不同的蝕刻劑(氯化鐵和氯化銅)進(jìn)行化學(xué)蝕刻。研究了選擇的蝕刻劑和加工條件對蝕刻深度和表面粗糙度的影響。實(shí)驗研究表明，氯化鐵產(chǎn)生的化學(xué)腐蝕速率最快，但氯化銅產(chǎn)生的化學(xué)腐蝕速率最快最光滑的表面質(zhì)量。 關(guān)鍵詞:化學(xué)蝕刻；銅
2021-12-29 13:21:46
2088 
摘要 在印刷和蝕刻生產(chǎn)厚金屬膜中的精密圖案時，需要對化學(xué)蝕刻劑有基本的了解，以實(shí)現(xiàn)工藝優(yōu)化和工藝控制。 為了蝕刻純鋁電路，研究了正磷酸、多磷酸和氯化鐵的配方。 研究的目的是確定蝕刻速率和圖案定義對正
2022-01-07 15:07:481129 
摘要 我們?nèi)A林科納研究了正磷酸、聚磷酸、和鐵(III)氯化物蝕刻劑對工藝條件變化的敏感性，以確定該蝕刻劑系統(tǒng)在純鋁電路光刻制造中的潛在生產(chǎn)應(yīng)用。溫度變化、正磷酸濃度、多磷酸濃度的影響。檢測了酸濃度
2022-01-07 15:40:121194 
蝕刻機(jī)理 諸如KOH-、NaOH-或TMAH-溶液的強(qiáng)含水堿性介質(zhì)蝕刻晶體硅通孔 硅+ 2 OH- + 2 H O ?硅(OH) + H ?二氧化硅(OH) 2- + 2 H 因為不同晶面的Si原子
2022-07-11 16:07:221344 
、氫氟酸系、硫酸鹽系、硫酸系、堿性氯化銅和酸性氯化銅系。蝕刻開始時，金屬板表面被圖形保護(hù)，其余金屬面均和蝕刻液接觸，此時蝕刻垂直向深度進(jìn)行。當(dāng)金屬表面被蝕刻到一定深度后，裸露的兩側(cè)出現(xiàn)新的金屬面，這時蝕刻液
2017-02-21 17:44:26
為了在基板上形成功能性的MEMS結(jié)構(gòu)，必須蝕刻先前沉積的薄膜和/或基板本身。通常，蝕刻過程分為兩類：浸入化學(xué)溶液后材料溶解的濕法蝕刻干蝕刻，其中使用反應(yīng)性離子或氣相蝕刻劑濺射或溶解材料在下文中，我們將簡要討論最流行的濕法和干法蝕刻技術(shù)。
2021-01-09 10:17:20
本帖最后由 eehome 于 2013-1-5 09:58 編輯
各位大俠：有誰知道哪家有供應(yīng)蝕刻鈦的藥水，請告知或提供聯(lián)系方法。謝謝！??！本人的QQ號碼是：414615292
2012-08-08 14:51:57
使用。用過的顯像液請稀釋20倍后再排放到城市下水系統(tǒng)中！此時的板子應(yīng)該是很漂亮的了，嘿嘿。5開始蝕刻！稱出適量三氯化鐵塊，再按三氯化鐵塊：水為3:1左右的比例配置蝕刻液。注意：三氯化鐵有腐蝕性，嚴(yán)禁直接用手
2016-01-05 17:14:50
PCB堿性蝕刻常見問題原因及解決方法
2012-08-03 10:14:05
的規(guī)定或適當(dāng)降低抽風(fēng)量執(zhí)行?！ 。?）按工藝要求排放出部分比重高的溶液經(jīng)分析后補(bǔ)加氯化銨和氨的水溶液，使蝕刻液的比重調(diào)整到工藝充許的范圍。 3.問題：印制電路中金屬抗蝕鍍層被浸蝕 原因： ?。?
