企業(yè)號介紹

全部
  • 全部
  • 產品
  • 方案
  • 文章
  • 資料
  • 企業(yè)

伯東企業(yè)(上海)有限公司

上海伯東是德國Pfeiffer 全系列真空產品,美國 KRI 離子源,美國HVA 真空閥門,美國 inTEST熱流儀代理商

172 內容數(shù) 7w 瀏覽量 3 粉絲

銷售維修普發(fā)渦輪分子泵 HiPace 2300

型號: HiPace 2300

--- 產品參數(shù) ---

  • 品牌 德國 Pfeiffer
  • 產地 德國

--- 產品詳情 ---

因產品配置不同, 價格貨期需要電議, 圖片僅供參考, 一切以實際成交合同為準
上海伯東銷售維修 Pfeiffer 普發(fā)渦輪分子泵 HiPace 2300, 抽速最高可達 2050 l/s 高性能渦輪分子泵. 分子泵通過保護等級 IP54 認證. 高抽速和氣體吞吐量. 集成驅動電路, 適用于半導體, 鍍膜, 工業(yè)和研發(fā)行業(yè). 通過分子泵控制器, 監(jiān)控操作數(shù)據(jù)保證分子泵的安全性. 集成水冷系統(tǒng). 分子泵 HiPace 2300 提供防腐蝕款 C 和倒置款 U 供選擇.

渦輪分子泵 HiPace 2300 特性

對各種氣體的高抽吸能力: 不論是小分子量氣體 (H2, He) 和大分子量氣體 (Ar, CF4) 都有很高的抽速.
高工藝適用性, 防止進入顆粒, 高氣流量
分子泵獲得 SEMI S2, UL, CSA, TüV 認證
防護等級 IP 54, 符合工業(yè)環(huán)境應用要求
運行數(shù)據(jù)監(jiān)控形成的運行安全性
分子泵安裝角度可選 0-90° 或 90-180°
提供抗腐蝕型號
帶節(jié)流閥和閥門的集成凈化氣體系統(tǒng)

 


Pfeiffer 渦輪分子泵 HiPace 2300 技術參數(shù)

 型號

HiPace 2300 TC 1200
DN 250 ISO-K

HiPace 2300 TC 1200
DN 250 ISO-F

HiPace 2300 TC 1200
DN 250 CF-F

 Ar 壓縮比

>1X108

>1X108

>1X108

 H2 壓縮比

2X104

2X104

2X104

 He 壓縮比

3X105

3X105

3X105

 N2  壓縮比

>1X108

>1X108

>1X108

最大預抽真空, N2 hPa

1.8

1.8

1.8

 Ar全轉速時氣體流量hPa l/s

16

16

8

 H2 全轉速時氣體流量hPa l/s

>50

>50

30

 He全轉速時氣體流量hPa l/s

>30

>30

16

 N2 全轉速時氣體流量hPa l/s

28

28

11

 操作電壓 V AC

90-265

90-265

90-265

最大電流 A

10

10

10

 允許最大磁場 mT

7

7

7

 Ar抽速l/s

1800

1800

1800

 H2 抽速l/s

1850

1850

1850

 He 抽速 l/s

2000

2000

2000

 N2 抽速l/s

1900

1900

1900

 轉速 ± 2 % rpm

31500

31500

31500

 啟動時間 min

4

4

4

 極限真空 hPa

1X10-7

1X10-7

5X10-10

 重量 kg

35.5

36.6

51.8


 

渦輪分子泵 HiPace2300抽氣能力



 

渦輪分子泵 HiPace 2300 尺寸




 

渦輪分子泵應用


上海伯東德國 Pfeiffer 渦輪分子泵 HiPace 2300 適用于半導體, 鍍膜, 工業(yè)和研發(fā)行業(yè).
若您需要進一步的了解分子泵詳細信息, 請聯(lián)絡上海伯東葉女士 分機 107

現(xiàn)部分品牌誠招合作代理商, 有意向者歡迎聯(lián)絡上海伯東 葉女士
上海伯東版權所有, 翻拷必究!

