細圖形通過光線的曝光印制到硅片上。
2020-10-09 11:29:369260

政策助力光刻機行業(yè)發(fā)展,top3企業(yè)銷售量呈現(xiàn)波動增長的態(tài)勢

光刻機又名:掩模對準曝光機,曝光系統(tǒng),光刻系統(tǒng)等,是制造芯片的核心裝備。它采用類似照片沖印的技術,把掩膜版上的精細圖形通過光線的曝光印制到硅片上。光刻機是半導體產(chǎn)業(yè)中最關鍵設備,光刻工藝決定了半導體線路的線寬,同時也決定了芯片的性能和功耗。
2020-10-10 17:17:071496

一文詳解光刻機的工作原理

光刻機(Mask Aligner) 又名:掩模對準曝光機,曝光系統(tǒng),光刻系統(tǒng)等。
2020-10-16 10:33:39311070

紫外線探測器的性能特點及在光刻機中的應用研究

光刻機(Mask Aligner) 又名:掩模對準曝光機,曝光系統(tǒng),光刻系統(tǒng)等。常用的光刻機是掩膜對準光刻,所以叫 Mask Alignment System。一般的光刻工藝要經(jīng)歷硅片表面清洗烘干
2020-12-28 14:17:152440

關于紫外線探測器在紫外光刻機中的應用

光刻機(Mask Aligner) 又名:掩模對準曝光機,曝光系統(tǒng),光刻系統(tǒng)等。常用的光刻機是掩膜對準光刻,所以叫 Mask Alignment System。一般的光刻工藝要經(jīng)歷硅片表面清洗烘干
2020-12-29 09:14:542095

OpenHarmony、輕量系統(tǒng)、小型系統(tǒng)、標準系統(tǒng)的差異

本文簡單介紹OpenHarmony、輕量系統(tǒng)、小型系統(tǒng)、標準系統(tǒng)的差異,以及相關的官方資料和文檔。
2022-01-24 14:47:274390

晶片清洗、阻擋層形成和光刻膠應用

什么是光刻?光刻是將掩模上的幾何形狀轉(zhuǎn)移到硅片表面的過程。光刻工藝中涉及的步驟是晶圓清洗;阻擋層的形成;光刻膠應用;軟烤;掩模對準;曝光和顯影;和硬烤。
2022-03-15 11:38:02850

光刻膠剝離和光掩模清潔的工藝順序

本文一般涉及處理光掩模的領域,具體涉及用于從光掩模上剝離光致抗蝕劑和/或清洗集成電路制造中使用的光掩模的設備和方法。
2022-04-01 14:26:37610

TiN硬掩模濕法去除工藝的介紹

nm間距以下的特征。特別是,為了確保自對準通孔(SAV)集成,需要更厚的TiN-HM,以解決由光刻-蝕刻-光刻-蝕刻(LELE)未對準引起的通孔-金屬產(chǎn)量不足和TDDB問題。由于結(jié)構(gòu)的高縱橫比,如果不去除厚的TiN,則Cu填充工藝明顯更加困難。此外,使用TiN硬掩模時,在線蝕刻和金屬沉積之間可
2022-06-15 16:28:161851

「前沿技術」EV集團NanoCleave離型層技術改變3D集成

。 ? 微機電系統(tǒng)、納米技術和半導體市場晶圓鍵合與光刻設備領先供應商EV集團(EVG)推出了革命性的硅離型層技術NanoCleave?,可實現(xiàn)用于前端處理的超薄層堆疊,包括高級邏輯、存儲器和功率器件成型,以及半導體先進封裝。NanoCleave是一種完全兼容前端應用的離型層技術,采用
2022-11-14 15:50:23568

MEMS電鍍金屬掩模工藝優(yōu)化及構(gòu)建仿真模型

在微機電系統(tǒng)(MEMS)工藝中,沉積金屬作為掩模是目前較為常用的方法。金屬掩模的制備一般采用濺射與電鍍結(jié)合的方式,在襯底上先濺射用于電鍍工藝所沉積金屬的種子層,然后采用電鍍的方式生長金屬掩模
2022-11-25 10:13:031204

移植speexdsp到OpenHarmony標準系統(tǒng)

由于想要分享的內(nèi)容較多,為避免讀者姥爺們失去看下去的耐心,分享將以連載的方式進行。 第一期請點擊查看《移植speexdsp到OpenHarmony標準系統(tǒng)① 》,本期為移植speexdsp
2022-11-30 09:10:02571

移植speexdsp到OpenHarmony標準系統(tǒng)的第③

由于想要分享的內(nèi)容較多,為避免讀者姥爺們失去看下去的耐心,分享將以連載的方式進行。 前期回顧:《移植speexdsp到OpenHarmony標準系統(tǒng)② 》《移植speexdsp
2022-12-01 12:35:08771

EUV 光刻制造全流程設計解析

其全流程涉及了從 EUV 光源到反射鏡系統(tǒng),再到光掩模,再到對準系統(tǒng),再到晶圓載物臺,再到光刻膠化學成分,再到鍍膜機和顯影劑,再到計量學,再到單個晶圓。
2023-03-07 10:41:581134

EV集團將層轉(zhuǎn)移技術引入大批量制造

來源:Silicon Semiconductor 紅外激光切割技術能夠以納米精度從硅襯底上進行超薄層轉(zhuǎn)移,徹底改變了先進封裝和晶體管縮放的3D集成。 EV集團(EVG)推出了EVG?850
2023-12-13 17:26:46489

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