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電子發(fā)燒友網(wǎng)>電子資料下載>電子元器件應(yīng)用>多重曝光技術(shù)分析

多重曝光技術(shù)分析

2017-09-12 | rar | 1.29 MB | 次下載 | 免費(fèi)

資料介紹

  自戈登·摩爾于1965年提出關(guān)于每平方英寸集成電路上的晶體管數(shù)量翻倍的著名論斷以來,半導(dǎo)體行業(yè)似乎一直都在不斷突破物理定律的掣肘,以便能跟上這一節(jié)奏。而光刻工藝行業(yè)尤為如此。圖1顯示了一份光刻因子k1的圖表,該因子與所繪臨界尺寸及透鏡系統(tǒng)的數(shù)值孔徑成正比,與系統(tǒng)中所用的光波波長成反比。隨著晶圓上所刻尺寸的減小,k1因子急劇減小。k1因子越小,圖像質(zhì)量越差。當(dāng)k1因子指標(biāo)降至約0.6以下時(shí),圖像質(zhì)量將變得很差,以致無法提供良品電路。如果我們?nèi)岳^續(xù)使用436nmg-line光刻設(shè)備,那么業(yè)內(nèi)將永遠(yuǎn)無法突破1um的特征尺寸。
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