2018-09-19 16:00:15
`請問PCB蝕刻工藝質(zhì)量要求有哪些？`
2020-03-03 15:31:05
PCB制作工藝中的堿性氯化銅蝕刻液1.特性1)適用于圖形電鍍金屬抗蝕層，如鍍覆金、鎳、錫鉛合金，錫鎳合金及錫的印制板的蝕刻。 2)蝕刻速率快，側(cè)蝕小，溶銅能力高，蝕刻速率容易控制。 3)蝕刻液可以
2018-02-09 09:26:59
?！ 、趦H在孔和圖形上覆蓋干膜，以干膜作抗蝕層?！ 、墼?b class="flag-6" style="color: red">酸性蝕刻液中蝕去多余的銅，從而得到所需要的導(dǎo)線圖形?！ ?3) 特點(diǎn) ?、俟ば蜉^圖形電鍍蝕刻法簡單，但工藝控制會困難些。日本不少企業(yè)用此工藝
2018-09-21 16:45:08
的保護(hù)膜，使用貼膜機(jī)把感光膠膜貼在覆銅板上。(3)化學(xué)蝕刻 它是利用化學(xué)方法除去板上不需要的銅箔，留下組成圖形的焊盤、印制導(dǎo)線及符號等。常用的蝕刻溶液有酸性氯化銅、堿性氯化銅、三氯化鐵等PCB制作
2018-08-30 10:07:20
液的化學(xué)組分不同，其蝕刻速率就不相同，蝕刻系數(shù)也不同。如普遍使用的酸性氯化銅蝕刻液的蝕刻系數(shù)通常是&；堿性氯化銅蝕刻液系數(shù)可達(dá)3.5-4。而正處在開發(fā)階段的以硝酸為主的蝕刻液可以達(dá)到幾乎沒有側(cè)
2018-09-11 15:19:38
類型，通過試驗方法確定蝕刻液的濃度，它應(yīng)有較大的選擇余地，也就是指工藝范圍較寬?！ ?）蝕刻液的化學(xué)成分的組成：蝕刻液的化學(xué)組分不同，其蝕刻速率就不相同，蝕刻系數(shù)也不同。如普遍使用的酸性氯化銅蝕刻液
2013-10-31 10:52:34
PCB印制電路中影響蝕刻液特性的因素有哪些
2021-04-25 06:45:00
用權(quán)貼膠粘度加強(qiáng)，由于所用的貼膠具很好的粘性，而且膠紙又薄，故采用這種貼膠進(jìn)行制板，效果較好，一般是不須再作加熱處理?！ ?.腐蝕一般采用三氯化鐵作腐蝕液，腐蝕速度與腐蝕液的濃度，溫度及腐蝕過程中采取
2018-11-22 17:13:19
工藝，可以參閱內(nèi)層制作工藝中的蝕刻。目前，錫或鉛錫是最常用的抗蝕層,用在氨性蝕刻劑的蝕刻工藝中.氨性蝕刻劑是普遍使用的化工藥液，與錫或鉛錫不發(fā)生任何化學(xué)反應(yīng)。氨性蝕刻劑主要是指氨水/氯化氨蝕刻液。此外
2018-11-26 16:58:50
，還可以根據(jù)所采用蝕刻藥水的不同，而區(qū)分出不同的藥水體系……（關(guān)于蝕刻藥水，目前行業(yè)內(nèi)主要有6種：氯化鐵、酸性氯化銅、堿性氯化銅、過硫酸銨、硫酸/鉻酸、硫酸/雙氧水蝕刻液）本文之所以相對簡單，并不是
2023-02-17 11:46:54
的涂樹脂銅箔所形成的層壓板，其表面通過擦板或粗化處理后的銅箔表面、烘干、貼壓感光抗蝕干膜，接著進(jìn)行曝光、顯影而顯露出要蝕刻去的銅箔。然后進(jìn)行酸性蝕刻(酸性氯化銅蝕刻液或硫酸加雙氧水蝕刻液)形成可采用
2017-12-18 17:58:30
使用的化工藥液，與錫或鉛錫不發(fā)生任何化學(xué)反應(yīng)。氨性蝕刻劑主要是指氨水/氯化氨蝕刻液。此外，在市場上還可以買到氨水/硫酸氨蝕刻藥液?！ ∫粤蛩猁}為基的蝕刻藥液，使用后，其中的銅可以用電解的方法分離出來
2018-09-13 15:46:18
工藝中的蝕刻。目前，錫或鉛錫是最常用的抗蝕層,用在氨性蝕刻劑的蝕刻工藝中.氨性蝕刻劑是普遍使用的化工藥液，與錫或鉛錫不發(fā)生任何化學(xué)反應(yīng)。氨性蝕刻劑主要是指氨水/氯化氨蝕刻液。此外，在市場上還可以買到氨水
2018-04-05 19:27:39
