Micro LED技術何時才能實現(xiàn)突破?
LED龍頭廠富采前董事長李秉杰認為,過去縮小Micro LED芯片就會遇到的發(fā)光亮度下降問題,目前在供應鏈齊心協(xié)力下持續(xù)獲得改善,有望在2024年有所突破。
此外,目前已看到虛擬實境(VR)、擴增實境(AR)等革命性創(chuàng)新技術,相信未來產業(yè)界能夠克服挑戰(zhàn),發(fā)揮在Micro LED領域的潛力。
據(jù)高工LED觀察,今年9月份以來,Micro LED產業(yè)鏈多個環(huán)節(jié)在技術已取得重大進展,包括Micro LED芯片、Micro LED封裝、Micro LED設備以及Micro LED材料技術等。
01韓國KOPTI研發(fā)高效Micro LED
韓國媒體報道,韓國光子技術研究院(KOPTI)宣布成功研發(fā)出高效精細Micro LED,Micro LED內部量子效率均可保持90%的范圍內,并且不受芯片尺寸大小和不同的注入電流密度的影響。
這款產品解決了Micro LED因芯片尺寸縮小以及注入電流增加而導致的發(fā)光效率迅速下降的問題。KOPTI介紹,本次研究團隊通過新結構減輕了外延層中的應力,提高了發(fā)光效率,并抑制了Micro LED在任何外部電場或結構下的物理應力變化。因此,即使Micro LED尺寸減小,新結構可依舊顯著降低表面非發(fā)光復合損耗并保持了高發(fā)光效率,且無需采用鈍化工藝。
KOPTI表示,團隊已成功驗證高效精細Micro LED在藍光,以及氮化鎵綠光、紅光器件上的應用,未來有望通過該技術生產全彩氮化鎵Micro LED顯示器。
02臺工研院研發(fā)出二合一Micro LED顯示模塊快速檢測技術
近日,臺灣地區(qū)工研院鎖定色彩校正及光學檢測兩項核心要點,成功研發(fā)出高準確性二合一的“Micro LED顯示模塊快速檢測技術”,能同時檢測色彩及光源角度。
因為Micro LED尺寸很小,傳統(tǒng)顯示器量測設備鏡頭的相機像素無法滿足檢測需求,臺灣地區(qū)工研院研發(fā)團隊利用“重復曝光色彩校正技術”,以重復曝光方式達到Micro LED面板色彩的平衡,并通過光學校正技術分析色彩均勻度,達到準確量測目的。
再來,Micro LED因材料本身特性,具有較廣的色域范圍以及自發(fā)光特性,進而達到高對比及廣視角,傳統(tǒng)量測須靠轉動儀器收集不同角度光源再進行檢測,臺灣地區(qū)工研院研發(fā)團隊在既有的光學量測機臺上,安裝多角度收光鏡頭,通過一次集結不同角度的光源,再利用獨創(chuàng)的軟件分析技術,使光源同時呈現(xiàn)在同一個界面上,達到定點量測,大幅減少50%檢測時間之外,更成功突破傳統(tǒng)100度光源角度檢測,擴大至約120度。
Micro LED其微型、低功耗及高亮度特性,可將傳感器整合入同一模塊,對于未來汽車內部,可提供互動智慧座艙特性,帶動高沈浸的智慧化體驗。
03瑞利光研發(fā)可獨立調色雙層Micro LED陣列
10月13日消息,由香港城市大學何志浩(Jr-Hau HE)教授及其衍生公司瑞利光(Rayleigh Vision)領導的微顯示研究團隊在Micro LED技術方面取得了重大進展,克服了當前的Micro LED技術局限性。
該團隊展示了其疊層發(fā)光單元制造技術,新推出了雙層Micro LED陣列,每層均可進行獨立調色。據(jù)悉,該團隊的Micro LED疊層工藝已獲得初步驗證,未來有望研發(fā)出RGB全彩Micro LED產品。
瑞利光表示,這項Micro LED技術的進步,預計將使當前平面顯示器件的像素密度增加一倍及以上。顯示器件具有高對比度、高亮度、寬色域、高效率、低功耗、長壽命等特點,適用于娛樂、消費電子和專業(yè)行業(yè)的廣泛應用。
