AMD將是首家采用7nm工藝的企業(yè) 將大步領先于Intel

　　工藝制程的進步是摩爾定律的關鍵一環(huán)，目前商用的最先進是10nm，下一個關鍵節(jié)點是7nm，后者將宣告半導體正式邁進入10nm階段。

　　據EE Times報道，AMD CTO Mark Papermaster近日接受了采訪，他表示，AMD將是第一批采用7nm工藝的企業(yè)。

　　Mark認為，7nm是一個可以長期演進的工藝，就和當年的28nm一樣，所以Zen2和Zen3都會采用。

　　即便在制程的線寬方面三星、Intel、臺積電口水頗多，但7nm領先10nm應該還是確定無疑的事情，Intel將有可能迎來歷史上稍有的工藝不占優(yōu)勢的時代。

　　同時，工程團隊也能花費更多的精力在芯片的微架構和系統解決方案。

　　Mark并沒有透露AMD的7nm是否來自GF，但目前的確GF和臺積電度最快。他還透露，EUV（極紫外光刻）技術最早引入的時間預計在2019年。

　　Intel的10nm年底才能見到，而且也要和14nm一樣至少用3代。從這個角度看，Intel的7nm肯定不會早于AMD了。Intel 10nm工藝初期應該也上不去高頻，很大概率還是要用14nm撐過2018。