鋰鐵電池是近幾年才興起的新一代干電池，其具有容量大、體積小、重量輕、大電流放電、低溫性能優(yōu)異的特點(diǎn)。相較于堿性電池而言，鋰鐵電池不易漏液，因為電解液完全吸附在隔膜上，電池內(nèi)部不存在流動性液體，不會
2018-11-27 13:21:49
關(guān)于這個酸堿性蝕刻廢液再生跟提銅設(shè)備的實(shí)用性以及優(yōu)缺點(diǎn)有沒有人知道呢?還有就是想自己提銅，又怎么過環(huán)保局這一關(guān)呢
2014-10-15 10:15:52
射流的理論獲得了底部的各個部位的蝕刻液離子的擴(kuò)散速率，并搞清楚了側(cè)壁上出現(xiàn)的主要原因。針對酸性氯化銅溶液，擴(kuò)散速度與蝕刻反應(yīng)速度是成比例關(guān)系的。所以，凹槽內(nèi)底部各個部位蝕刻的速度相對中央最大速率區(qū)也是
2018-09-10 15:56:56
導(dǎo)線及符號等。蝕刻劑有許多種類，常用的蝕刻溶液有酸性氯化銅、堿性氯化銅、三氯化鐵等。 三氯化鐵（FeCl3）在電子學(xué)、印制電路、照相制版、金屬精飾等加工和生產(chǎn)中，被廣泛用作銅、銅合金、Ni-Fe合金
2023-04-20 15:25:28
軸的轉(zhuǎn)動，葉片設(shè)計如圖3 所示。潑濺蝕刻或葉片蝕刻比滋泡蝕刻要好，因為它蝕刻均勻且側(cè)蝕小，但是每一次只能蝕刻有限的幾塊板子。這種蝕刻方法通常使用氯化鐵和硫酸銘榕液作蝕刻劑。大容量的容器用在槽的底部以
2018-09-11 15:27:47
兩種，一是酸性氯化銅(CaCl2)、 蝕刻液，一種是堿性氨水蝕刻液。 ?。粒畠煞N化學(xué)藥液的比較，見表氨水蝕刻液& 氯化銅蝕刻液比較 兩種藥液的選擇，視影像轉(zhuǎn)移制程中，Resist是抗
2018-11-23 16:59:25
適用范圍 印制線路板制造業(yè)發(fā)達(dá)地區(qū)集中開展含銅蝕刻廢液綜合利用。 主要技術(shù)內(nèi)容 一、基本原理 將印制線路板堿性蝕刻廢液與酸性氯化銅蝕刻廢液進(jìn)行中和沉淀，生成的堿式氯化銅沉淀用于生產(chǎn)工業(yè)級硫酸銅；沉淀
2018-11-26 16:49:52
。蝕刻工藝對設(shè)備狀態(tài)的依賴性極大,故必需時刻使設(shè)備保持在良好的狀態(tài)?！窘饷軐＜?V信：icpojie】 目前﹐無論使用何種蝕刻液﹐都必須使用高壓噴淋﹐而為了獲得較整齊的側(cè)邊線條和高質(zhì)量的蝕刻效果
2017-06-23 16:01:38
`鍍鎳抗氧化銅排絕緣套管工藝絕緣銅排圖片：常見截面范圍：30--3000mm2，常見厚度范圍3mm-12mm.常見寬度范圍10mm-125mm. 鍍鎳抗氧化銅排絕緣套管工藝絕緣銅排圖片：產(chǎn)品
2020-06-19 21:30:42
`一體化銅編織帶軟連接是一種常用的軟連接產(chǎn)品，除了要對其材質(zhì)、制作工藝和特點(diǎn)有所了解之外，關(guān)于一體化銅編織帶軟連接的金屬鍍邊工藝也必須有一定的掌握，以便于更好的加以運(yùn)用。 一體化銅編織帶軟連接的主要
2018-09-13 18:44:35
，還可以根據(jù)所采用蝕刻藥水的不同，而區(qū)分出不同的藥水體系……（關(guān)于蝕刻藥水，目前行業(yè)內(nèi)主要有6種：氯化鐵、酸性氯化銅、堿性氯化銅、過硫酸銨、硫酸/鉻酸、硫酸/雙氧水蝕刻液）本文之所以相對簡單，并不是
2023-02-17 11:54:22
面和蝕刻液導(dǎo)入裝置之間，并使晶片正面朝向工作臺面，晶片背面朝向蝕刻液導(dǎo)入裝置。 氣體噴出凹槽用以噴出氣體，而使晶片正面與工作臺面維持一既定距離?！ A持銷用以脫放松、夾持上述晶片的邊緣，而使晶片正面
2018-03-16 11:53:10