04JBD紅光Micro LED亮度突破100萬尼特
近日,Micro LED微顯示器制造商JBD宣布,其自主研發(fā)的0.13英寸Micro LED紅光芯片亮度突破100萬尼特大關。
據(jù)介紹,本次紅光實現(xiàn)100萬nits亮度,得益于JBD在多項技術上的重大突破,包括在材料生長技術、非輻射復合抑制技術及光束發(fā)散角控制等方面。
新一代超薄AlGaInP外延技術和與之匹配的芯片鈍化技術是紅光Micro LED亮度提升的關鍵。據(jù)悉,JBD紅光的像素尺寸為4um,而發(fā)光的LED尺寸<2um,這也對發(fā)光效率提出了更為苛刻的要求。
在此之前,JBD正式發(fā)布單片全彩垂直堆疊Micro LED微顯示屏Phoenix(鳳凰)系列原型。該系列產品設計用于50°以上FOV光波導方案的AR眼鏡。
05Avicena推出Micro LED基收發(fā)器IC
近日,美國Micro LED基芯片到芯片光學互連技術開發(fā)商Avicena,展示了全球首款采用16nm FinFET CMOS工藝打造的Micro LED基收發(fā)器IC,帶寬達到1Tbps。
該公司表示,與當前基于VCSEL或硅光子的解決方案相比,其基于Micro LED打造的LightBundle通信架構技術,可提供更低的功耗和延遲、更高的帶寬和更低的成本。
據(jù)了解,本次Avicena通過全新16 nm FinFET工藝打造的IC,擁有超過300個通道,每個通過提供4Gbps帶寬,超過1Tbps的雙向總帶寬。此外,IC尺寸小于12mm2,包含了光學發(fā)送和接收陣列電路,以及高速并行電氣接口和各種測試設計、可制造性分析(DFT/DFM)功能。
06ETRI開發(fā)高效Micro LED封裝技術
9月24日,韓國電子和電信研究所(ETRI)宣布,開發(fā)出一種新型芯片封裝技術,可將半導體生產功耗降低95%,新技術使半導體產品生產效率更高且成本更低。
這種新技術采用了一種名為非導電薄膜(NCF)的新型薄膜材料,由ETRI通過其自研的納米材料技術開發(fā)。新技術的應用,將半導體小型芯片封裝工藝從復雜的九步工序,簡化為三個簡單步驟。
該技術可適用于包括Micro LED在內的所有高端半導體產品生產。該研究團隊透露,已有幾家Micro LED開發(fā)商參與評估該新技術,并且取得了非常積極的初步測試成果,該新材料有望在三年內實現(xiàn)商業(yè)化應用。
07國星實現(xiàn)7.5微米像素間距的微顯示屏點亮
國星光電在投資者交流活動中表示,目前公司技術已經可實現(xiàn)7.5微米像素間距的微顯示屏點亮,具有分辨率優(yōu)、功耗更低等特點,可應用于智能手機、微投和AR/VR設備等多種產品中。
此外,在ALE 2023展會上,國星光電還重磅展出萬級像素數(shù)字化大燈Micro LED光源。
據(jù)國星光電介紹,這款Micro LED光源采用了共晶鍵合技術,將微米級Micro LED藍光芯片陣列整合集成到CMOS控制電路上,實現(xiàn)了Micro LED陣列中單個像素獨立控制。光源通過搭配高光效白光轉換介質,可實現(xiàn)萬級像素高品質圖像顯示。
08諾視Micro LED像素垂直堆疊取得重大進展
9月12日,Micro LED微顯示芯片公司諾視科技宣布近日成功打通垂直堆疊(VSP)工藝流程,實現(xiàn)AlGaInP和GaN材料體系的單片集成。
據(jù)介紹,該技術采用晶圓級堆疊(WLVSP)技術方案,在完成AlGaInP紅光微顯示芯片制備后,繼續(xù)堆疊InGaN晶圓材料,可實現(xiàn)單個驅動背板上的像素垂直堆疊。
