在過去的幾年間,英偉達的GPU一直由臺積電進行代工,帶來了諸如性能大幅提升的10系、支持實時光線追蹤的RTX顯卡產(chǎn)品,兩家公司維持著相對穩(wěn)固的合作。目前英偉達的圖靈(Turing)架構(gòu)GPU采用的就是臺積電12nm FFN制程。
不過這樣的合作模式即將發(fā)生改變:在2020年投產(chǎn)的安培架構(gòu)GPU上,英偉達將改用三星的7nm EUV工藝進行生產(chǎn)。
由于產(chǎn)品規(guī)劃節(jié)奏把握上的原因,錯過了臺積電7nm制程生產(chǎn)序列的英偉達放棄了等待轉(zhuǎn)而與三星半導(dǎo)體合作,將用更新的7nm EUV工藝來進行2020年的安培架構(gòu)GPU生產(chǎn)。
三星的7nm EUV工藝之所以較臺積電晚,是因為三星跳過了7nm DUV,直接采用了7nm EUV工藝。目前臺積電第一代7nm工藝為DUV,7nm EUV工藝也已投產(chǎn),但相應(yīng)芯片還沒有上市。所以明年在7nm EUV工藝上,三星和臺積電將會面臨直接競爭。
據(jù)稱英偉達之所以選擇了三星,一個重要的原因是三星給出了更加低廉的代工生產(chǎn)報價。
產(chǎn)能也可能在英偉達選擇轉(zhuǎn)向三星的另一個重要原因。臺積電7nm節(jié)點的需求量非常大,特別是Apple和AMD最近推出了Ryzen臺式機CPU和EYPC服務(wù)器CPU。通過使用三星7nm EUV工藝代替臺積電的7nm工藝,Nvidia可能能夠獲得更多供應(yīng)。
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原文標(biāo)題:動態(tài) | 英偉達全新架構(gòu)GPU 轉(zhuǎn)投三星7nm EUV工藝
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