用于各種液位的測量，如油、水、污水、酸性液體、堿性液體。采用隔爆接線盒和本安放大電路，導(dǎo)桿和浮球不銹鋼材料。浮球式液位變送器廣泛使用于煉油、化工、造紙、食品、及污水處理等行業(yè)。`
2013-07-10 16:24:10
是半導(dǎo)體制造，微機(jī)械和微流控設(shè)備中的重要過程，需要微尺度的特征來優(yōu)化性能或創(chuàng)建層流態(tài)，這在宏觀上幾乎是不可能獲得的。由于能夠通過改變蝕刻劑濃度和蝕刻時間來輕松控制z軸蝕刻，因此常用于分層應(yīng)用。缺點(diǎn)包括許多化學(xué)廢物，其中許多是高酸性和多步過程。
2021-01-08 10:15:01
我司是做濕法蝕刻藥水的，所以在濕法這塊有很多年的研究。所以有遇到濕法蝕刻問題歡迎提問，很愿意為大家解答。謝謝！QQ：278116740
2017-05-08 09:58:09
盆兩個，這兩個塑膠盆一大一小。大的裝的是熱水，之后在蝕刻時會做隔水加熱用，而小的是裝蝕 刻液。在蝕刻液方面請各位注意，范例中使用的是環(huán)保蝕刻液，這是由於以前的氯化鐵含有劇毒，且回 收也不易，因此
2012-12-06 09:41:20
電阻式濕度傳感器應(yīng)當(dāng)最適用于濕度控制領(lǐng)域，其代表產(chǎn)品氯化鋰濕度傳感器具有穩(wěn)定性、耐溫性和使用壽命長多項重要的優(yōu)點(diǎn)，氯化鋰濕敏傳感器已有了五十年以上的生產(chǎn)和研究的歷史，有著多種多樣的產(chǎn)品型式和制作方法，都應(yīng)用了氯化鋰感濕液具備的各種優(yōu)點(diǎn)尤其是穩(wěn)定性最強(qiáng)。
2019-10-17 09:01:04
。 2·蝕刻液的種類﹕ 不同的蝕刻液,其化學(xué)組分不相同﹐蝕刻速率就不一樣﹐蝕刻系數(shù)也不一樣。 例如﹕酸性氯化銅蝕刻液的蝕刻系數(shù)通常為3﹐而堿性氯化銅蝕刻系數(shù)可達(dá)到4。 3·蝕刻速率： 蝕刻
2017-06-24 11:56:41
液可以選用堿性三氯化鐵、酸性氯化銅和氨水。蝕刻時不同銅箔厚度要使用不同的蝕刻速度，蝕刻速度還要與蝕刻液的溫度、濃度匹配，經(jīng)常維護(hù)蝕刻機(jī)的噴嘴，保持壓力和噴液分布均勻，不然最后造成蝕可不均和邊緣起銅絲
2018-08-29 10:20:48
100%完成！ 注意：用過的顯像液嚴(yán)禁再次使用。用過的顯像液請稀釋20倍后再排放到城市下水系統(tǒng)中！ 此時的板子應(yīng)該是很漂亮的了，嘿嘿。 5開始蝕刻！ 稱出適量三氯化鐵塊，再按三氯化鐵塊：水為3
2018-09-12 15:02:45
步驟。它利用化學(xué)方法去除板上不需要的銅箔，留下焊盤、印制導(dǎo)線及符號等。常用的蝕刻溶液有三氯化鐵、酸性氯化銅、堿性氯化銅、硫酸一過氧化氫等?！ ?．孔金屬化 孔金屬化是雙面板和多層板的孔與孔間、孔
2018-09-04 16:04:19
工藝中.氨性蝕刻劑是普遍使用的化工藥液，與錫或鉛錫不發(fā)生任何化學(xué)反應(yīng)。氨性蝕刻劑主要是指氨水/氯化氨蝕刻液?！ 〈送?，在市場上還可以買到氨水/硫酸氨蝕刻藥液。以硫酸鹽為基的蝕刻藥液,使用后,其中的銅
2018-09-19 15:39:21
水中氯化物快速測量儀深芬儀器廠家生產(chǎn)的水中氯化物快速測量儀能夠快速檢測水質(zhì)中氯化物的含量，水中氯化物快速測量儀具有可擴(kuò)展檢測項目多、檢測速度快、檢測精度高、預(yù)制試劑一步法操作、簡單易學(xué)等特點(diǎn)，廣泛
2022-05-16 14:14:47
氯化聚乙烯(簡稱CPE)是由聚乙烯(一般為高密度聚乙烯、低密度聚乙烯、線型低密度聚乙烯)經(jīng)氯化改性而制得的高分子合成材料，按含氯量不同，可分為塑性CPE(含氯量15%)、彈性CPE(16%-
2010-06-09 08:28:26
