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稀磁半導體（Diluted Magnetic Semiconductors，DMS）是指利用3d族磁性過渡金屬或非金屬離子以一定的比例替代半導體中的部分非磁性陽離子而形成的新型半導體材料。由于摻入的雜質濃度一般不高，因而表現出的磁性通常比較弱，所以被稱為稀磁半導體。因為其磁性與半導體特性共存的特點，可以同時利用電子的自旋屬性和電荷屬性，逐漸成為科學界的研究熱點。
近年來，人們對稀磁半導體的研究已經有了一定的進展。自從2000年Dietl‘‘1預測出寬禁帶的GaN和Zn0基稀磁半導體具有室溫鐵磁性后，陸續(xù)有多種3d金屬摻雜Zn0材料被報道具有高于室溫的居里溫度。Ueda發(fā)現在Co摻雜Zn0薄膜中加入Al元素可以提高其居里溫度。Jayakumar凹制備出了具有室溫鐵磁性的Mn摻雜Zn0納米晶體。然而對于稀磁半導體材料磁性的起源，學術界仍有很大的爭議。有文獻曾對于Co，Mn單摻雜Zn0和共摻雜Zn0進行了一定的研究，但都沒有考慮不同的摻雜位置對體系的影響。本文運用第一性原理研究方法從不同的摻雜位置分別討論Co摻雜Zn0，Mn摻雜Zn0，以及Co，Mn共摻雜Zn0的性質，旨在討論不同構墅下其理論居里溫度及磁性起源。
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