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標簽 > 光刻

光刻

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光刻是平面型晶體管和集成電路生產中的一個主要工藝。是對半導體晶片表面的掩蔽物(如二氧化硅)進行開孔,以便進行雜質的定域擴散的一種加工技術。

文章:263 視頻:32 瀏覽:30164 帖子:5

光刻技術

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來源:C Lighting 線邊緣粗糙度(LER) 線邊緣粗糙度(LER)指的是柵極圖案邊緣的隨機變化,即印刷圖案邊緣的粗糙度。當最小特征尺寸減小到幾十...

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晶圓制造工藝流程及一些常用名詞解釋

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共讀好書 晶圓制造工藝流程 1、 表面清洗 2、 初次氧化 3、 CVD(Chemical Vapor deposition) 法沉積一層 Si3N4 ...

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激光指向穩(wěn)定在光刻系統應用中的關鍵作用及其優(yōu)化方案

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2024-06-27 標簽:芯片半導體激光 424 0

電子束技術的原理與應用概覽

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電子束技術在半導體制造行業(yè)一直是重要的應用技術。本文就電子束技術作一個簡單的圖文介紹。

2024-04-30 標簽:光刻電子束半導體制造 1568 0

玻璃通孔技術研究進展

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聚焦放電主要包括兩個步驟:1) 將玻璃放在兩個電極之間,通過控制放電對玻璃局部區(qū)域進行放電熔融;2)通過焦耳熱使玻璃內部產生高應力,引起內部高壓和介電擊穿。

2024-04-26 標簽:等離子光刻顯微鏡 1106 0

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光刻資訊

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正性光刻對掩膜版的要求

在正性光刻過程中,掩膜版(Photomask)作為圖形轉移的關鍵工具,其性能直接影響到最終圖形的精確度和質量。以下是正性光刻對掩膜版的主要要求: 圖案準...

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2024-10-14 標簽:光刻掩膜 259 0

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光刻掩模是光的一種掩蔽模片,其作用有類似于照相的通過它,可以使它“底下“的光劑部分成光,難溶于有機藥品,一部分不感光,易溶于有機藥品,以而制得選擇擴散所...

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2024-08-15 標簽:光刻微流控掩膜 614 0

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微流控光刻掩膜的制作過程涉及多個步驟,?包括設計、?制版、?曝光、?顯影、?刻蝕等,?最終形成具有特定圖形結構的掩膜版。? 首先,?設計階段是制作掩膜版...

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松玥a jf_92148107 jf_02593861 jf_55870080 jf_85333630 jf_07556477 jf_44990220 夜漠寒

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