29 一、 三氯化鐵蝕刻液在印制電路、電子和金屬精飾等工業(yè)中廣泛采用三氯化鐵蝕刻銅、銅合金及鐵、鋅、鋁等。這是由于它的工藝穩(wěn)定，操作方便，價格便宜。但是，近些年來，
2010-08-19 17:25:220 中溫氯化焙燒工藝流程
2009-03-30 20:06:371281 
什么是氯化鋅電池？
高能氯化鋅電池是簡單鋅碳電池的一個改良版，用來提供更長的使用壽命以及更穩(wěn)定的電壓輸出。與普通鋅碳電池相比，氯化
2009-10-24 09:11:021646 電池材料之氯化鋅中文名稱：氯化鋅 英文名稱： Zinc Chloride CAS號：7646-85-7 分子式：ZnCl2 氯化鋅是無機(jī)鹽工業(yè)的重要產(chǎn)品之一，它應(yīng)用
2009-11-19 10:47:431473 氯化鋰濕敏電阻器的結(jié)構(gòu)及特性
氧化鋰濕敏電阻器屬電解質(zhì)類濕敏元件。氯化鈕( LiCl) 是一種吸濕鹽類，將它涂在有機(jī)絕緣基體上，或用多孔性合成樹脂漫透氯化鋰
2009-11-30 09:01:572784 PCB蝕刻技術(shù)通常所指蝕刻也稱光化學(xué)蝕刻，指通過曝光制版、顯影后，將要蝕刻區(qū)域的保護(hù)膜去除，在蝕刻時接觸化學(xué)溶液，達(dá)到溶解腐蝕的作用。
2017-04-21 17:08:275086 本文首先介紹了蝕刻機(jī)的分類及用途，其次闡述了蝕刻機(jī)的配件清單，最后介紹了蝕刻機(jī)的技術(shù)參數(shù)及應(yīng)用。
2018-04-10 14:38:324724 蝕刻液的種類：不同的蝕刻液化學(xué)組分不同，其蝕刻速率就不同，蝕刻系數(shù)也不同。例如：酸性氯化銅蝕刻液的蝕刻系數(shù)通常為3，堿性氯化銅蝕刻液的蝕刻系數(shù)可達(dá)到4。近來的研究表明，以硝酸為基礎(chǔ)的蝕刻系統(tǒng)可以做到幾乎沒有側(cè)蝕，達(dá)到蝕刻的線條側(cè)壁接近垂直。這種蝕刻系統(tǒng)正有待于開發(fā)。
2018-10-12 11:27:366336 按工藝要求進(jìn)行檢查及調(diào)整溫度、噴淋壓力、溶液比重、PH值和氯化銨的含量等工藝參數(shù)到工藝規(guī)定值。
2018-11-05 14:24:568995 工藝中.氨性蝕刻劑是普遍使用的化工藥液，與錫或鉛錫不發(fā)生任何化學(xué)反應(yīng)。氨性蝕刻劑主要是指氨水/氯化氨蝕刻液。此外，在市場上還可以買到氨水/硫酸氨蝕刻藥液。
2019-07-10 15:11:352710 
通常所指蝕刻也稱腐蝕或光化學(xué)蝕刻（photochemicaletching），指通過曝光制版、顯影后，將要蝕刻區(qū)域的保護(hù)膜去除，在蝕刻時接觸化學(xué)溶液，達(dá)到溶解腐蝕的作用，形成凹凸或者鏤空成型的效果。
2019-04-25 15:41:3614173 按工藝要求排放出部分比重高的溶液經(jīng)分析后補(bǔ)加氯化銨和氨的水溶液，使蝕刻液的比重調(diào)整到工藝充許的范圍。
2019-06-10 16:31:111817 蝕刻指通過曝光制版、顯影后，將要蝕刻區(qū)域的保護(hù)摸去處，在蝕刻時接觸化學(xué)溶液，達(dá)到溶解腐蝕的作用，形成凹凸或者鏤空成型的效果。最早可用來制造銅版、鋅版等印刷凹凸版。蝕刻機(jī)可以分為化學(xué)蝕刻機(jī)及電解蝕刻機(jī)兩類。
2019-06-26 16:02:4820207 酸性蝕刻是指用酸性溶液蝕去非線路銅層，露出線路部分，完成最后線路成形。
2019-10-03 15:05:0013392 在PCB生產(chǎn)全流程中，有多道工序均會產(chǎn)生大量的重金屬廢水，比較典型的有酸性蝕刻廢液、堿性蝕刻廢液、微
