近日,據(jù)外媒路透社報道稱,全球最先進(jìn)的光刻機(jī)生產(chǎn)廠商ASML正致力于進(jìn)行新一代光刻機(jī)的制造,預(yù)計第一臺會在明年完工,將在2025能夠正式投入使用,每臺新光刻機(jī)售價預(yù)計在4億美元左右。
新光刻機(jī)采用了High-NA光刻技術(shù),High-NA指的是高數(shù)值孔徑,據(jù)了解,這種High-NA光刻技術(shù)能降低66%的尺寸,也就意味著芯片制程能夠進(jìn)一步得到升級,芯片也將獲得更高的性能,2nm之后的技術(shù)都得用這種技術(shù)來實(shí)現(xiàn)。High-NA光刻技術(shù)被認(rèn)為是延續(xù)摩爾定律的關(guān)鍵。
不過采用了High-NA光刻技術(shù)的光刻機(jī)體積會比之前的光刻機(jī)要大30%左右,據(jù)悉重量會達(dá)到200噸,大小將會和雙層巴士差不多大。
目前AMSL在High-NA光刻技術(shù)上還有一些壓力,因為雖然光刻機(jī)是ASML生產(chǎn)的,但是ASML有著幾百家零件供應(yīng)商,對供應(yīng)商的依賴性比較嚴(yán)重,所以一旦供應(yīng)鏈出了問題,那么ASML的整個光刻機(jī)產(chǎn)業(yè)鏈都將受到影響。
綜合整理自 DeepTech深科技 中關(guān)村在線 IT之家
審核編輯 黃昊宇
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