為你推薦

  • Aston Impact 高靈敏度質譜分析儀 CVD 清洗終點優(yōu)化2024-10-18 13:42

    上海伯東日本 Atonarp Aston Impact 高靈敏度質譜分析儀, 基于四級桿的質量分離, Aston 質譜分析儀設計緊湊, 適用于氣體分析和過程氣體監(jiān)測, 滿足半導體工藝過程中, 沉積, 刻蝕, 光刻等氣體分析.
  • Aston 質譜儀等離子體刻蝕過程及終點監(jiān)測2024-10-18 13:33

    刻蝕是半導體制造中最常用的工藝之一, 上海伯東日本 Atonarp Aston 質譜儀適用于等離子體刻蝕過程及終點監(jiān)測 (干法刻蝕終點檢測), 通過持續(xù)監(jiān)控腔室工藝化學氣體, 確保半導體晶圓生產的高產量和最大吞吐量.
  • Aston 質譜分析儀搭配 Scrubber 半導體尾氣處理設備進行氣體檢測2024-10-18 13:24

    半導體工藝一般會產生各種工藝氣體和顆粒材料副產品, 有害氣體需要以受控方式進行處理. 上海伯東日本 Atonarp Aston 質譜分析儀與 Scrubber 半導體尾氣處理設備聯(lián)用, 對處理完的氣體在線監(jiān)測分析, 并對分析數(shù)據(jù)進行監(jiān)控和記錄, 使其符合環(huán)境法規(guī).
  • 鈮酸鋰 LiNbO3 薄膜 IBE 離子束刻蝕2024-09-13 10:59

    隨著基于鈮酸鋰 LN 的光源, 光調制, 光探測等重要器件的實現(xiàn), 鈮酸鋰 LN 光子集成芯片有望像硅基集成電路一樣, 成為高速率, 高容量, 低能耗光學信息處理的重要平臺, LiNbO3 薄膜刻蝕成特定的圖形才能用于芯片, 因 LiNbO3 惰性特性, 使用 ICP 或 RIE 工藝無法完成刻蝕, 上海伯東 IBE 離子束刻蝕機為鈮酸鋰 LiNbO3 薄膜刻蝕提供解決方案
    295瀏覽量
  • 美國 Gel-Pak 應用于 VCSEL 芯片生產2024-09-13 10:28

    上海伯東美國 Gel-Pak 提供 VCSEL 芯片生產使用的 DGL 膠膜和真空釋放托盤
    252瀏覽量
  • 美國進口 KRi 考夫曼離子源 KDC 160 硅片刻蝕清潔案例2024-09-13 10:10

    上海伯東美國 KRi 大尺寸考夫曼離子源 KDC 160 適用于 2-4英寸的硅片刻蝕和清潔應用, KRi KDC 160 是直流柵網離子源, 高輸出離子束電流超過 1000mA. 高功率光束無需對離子源進行水冷卻即可實現(xiàn). KDC 160 配備了雙燈絲. 在標準配置下, KDC 160 典型離子能量范圍為 100 至 1200eV, 離子電流可超過 800mA.
    227瀏覽量
  • inTEST 熱流儀車載顯示器高低溫光學測量應用2024-09-12 14:17

    通過美國 inTEST ATS-545 熱流儀給車載顯示器升溫或降溫, 測量其在不同溫度下任意點的光學特性, 實現(xiàn)高低溫環(huán)境 -40 至 100℃ 下產品的亮度, 色度, 響應時間和可視角度測試.
  • HiCube 80 Eco 分子泵組搭配低溫阻抗測試儀應用2023-12-08 14:29

    上海伯東代理德國 Pfeiffer 渦輪分子泵組 HiCube 80 Eco 成功應用于低溫阻抗測試系統(tǒng), 分析電子元器件在低溫環(huán)境下電阻的變化.
    291瀏覽量
  • SF6 密度繼電器氦質譜檢漏法2023-12-08 14:21

    應用于各類電廠, 變電站, 電氣化鐵道等行業(yè)的 SF6 六氟化硫密度繼電器, 通過監(jiān)測密封容器中的 SF6 氣體的密度, 診斷出電氣設備中 SF6 氣體的泄漏, 防止因為 SF6 氣體密度的下降而導致其電氣絕緣能力的下降. 嚴重時會發(fā)生閃絡擊穿, 威脅人身設備安全.
  • 新能源汽車 IGBT 功率器件高低溫沖擊測試2023-12-01 15:48

    車用 IGBT 模塊對產品性能和質量的要求要明顯高于消費和工控領域, 需要通過嚴格的車規(guī)認證, 汽車 IGBT 模塊測試標準主要參照 AEC-Q101 和 AQG-324, 其中溫度沖擊, 功率循環(huán), 溫度循環(huán), 結溫等是其中重要的測試要求, 功率循環(huán)和溫度循環(huán)作為代表的耐久測試, 測試循環(huán)次數(shù)可能從幾萬次到十萬次不等.
    564瀏覽量