2019-08-20 09:21:022523 側(cè)蝕問題是蝕刻參數(shù)中經(jīng)常被提出來討論的一項，它被定義為側(cè)蝕寬度與蝕刻深度之比， 稱為蝕刻因子。
2019-09-02 10:17:391755 1.問題：印制電路中蝕刻速率降低
原因：
由于工藝參數(shù)控制不當(dāng)引起的
解決方法：
按工藝要求進(jìn)行檢查及調(diào)整溫度、噴淋壓力、溶液比重、PH值和氯化銨的含量等工藝參數(shù)到工藝規(guī)定值。
2020-01-15 15:10:533130 PCB，電路板，基板上面如何出現(xiàn)電路呢？這就要蝕刻來實(shí)現(xiàn)。所謂蝕刻，先在板子外層需保留的銅箔部分，也就是電路的圖形部分，在上面預(yù)鍍一層鉛錫抗蝕層，然后用化學(xué)方式將其余的銅箔腐蝕掉。銅有兩層，一層需要
2020-03-08 14:45:214248 ，錫鉛為抗蝕劑。 二、蝕刻反應(yīng)基本原理 1．酸性氯化銅蝕刻液 ①．特性 -蝕刻速度容易控制，蝕刻液在穩(wěn)定狀態(tài)下能達(dá)到高的蝕刻質(zhì)量 -蝕銅量大 -蝕刻液易再生和回收 ②．主要反應(yīng)原理 蝕刻過程中，Cu2+有氧化性，將板面銅氧化成Cu+：Cu+CuCl2→2CuC
2020-12-11 11:40:587463 1、 PCB蝕刻介紹 蝕刻是使用化學(xué)反應(yīng)而移除多余材料的技術(shù)。PCB線路板生產(chǎn)加工對蝕刻質(zhì)量的基本要求就是能夠?qū)⒊刮g層下面以外的所有銅層完全去除干凈，僅此而已。在PCB制造過程中，如果要精確地
2021-04-12 13:48:0031020 
蝕刻機(jī)的基礎(chǔ)原理一、蝕刻的目的蝕刻的目的即是將前工序所做出有圖形的線路板上的未受保護(hù)的非導(dǎo)體部分銅蝕刻去，形成線路。蝕刻有內(nèi)層蝕刻和外層蝕刻，內(nèi)層采用酸性蝕刻，濕膜或干膜為抗蝕劑；外層采用堿性蝕刻，錫鉛為抗蝕劑
2020-12-24 12:59:384838 引言 了解形成MEMS制造所需的三維結(jié)構(gòu)，需要SILICON的各向異性蝕刻，此時使用的濕式蝕刻工藝考慮的事項包括蝕刻率、長寬比、成本、環(huán)境污染等[1]。用于硅各向異性濕式蝕刻 溶液有KOH
2021-12-23 09:55:35484 
引言 氫氧化鉀(KOH)和添加劑2-丙醇(異丙醇，IPA)通常用于單晶硅片的堿性織構(gòu)化，以減少其反射。氫氧化鉀和異丙醇在水中的蝕刻混合物需要明確定義氫氧化鉀和異丙醇的水平，以消除鋸損傷，并獲得完全
2022-01-04 17:13:20764 
摘要 本文對本克斯使用的鋁蝕刻劑進(jìn)行調(diào)查，以長期提高蝕刻部件的質(zhì)量。非常薄的鋁箔圖案在磷酸、氯化鐵和水銹溶液中精確蝕刻的鋁箔圖案符合尺寸和一致性標(biāo)準(zhǔn)。蝕刻劑的主要問題是，由蒸發(fā)和耗盡引起的成分變化
2022-01-07 16:47:46840 
摘要 我們?nèi)A林科納用同步光電發(fā)射光譜法研究了無氧化物砷化鎵表面與酸性(鹽酸+2-丙醇)和堿性(氨水）溶液的相互作用。結(jié)果表明，兩種溶液主要處理表面鎵原子，分別形成弱可溶性氯化鎵和可溶性氫化鎵。因此
2022-01-24 15:07:301071 
時 1–5 M KOH 溶液的堿濃度無關(guān) ?C。僅在堿性濃度越低，蝕刻速率越低。添加異丙醇會略微降低絕對蝕刻速率。在標(biāo)準(zhǔn) KOH 溶液中蝕刻反應(yīng)的活化能為 0.61 ± 0.03 eV 和0.62 ± 0.03 eV
2022-03-04 15:07:09845 
