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標簽 > 光刻
光刻是平面型晶體管和集成電路生產中的一個主要工藝。是對半導體晶片表面的掩蔽物(如二氧化硅)進行開孔,以便進行雜質的定域擴散的一種加工技術。
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Line Edge Roughness (LER) 線邊緣粗糙度
來源:C Lighting 線邊緣粗糙度(LER) 線邊緣粗糙度(LER)指的是柵極圖案邊緣的隨機變化,即印刷圖案邊緣的粗糙度。當最小特征尺寸減小到幾十...
激光指向穩(wěn)定在光刻系統應用中的關鍵作用及其優(yōu)化方案
光刻是半導體制造工藝中的核心之一,極紫外光刻技術作為新一代光刻技術也處于快速發(fā)展階段。其基本原理是利用光致抗蝕劑(或稱光刻膠)感光后因光化學反應而形成耐...
在正性光刻過程中,掩膜版(Photomask)作為圖形轉移的關鍵工具,其性能直接影響到最終圖形的精確度和質量。以下是正性光刻對掩膜版的主要要求: 圖案準...
? 圖像轉移,也稱為光刻技術(或簡稱光刻),在PCB的電路圖形方面發(fā)揮關鍵作用。它能實現復雜和精確的連接,以支持在更小的區(qū)域實現更多連接。隨著對更高密度...
光刻掩膜(也稱為光罩)和模具在微納加工技術中都起著重要的作用,但它們的功能和應用有所不同。 光刻掩膜版 光刻掩膜版是微納加工技術中常用的光刻工藝所使用的...
想必大家都有所了解,光刻機對芯片制造的重要性,而光掩膜版又稱光罩,光掩膜等; 光掩膜版是由制造商通過光刻制版工藝將電路圖刻制于基板上制作而成,主要作用體...
2024-10-09 標簽:光刻 330 0
光刻掩膜版的制作是一個復雜且精密的過程,涉及到多個步驟和技術。以下是小編整理的光刻掩膜版制作流程: 1. 設計與準備 在開始制作光刻掩膜版之前,首先需要...
光刻掩模是光的一種掩蔽模片,其作用有類似于照相的通過它,可以使它“底下“的光劑部分成光,難溶于有機藥品,一部分不感光,易溶于有機藥品,以而制得選擇擴散所...
微流控光刻掩膜的制作過程涉及多個步驟,?包括設計、?制版、?曝光、?顯影、?刻蝕等,?最終形成具有特定圖形結構的掩膜版。? 首先,?設計階段是制作掩膜版...
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