0
  • 聊天消息
  • 系統(tǒng)消息
  • 評論與回復
登錄后你可以
  • 下載海量資料
  • 學習在線課程
  • 觀看技術視頻
  • 寫文章/發(fā)帖/加入社區(qū)
會員中心
創(chuàng)作中心

完善資料讓更多小伙伴認識你,還能領取20積分哦,立即完善>

3天內不再提示

500億!光刻膠巨頭將被收購

感知芯視界 ? 來源:集微網(wǎng)、芯榜 ? 作者:集微網(wǎng)、芯榜 ? 2023-06-26 10:28 ? 次閱讀

來源:集微網(wǎng)、芯榜,謝謝

編輯:感知芯視界

6月25日消息,據(jù)日媒報道,日本半導體設備制造商 JSR 昨日表示,該公司正在考慮一項由國家支持的日本產業(yè)革新投資機構(JIC)提出的收購提議,此舉對 JSR 和日本的半導體戰(zhàn)略都將產生重大影響。

報道稱,JIC 正在就以約 1 萬億日元(約502億元人民幣)的價格收購 JSR 進行談判,而 JSR 表示尚未作出任何決定,但董事會將在周一討論此事。JIC 計劃最早在今年與國內外反壟斷機構達成協(xié)議后提出要約收購,如果收購成功,JSR 最快將于 2024 年從東京證券交易所退市。

JSR 成立于 1957 年,成立之初是一家由日本政府支持的合成橡膠制造商?,F(xiàn)在該公司向全球芯片制造商供應光刻膠,其全球市占率達到 30%~40%,客戶包括三星、臺積電、英特爾等。

報道稱,為了收購 JSR,JIC 打算成立一家注冊資本達5000億日元的新公司,而瑞穗金融集團旗下的瑞穗銀行將提供 4000 億日元融資。瑞穗銀行拒絕置評。此外,JIC 計劃通過優(yōu)先股和多家銀行承銷的次級貸款籌集 1000 億日元。

日本經濟產業(yè)省 4 月曾表示,其目標是到 2030 年將日本制造的半導體銷售額增加兩倍,達到 15 萬億日元。

光刻膠世界領先者

JSR半導體材料源自日本,以光刻膠產品為核心,響應半導體行業(yè)需求四十余載

JSR自1979年4月開始銷售光刻膠以來,以滿足半導體行業(yè)的需求為宗旨,40多年來不斷的向全球客戶提供光刻材料、CMP材料和封裝材料。

JSR在致力于解決全球客戶問題的同時,半導體材料的銷售額也隨之穩(wěn)步增長。

JSR將繼續(xù)以在日本開發(fā)的技術為基礎,應對各種半導體工藝上的課題挑戰(zhàn),為半導體市場的增長做出重大貢獻。

EUV光刻膠,日本壟斷

目前,日本占據(jù)了全球9成左右的光刻膠市場份額。全球專利分布前十的公司,約有7成來自日本。其中,日本JSR和東京日化、信越化工掌握著EUV光刻膠的供應,富士膠片和住友化學也計劃將在2021年量產EUV光刻膠。

不過,目前全球光刻膠供應市場高度集中行業(yè)呈現(xiàn)寡頭壟斷格局,市場主要被日美公司壟斷。日本的東京應化、日本JSR、住友化學和美國杜邦公司占有全球69.4%的市場份額,其中,日本企業(yè)憑借,政策扶持來加大實現(xiàn)上下游協(xié)同發(fā)展,穩(wěn)居龍頭地位,因此國產化進程任重道遠。

*免責聲明:本文版權歸原作者所有,本文所用圖片、文字如涉及作品版權,請第一時間聯(lián)系我們刪除。本平臺旨在提供行業(yè)資訊,僅代表作者觀點,不代表感知芯視界立場。

今日內容就到這里啦,如果有任何問題,或者想要獲取更多行業(yè)干貨研報,可以私信我或者留言

審核編輯黃宇

聲明:本文內容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網(wǎng)站授權轉載。文章觀點僅代表作者本人,不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場。文章及其配圖僅供工程師學習之用,如有內容侵權或者其他違規(guī)問題,請聯(lián)系本站處理。 舉報投訴
  • 光刻膠
    +關注

    關注

    10

    文章

    317

    瀏覽量

    30240
收藏 人收藏

    評論

    相關推薦

    光刻膠清洗去除方法

    光刻膠作為掩模進行干法刻蝕或是濕法腐蝕后,一般都是需要及時的去除清洗,而一些高溫或者其他操作往往會導致光刻膠碳化難以去除。
    的頭像 發(fā)表于 11-11 17:06 ?455次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻膠</b>清洗去除方法

    一文看懂光刻膠的堅膜工藝及物理特性和常見光刻膠

    共讀好書關于常用光刻膠型號也可以查看這篇文章:收藏!常用光刻膠型號資料大全,幾乎包含所有芯片用光刻膠歡迎掃碼添加小編微信掃碼加入知識星球,領取公眾號資料
    的頭像 發(fā)表于 11-01 11:08 ?730次閱讀

    光刻膠的使用過程與原理

    本文介紹了光刻膠的使用過程與原理。
    的頭像 發(fā)表于 10-31 15:59 ?372次閱讀

    如何成功的烘烤微流控SU-8光刻膠?