Gravity: 氯化氫傳感器(出廠校準(zhǔn)) - I2C&UART是著名開源硬件商DFRobot新推出的一款檢測氯化氫濃度的傳感器，支持模擬量、I2C和UART三種輸出方式。探頭已經(jīng)過出廠標(biāo)定，可以快速、準(zhǔn)確的測量環(huán)境中氯化氫的濃度?？蓮V泛應(yīng)用于合工業(yè)、礦下及環(huán)保領(lǐng)域氯化氫的檢測。
2022-03-04 15:28:212677 在本文中，我們首次報道了實(shí)現(xiàn)硅111和100晶片的晶體蝕刻的酸性溶液。通過使用六氟硅酸(也稱為氟硅酸)和硝酸的混合物，獲得暴露出各種面外111平面的硅111的晶體蝕刻。本文描述了用于該研究的溶液的化學(xué)組成，隨后是使用電子和光學(xué)顯微鏡獲得的結(jié)果。蝕刻的機(jī)理，雖然沒有完全理解，將在下面的章節(jié)中討論。
2022-03-09 14:35:42460 
了解形成MEMS制造所需的三維結(jié)構(gòu)，需要SILICON的各向異性蝕刻，此時使用的濕式蝕刻工藝考慮的事項包括蝕刻率、長寬比、成本、環(huán)境污染等[1]。用于硅各向異性濕式蝕刻。
2022-03-11 13:57:43337 
本文研究了用金剛石線鋸切和標(biāo)準(zhǔn)漿料鋸切制成的180微米厚5英寸半寬直拉單晶硅片與蝕刻時間的關(guān)系，目的是確定FAS晶片損傷蝕刻期間蝕刻速率降低的根本原因，無論是與表面結(jié)構(gòu)相關(guān)，缺陷相關(guān)，由于表面存在的氧化層，還是由于有機(jī)殘差。
2022-03-16 13:08:09619 
微加工過程中有很多加工步驟。蝕刻是微制造過程中的一個重要步驟。術(shù)語蝕刻指的是在制造時從晶片表面去除層。這是一個非常重要的過程，每個晶片都要經(jīng)歷許多蝕刻過程。用于保護(hù)晶片免受蝕刻劑影響的材料被稱為掩模
2022-03-16 16:31:581136 
用氟化氫-氯化氫-氯氣混合物進(jìn)行各向異性酸性蝕刻是一種有效的方法 單晶硅晶片紋理化的替代方法 在晶片表面形成倒金字塔結(jié)構(gòu)[1，2]形貌取決于以下成分 蝕刻混合物[3]硅在HF-HCl[1]Cl2
2022-04-12 14:10:22362 
氫氧化鉀(KOH)是一種用于各向異性濕法蝕刻技術(shù)的堿金屬氫氧化物，是用于硅晶片微加工最常用的硅蝕刻化學(xué)物質(zhì)之一。各向異性蝕刻優(yōu)先侵蝕襯底。也就是說，它們在某些方向上的蝕刻速度比在其他方向上的蝕刻
2022-05-09 15:09:201420 本文講述了我們?nèi)A林科納研究了M111N蝕刻速率最小值的高度，以及決定它的蝕刻機(jī)制，在涉及掩模的情況下，M111N最小值的高度可以受到硅/掩模結(jié)處的成核的影響，以這種方式影響蝕刻或生長速率的結(jié)可以
2022-05-20 17:12:59853 
引言 我們?nèi)A林科納討論了一種高速率各向異性蝕刻工藝，適用于等離子體一次蝕刻一個晶片。結(jié)果表明，蝕刻速率主要取決于Cl濃度，而與用于驅(qū)動放電的rf功率無關(guān)。幾種添加劑用于控制蝕刻過程。加入BCl以開始
2022-06-13 14:33:14904 
蝕刻工藝 蝕刻過程分類
2022-08-08 16:35:34736 
反應(yīng)性離子蝕刻綜合了離子蝕刻和等離子蝕刻的效果：其具有一定的各向異性，而且未與自由基發(fā)生化學(xué)反應(yīng)的材料會被蝕刻。首先，蝕刻速率顯著增加。通過離子轟擊，基材分子會進(jìn)入激發(fā)態(tài)，從而更加易于發(fā)生反應(yīng)。
2022-09-19 15:17:553390 CuACs/PCN通過兩步熱聚合過程制備，如圖1a所示。首先，將氯化銅、三聚氰胺和次磷酸鈉的混合物在氮?dú)鈿夥障?00°C煅燒；接著用熔融鹽研磨，在N2下550°C煅燒，最后用H2SO4處理。
