半導(dǎo)體晶圓膜厚檢測
型號(hào):
XMSEMI-OPTM
技術(shù)點(diǎn):
1.設(shè)備功能:
? 自動(dòng)膜厚測試機(jī)EFEM,搭配客戶OPTM測量頭,完成晶圓片自動(dòng)上料、膜厚檢測、分揀下料;
2.工作狀態(tài):
? 晶圓尺寸8/12 inch;
? 晶圓材質(zhì):Sapphire、LT/LN(含透明和非黑化基板)、Si 、 SiC;
? 客戶端OPTM測量頭,設(shè)備尺寸556(W)×566(D)×618(H)mm,單次檢測C/T約20s;
? 需要根據(jù)OPTM反饋測量結(jié)果對測試晶圓片進(jìn)行OK/NG分選;
3.滿足需求:
? 設(shè)備可滿足8/12 inch晶圓膜厚檢測的自動(dòng)上料、分選;
? 設(shè)備PA和Mapping Sensor要求兼容透明及半透明材質(zhì)Wafer;
? 設(shè)備Port4個(gè),Port形式為OC,每個(gè)Port可兼容8/12inch Cassette,其中一個(gè)Port作為NG下料使用,
位置可根據(jù)需要自由設(shè)定;
? 設(shè)備整體潔凈度1000 class;
optm檢測頭: