1、 PCB蝕刻介紹
蝕刻是使用化學(xué)反應(yīng)而移除多余材料的技術(shù)。PCB線路板生產(chǎn)加工對蝕刻質(zhì)量的基本要求就是能夠?qū)⒊刮g層下面以外的所有銅層完全去除干凈,僅此而已。在PCB制造過程中,如果要精確地界定蝕刻的質(zhì)量,那么必須包括導(dǎo)線線寬的一致性和側(cè)蝕程度,即蝕刻因子,下面就簡要介紹蝕刻制程及蝕刻因子。
蝕刻的目的:蝕刻的目的是將圖形轉(zhuǎn)移以后有圖形的受抗蝕劑保護(hù)的地方保留,其他未受保護(hù)的銅蝕刻掉,最終形成線路,達(dá)到導(dǎo)通的目的。
蝕刻分類:蝕刻有酸性蝕刻和堿性蝕刻兩種,通常內(nèi)層采用酸性蝕刻,濕膜或干膜為抗蝕劑。外層采用堿性蝕刻,錫鉛為抗蝕劑。
DES介紹:DES為顯影、蝕刻、退膜的簡稱,蝕刻由顯影、蝕刻、褪膜三大部份組成。顯影為將未曝光部份溶解,曝光部份保留。顯影的速度可按露銅點(diǎn)50-70%決定。蝕刻是將裸露的銅面蝕掉,從而得到我們所需的圖形。褪膜是利用強(qiáng)堿能將干膜溶解原理,將干膜沖洗干凈。NaOH濃度控制3-5%。濃度過高會(huì)造成板面氧化,太低又沖洗不干凈。
2、 內(nèi)層蝕刻-酸性蝕刻流程
3、 外層蝕刻-堿性蝕刻流程
4.蝕刻因子
蝕刻液在蝕刻過程中,不僅向下而且對左右各方向都產(chǎn)生蝕刻作用側(cè)蝕是不可避免的。側(cè)蝕寬度與蝕刻深度之比稱為蝕刻因子。我們的成品線路實(shí)際上是一倒立的梯形,蝕刻因子越小,蝕刻效果越好,阻抗控制得也越好。通常我們的蝕刻精度公差是10mil及以下的線寬按照+/-1MIL控制,10mil以上的線寬公差按+/-10%管控。線寬越小,蝕刻的精度公差越難控制,我們在設(shè)計(jì)時(shí)要考慮注意此點(diǎn)因素。
5、 蝕刻對阻抗的影響(線路在成品1oz的情況下)
6、總結(jié)
綜上所述,我們設(shè)計(jì)的線寬,在蝕刻因子及蝕刻公差等各種因素的影響下,我們最終得到的成品線寬,不是我們想像中的那么完美,從而會(huì)最終影響到我們的阻抗值控制。
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