諾視科技表示,這是公司在點亮0.39英寸以及其全球最小的0.12英寸紅、綠、藍三原色微顯示芯片后,在VSP技術上的又一突破,在完成全波段布局后,向單片全彩Micro LED微顯示芯片更進一步。
09K&S展出雷射Mini/Micro LED芯片轉移系統(tǒng)
今年9月,全球打線封裝機臺龍頭庫力索法(K&S)于SEMICON Taiwan 2023首度展示LUMINEX雷射Mini/Micro LED芯片轉移系統(tǒng)。
作為雷射Mini/Micro LED芯片轉移解決方案,LUMINEX專為小芯片、高精度、高產能芯片轉移設計,可通過多種操作模式進行,在掃瞄模式下,速度達到1萬赫茲。
此外,LUMINEX也可以應用到Micro LED制程,目前已在40μmx80μm芯片的直接貼裝制程上達到4μm 3σ精度,同時也適用Micro LED封裝(MIP)應用。
K&S先前還宣布與LCD SMT解決方案提供商TSMT(臺灣地區(qū)表面黏著科技股份有限公司)合作,推進MiniLED背光和直顯應用。
10季華實驗室展示Micro LED巨量檢測系統(tǒng)
9月6日,在第二十四屆光博會上,季華實驗室展示了"Micro LED晶圓級光致發(fā)光巨量檢測系統(tǒng)"。
據(jù)介紹,"Micro LED晶圓級光致發(fā)光巨量檢測系統(tǒng)"相關技術能夠實現(xiàn)無損、非接觸式、高穩(wěn)定性、快速巨量檢測,是晶圓級檢測設備的核心單元。
近日,利亞德P0.9間距Micro LED電影屏(長3.8米,高2米)正式通過DCI權威認證,成為全球首塊影院級Micro LED產品。
據(jù)悉,利亞德通過DCI認證的Micro LED電影屏,采用Micro LED全倒裝晶片及封裝技術,色準、對比度、畫面均勻度等光學參數(shù)均符合電影工業(yè)級要求;一體化集成影院播放系統(tǒng),支持數(shù)字影院標準格式DCP;100000小時壽命,采用無機自發(fā)光原理。
此外,該Micro LED電影屏采用拼接箱體,模塊化運輸安裝,便捷易用,適用私宅影音室、客廳,商業(yè)影院VIP廳等各種場景。
12晶能首發(fā)硅襯底InGaN基三基色外延
近日,晶能光電發(fā)布12英寸硅襯底InGaN基紅、綠、藍全系列三基色Micro LED外延技術成果。
據(jù)晶能光電副總裁付羿博士介紹,大尺寸硅襯底Micro LED外延生長對GaN晶體質量、外延翹曲、外量子效率、光電一致性和InGaN紅光MQW等關鍵技術開發(fā)帶來了更嚴苛的挑戰(zhàn)。
此次12英寸硅襯底InGaN基紅、綠、藍三基色Micro LED產業(yè)化外延技術的發(fā)布,表明晶能光電利用其硅襯底GaN基LED技術不斷的創(chuàng)新迭代能力,已經初步攻克上述關鍵技術挑戰(zhàn),為后續(xù)技術和工藝的優(yōu)化和完善鋪平了道路。
總體來說,Micro LED在各方面遭遇的挑戰(zhàn),匯集起來就是個綜合性、循環(huán)性的問題,但目前供應鏈已持續(xù)解決當中,未來隨著技術的日益成熟,將為產業(yè)帶來更多的機會。
審核編輯:湯梓紅
-
led
+關注
關注
242文章
23277瀏覽量
660892 -
芯片
+關注
關注
455文章
50816瀏覽量
423663 -
國星光電
+關注
關注
3文章
318瀏覽量
17957 -
MicroLED
+關注
關注
30文章
620瀏覽量
38104
原文標題:Micro LED技術難破?國星、利亞德、晶能等放“大招”
文章出處:【微信號:weixin-gg-led,微信公眾號:高工LED】歡迎添加關注!文章轉載請注明出處。
發(fā)布評論請先 登錄
相關推薦
評論