2022-12-01 15:20:021182 PTFE管用途：可用于蝕刻搖擺機(jī)的搖擺架，PTFE也稱：可溶性聚四氟乙烯、特氟龍、Teflon 蝕刻機(jī)的簡單介紹： 1、采用傳動裝置，霧化噴淋，結(jié)構(gòu)合理；加工尺寸長度不限制，速度快、精度高
2022-12-19 17:05:50408 蝕刻不是像沉積或鍵合那樣的“加”過程，而是“減”過程。另外，根據(jù)刮削方式的不同，分為兩大類，分別稱為“濕法蝕刻”和“干法蝕刻”。簡單來說，前者是熔法，后者是挖法。
2023-01-29 09:39:003850 金屬蝕刻是一種通過化學(xué)反應(yīng)或物理沖擊去除金屬材料的技術(shù)。金屬蝕刻技術(shù)可分為濕蝕刻和干蝕刻。金屬蝕刻由一系列化學(xué)過程組成。不同的蝕刻劑對不同的金屬材料具有不同的腐蝕特性和強(qiáng)度。
2023-03-20 12:23:433172 干法蝕刻與濕法蝕刻之間的爭論是微電子制造商在項目開始時必須解決的首要問題之一。必須考慮許多因素來決定應(yīng)在晶圓上使用哪種類型的蝕刻劑來制作電子芯片，是液體（濕法蝕刻）還是氣體（干法蝕刻）
2023-04-12 14:54:331005 鹽霧耐久循環(huán)試驗機(jī)中的腐蝕溶液的腐蝕溶液通常是5%濃度的氯化鈉溶液或者在氯化濃溶液中添加0.26克氯化銅作為鹽霧腐蝕溶液。此外，鹽霧耐久循環(huán)試驗機(jī)可獨(dú)立調(diào)節(jié)鹽霧的沉降和噴灑量，確保實(shí)驗溫度穩(wěn)定
2022-11-11 11:40:23691 
關(guān)鍵詞：氫能源技術(shù)材料，耐高溫耐酸堿耐濕膠帶，高分子材料，高端膠粘劑引言：蝕刻(etching)是將材料使用化學(xué)反應(yīng)或物理撞擊作用而移除的技術(shù)。蝕刻技術(shù)可以分為濕蝕刻(wetetching)和干蝕刻
2023-03-16 10:30:163506 
刻蝕和蝕刻實(shí)質(zhì)上是同一過程的不同稱呼，常常用來描述在材料表面上進(jìn)行化學(xué)或物理腐蝕以去除或改變材料的特定部分的過程。在半導(dǎo)體制造中，這個過程常常用于雕刻芯片上的細(xì)微結(jié)構(gòu)。
2023-07-28 15:16:594141 腐蝕pcb板的溶液按抗蝕層類型與生產(chǎn)條件而選擇：有酸性氯化銅、堿性氯化銅、三氯化鐵、硫酸與過氧化氫、過硫酸鹽等多種。下面捷多邦小編和大家介紹一下腐蝕pcb板的溶液的一些知識。 三氯化鐵的蝕刻液是銅箔
2023-10-08 09:50:22744 蝕刻液的化學(xué)成分的組成：蝕刻液的化學(xué)組分不同，其蝕刻速率就不相同，蝕刻系數(shù)也不同。如普遍使用的酸性氯化銅蝕刻液的蝕刻系數(shù)通常是&；堿性氯化銅蝕刻液系數(shù)可達(dá)3.5-4。而正處在開發(fā)階段的以硝酸為主的蝕刻液可以達(dá)到幾乎沒有側(cè)蝕問題，蝕刻后的導(dǎo)線側(cè)壁接近垂直。
2023-10-16 15:04:35553 英思特研究了在低溫下用乙酸去除氧化銅。乙酸去除各種氧化銅，包括氧化亞銅、氧化銅和氫氧化銅，而不會侵蝕下面的銅膜。
2023-11-06 17:59:44240 
按工藝要求排放出部分比重高的溶液經(jīng)分析后補(bǔ)加氯化銨和氨的水溶液，使蝕刻液的比重調(diào)整到工藝充許的范圍。
2023-12-06 15:01:46287 基于GaN的高電子遷移率，晶體管，憑借其高擊穿電壓、大帶隙和高電子載流子速度，應(yīng)用于高頻放大器和高壓功率開關(guān)中。就器件制造而言，GaN的相關(guān)材料，如AlGaN，憑借其物理和化學(xué)穩(wěn)定性，為等離子體蝕刻
2023-12-13 09:51:24294 
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