智能手機(jī)、平板、電腦等高分辨率顯示產(chǎn)品的快速發(fā)展,促使整個(gè)行業(yè)對(duì)高性能顯示器的需求不斷增加,基于Micro-LED的顯示技術(shù)開始慢慢走進(jìn)人們的視野。基于Micro-LED的顯示技術(shù)除了巨量轉(zhuǎn)移、全彩顯示、驅(qū)動(dòng)電路及壞點(diǎn)檢測(cè)與修復(fù)外,單個(gè)器件較低的發(fā)光效率也是目前亟需解決的問題之一。因此,天津賽米卡爾科技有限公司技術(shù)團(tuán)隊(duì)基于TCAD仿真平臺(tái)開發(fā)了具有傾斜臺(tái)面的GaN基Micro-LED的多種模型數(shù)據(jù)庫,并系統(tǒng)地研究了傾斜角度對(duì)器件光電性能的影響。如圖1所示,研究結(jié)果發(fā)現(xiàn):臺(tái)面的傾斜角度越小,器件的光提取效率會(huì)得到一定程度的改善。
圖1(a)Device 1和(b)Device 5的2D電場(chǎng)分布圖;(c)Device 1和Device 5在Y= -2.5 μm處的1D電場(chǎng)分布圖;(d)Device 1至Device 5的光提取效率
除此之外,臺(tái)面的傾斜角度也會(huì)對(duì)器件的電學(xué)性能產(chǎn)生影響,如圖2所示,這主要體現(xiàn)在兩個(gè)方面:一是傾斜的臺(tái)面會(huì)造成側(cè)壁區(qū)域的電場(chǎng)增加,導(dǎo)致邊緣區(qū)域的量子阱中量子限制斯塔克響應(yīng)增強(qiáng),從而降低器件的有效輻射復(fù)合效率;二是臺(tái)面的傾斜角度越大,載流子向臺(tái)面邊緣擴(kuò)展的趨勢(shì)越明顯,從而導(dǎo)致載流子被側(cè)壁缺陷捕獲的可能性增加,器件性能變差。因此,合理地設(shè)計(jì)GaN基Micro-LED器件的臺(tái)面傾斜角度對(duì)器件的光電性能尤為重要。
圖2(a)各器件內(nèi)部橫向的電場(chǎng)分布,(b)Device 1和(c)Device 5邊緣區(qū)域量子阱中的能帶圖,(d)各器件的非輻射復(fù)合電流隨外加電流密度的變化曲線。其中Device 1/Ⅰ, 2/Ⅱ, 3/Ⅲ, 4/Ⅳ和5/Ⅴ的臺(tái)面傾斜角度分別為45°,53°,63°,79°和90°
該成果最近被應(yīng)用物理及光學(xué)領(lǐng)域權(quán)威SCI期刊Optics Express (vol. 30, no. 21, pp. 37675-37685, 2022) 收錄。
審核編輯:湯梓紅
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