    在微流控PDMS芯片加工的過程中,需要使用烘臺或者烤設備對SU-8光刻膠或PDMS聚合物進行烘烤。SU-8光刻膠的烘烤通常需要進行2-3次。本文簡要介紹SU-8
    的頭像 發(fā)表于 08-27 15:54 ?286次閱讀

    導致光刻膠變色的原因有哪些?

    存儲時間 正和圖形反轉在存儲數(shù)月后會變暗,而且隨著儲存溫度升高而加速。因為該類型光刻膠含有的光活性化合物形成偶氮染料,在 可見光譜的部分具有很強的吸收能力,對紫外靈敏度沒有任何影響。這種變色過程
    的頭像 發(fā)表于 07-11 16:07 ?579次閱讀

    光刻膠的硬烘烤技術

    根據(jù)光刻膠的應用工藝,我們可以采用適當?shù)姆椒▽σ扬@影的光刻膠結構進行處理以提高其化學或物理穩(wěn)定性。通常我們可以采用烘烤步驟來實現(xiàn)整個光刻膠結構的熱交聯(lián),稱為硬烘烤或者堅膜?;蛲ㄟ^低劑量紫外線輻照
    的頭像 發(fā)表于 07-10 13:46 ?869次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻膠</b>的硬烘烤技術

    光刻膠的一般特性介紹

    評價一款光刻膠是否適合某種應用需要綜合看這款光刻膠的特定性能,這里給出光刻膠一般特性的介紹。 1. 靈敏度 靈敏度(sensitivity)是衡量曝光速度的指標。光刻膠的靈敏度越高,所
    的頭像 發(fā)表于 07-10 13:43 ?669次閱讀

    光刻膠后烘技術

    后烘是指(post exposure bake-PEB)是指在曝光之后的光刻膠膜的烘烤過程。由于光刻膠膜還未顯影,也就是說還未閉合,PEB也可以在高于光刻膠軟化溫度的情況下進行。前面的文章中我們在
    的頭像 發(fā)表于 07-09 16:08 ?1408次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻膠</b>后烘技術

    光刻膠的圖形反轉工藝

    圖形反轉是比較常見的一種紫外光刻膠,它既可以當正使用又可以作為負使用。相比而言,負工藝更被人們所熟知。本文重點介紹其負
    的頭像 發(fā)表于 07-09 16:06 ?652次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻膠</b>的圖形反轉工藝

    光刻膠的保存和老化失效

    我們在使用光刻膠的時候往往關注的重點是光刻膠的性能,但是有時候我們會忽略光刻膠的保存和壽命問題,其實這個問題應該在我們購買光刻膠前就應該提出并規(guī)劃好。并且,在
    的頭像 發(fā)表于 07-08 14:57 ?987次閱讀

    在被超60美元收購后,日本光刻膠巨頭JSR尋求擴大規(guī)模

    在被超60美元收購后,日本光刻膠巨頭JSR積極尋求擴大規(guī)模,以適應全球芯片制造行業(yè)的快速發(fā)展。
    的頭像 發(fā)表于 04-29 14:37 ?749次閱讀

    關于光刻膠的關鍵參數(shù)介紹

    與正光刻膠相比,電子束負光刻膠會形成相反的圖案?;诰酆衔锏呢撔?b class='flag-5'>光刻膠會在聚合物鏈之間產生鍵或交聯(lián)。未曝光的光刻膠在顯影過程中溶解,而曝光的光刻膠
    的頭像 發(fā)表于 03-20 11:36 ?2586次閱讀
    關于<b class='flag-5'>光刻膠</b>的關鍵參數(shù)介紹

    光刻膠光刻機的區(qū)別

    光刻膠是一種涂覆在半導體器件表面的特殊液體材料,可以通過光刻機上的模板或掩模來進行曝光。
    的頭像 發(fā)表于 03-04 17:19 ?4730次閱讀

    瑞紅集成電路高端光刻膠總部落戶吳中

    據(jù)吳中發(fā)布的最新消息,簽約項目涵蓋了瑞紅集成電路高端光刻膠總部項目,該項投資高達15元,旨在新建半導體光刻膠及其配套試劑的生產基地。
    的頭像 發(fā)表于 01-26 09:18 ?542次閱讀

    光刻膠分類與市場結構

    光刻膠主要下游應用包括:顯示屏制造、印刷電路板生產、半導體制造等,其中顯示屏是光刻膠最大的下游應用,占比30%。光刻膠在半導體制造應用占比24%,是第三達應用場景。
    發(fā)表于 01-03 18:12 ?1333次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻膠</b>分類與市場結構