中國有望獨(dú)立生產(chǎn)EUV光刻機(jī),打破ASML壟斷

ASML對光刻機(jī)的壟斷

一提起ASML這家公司，就少不了對光刻機(jī)問題的討論，因?yàn)榻刂聊壳埃珹SML仍然是全球最領(lǐng)先的光刻機(jī)廠商。普通的DUV光刻機(jī)就不多說了，ASML每年都能賣出去很多臺，而在更先進(jìn)的EUV光刻機(jī)方面，ASML更是占據(jù)了絕對壟斷的地位。

EUV與DUV光刻機(jī)最大的區(qū)別就在于前者使用的光源是極紫外光，而后者的光源就比較普通了，為深紫外光?？赡芎芏嗳硕疾幻靼讟O紫外光和深紫外光到底有什么不同，如果從實(shí)際應(yīng)用的角度來看，由極紫外光刻機(jī)生產(chǎn)出來的芯片要比深紫外光刻機(jī)更高端。

舉個簡單的例子，在如今的半導(dǎo)體行業(yè)，7nm和5nm 制程的芯片代表著最高工藝水平，而要想成功量產(chǎn)出這兩款芯片，必須得到EUV光刻機(jī)的支持。換而言之，ASML制造出的EUV光刻機(jī)是生產(chǎn)7nm和5nm，甚至是3nm芯片的核心設(shè)備，無法被代替。

正因于此，對于全球的芯片制造產(chǎn)業(yè)來說，ASML扮演著一個非常重要的角色。如果未來某天ASML無法再保證DUV或者是EUV光刻機(jī)的正常供應(yīng)，那么像臺積電、三星等世界頂尖的芯片代工廠都會受到不利的影響，半導(dǎo)體行業(yè)的發(fā)展也會陷入瓶頸。

作為人類能生產(chǎn)出的最頂尖的機(jī)器設(shè)備，光刻機(jī)的重要性已經(jīng)不需要再多說了，ASML僅憑這一項(xiàng)業(yè)務(wù)就能在半導(dǎo)體市場站穩(wěn)腳跟，并且還享有很大的話語權(quán)。尤其是在我們國內(nèi)市場，國產(chǎn)芯片之所以遲遲無法崛起，就是因?yàn)槿鄙俟饪虣C(jī)的支持。

雖然國內(nèi)也有一家光刻機(jī)廠商，名為上海微電子，但是目前它能生產(chǎn)出的最先進(jìn)的光刻機(jī)精度只有22nm，與ASML相比還有一定的差距。所以就如今的情況來看，如何突破到更高精度的光刻機(jī)，是國內(nèi)芯片事業(yè)實(shí)現(xiàn)自主化目標(biāo)的首要問題。

清華大學(xué)正式宣布好消息

光刻機(jī)的精度主要取決于光源的波長和功率，這意味著只要國內(nèi)攻克了極紫外光技術(shù)，就很有可能獨(dú)立生產(chǎn)出EUV光刻機(jī)，打破ASML的壟斷。那么現(xiàn)在國內(nèi)有沒有可能掌握極紫外光技術(shù)呢？答案是肯定的！

2月25日，據(jù)國內(nèi)最新消息顯示，ASML也沒料到，關(guān)于光刻機(jī)問題，清華大學(xué)正式宣布好消息！據(jù)了解，在經(jīng)過長時間的刻苦鉆研后，清華大學(xué)的研發(fā)團(tuán)隊(duì)在新型加速器光源“穩(wěn)態(tài)微聚束”領(lǐng)域取得了重大突破，或許能幫助國產(chǎn)公司攻克極紫外光的難題！

所謂的加速器光源指的就是，光子通過加速可以實(shí)現(xiàn)從太赫茲到極紫外光之間不同的波長，可以為光刻機(jī)的研究提供最基本的技術(shù)支持。只要光源問題徹底解決了，那么國內(nèi)的光刻機(jī)研究就會邁向下一個階段，國產(chǎn)EUV光刻機(jī)的誕生也不只是說說而已。

毫無疑問，對于國產(chǎn)芯片事業(yè)而言，清華大學(xué)宣布的這項(xiàng)技術(shù)成果是一個非常好的消息，如果運(yùn)用得當(dāng)，將成為國內(nèi)芯片產(chǎn)業(yè)全面崛起的“催化劑”。而ASML對此肯定高興不起來，它也沒料到，國產(chǎn)光刻機(jī)和光源技術(shù)能取得這么大的進(jìn)步。

從清華大學(xué)的突破中不難看出，如今國內(nèi)對芯片和半導(dǎo)體行業(yè)的重視程度非常高，無論是眾多國產(chǎn)企業(yè)還是各大研究機(jī)構(gòu)，都投身到了這項(xiàng)偉大的事業(yè)中。相信將來不僅僅是清華大學(xué)，會有越來越多的好消息傳來，國產(chǎn)芯片的崛起不只是一個夢想！

寫在最后

雖然EUV光刻機(jī)的難度超出了普通人的想象，而且常年被ASML壟斷，別的公司或國家根本不了解其核心技術(shù)，但是在國內(nèi)不斷地努力下， 再難的技術(shù)都會被攻克，EUV光刻機(jī)也不例外。等到那個時候，ASML將徹底失去優(yōu)勢地位，國產(chǎn)光刻機(jī)會讓全世界刮目相看！
責(zé)任編輯:tzh